8通道光学薄膜宽带监控装置

本文给出了一台８通道宽带薄膜监控装置的研制结果．该装置有３２个检测波长可供选择，能同时检测８个波长处的实时信号，可用于光学薄膜的宽带监控，在镀膜工艺自动化研究中取得较好的效果．     

等离子辅助镀光学薄膜的研究

研究用等离子辅助镀技术,制备3种氧化物光学薄膜,透射光谱实验表明,该薄膜透明度好,吸收损耗小,具有优良的光学特性,经表面形貌探讨,说明等离子辅助镀技术可得到较为致密平整的薄膜,而新型等离子体源,能有效地改善光学薄膜的特性,具有实际应用的价值。     

半导体激光器端面镀膜厚度的有效监控

行波式半导体激光放大器在未来光通讯系统中是极为重要的.研究表明,为实现行波放大,端面剩余反射率需低于1×10~(-3),这就需要在半导体激光器两端面(解理面)镀高效减反射膜,使其转变成激光放大器.而半导体激光器端面积仅10~(12)m~2量级,有源区的有效折射率又是一个不大容易确定的参数,要在这种器件上镀制高性能的     

光学薄膜镀制技术的对比研究

本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。     

对光学薄膜反射率的讨论

文章从多光束干涉的理论出发，介绍了光学薄膜的反射率并对其进行简单分析，进而说明光学薄膜作为增反膜（增透膜）应满足的条件，最后还给出了光学薄膜反射率与入射光波长之间的曲线关系。     

光学薄膜的反应离子镀概述

<正> 光学薄膜反应离子镀技术是近10年来镀膜技术的最新突破,也是当今国际薄膜界研究的热点。本文以简明扼要的方式报道了作者对反应离子镀技术的最新研究成果。1 原理与实验装置光学薄膜反应离子镀技术是传统     

等离子体镀光学薄膜的数学模型

从电离气体等离子体的基本性质入手,分析了处于等离子体中的基片表面鞘层及基片悬浮电位的形成,计算了正离子进入势垒到达基片的条件、基片的悬浮电位、到达基片的正离子流的密度,以及入射基片的正离子的能量,从而建立起等离子体镀光学膜的数学模型。     

四辊液压轧机厚度预控和监控系统

在四辊液压轧机位置闭环系统动态分析的基础上 ,分析厚度预控和监控的功能、组成数字控制器的设计方法 ,以及微机实现的具体方案 .将其应用到Φ(2 1 0～ 5 0 0 )mm× 80 0mm四辊液压轧机上 ,使轧机具有较强的消差能力 ,并使出口带材能锁定在要求的目标尺寸上 .     

激光与光学薄膜的相互作用机制

应用激光与光学薄膜作用产生的等离子体形貌,研究了该作用过程和机理,实验结果与之吻合。     

我国光学薄膜技术的现状与展望

光学薄膜技术作为一门独立的学科,近年来获得较大幅度的进展,应用范围日益广泛。它的发展与不少尖端科学息息相关。本文总结我国光学薄膜技术在膜系设计理论、材料、制备方法及工艺、各种光学薄膜元件、膜层结构研究及测试方面的现状及最新成就,并在此基础上提出我国光学薄膜技术发展的方向和具体建议。     

干涉膜厚度的研究

对普通单色光源照射下干涉膜厚度超过一定限度不产生干涉现象的原因作了多方面分析，并从实验和理论两方面给出了能产生干涉现象的膜厚度的量值。     

特种光学薄膜镀制技术通过鉴定

由我校电子工程与光电技术学院院长常本康教授主持研制的“特种光学薄膜镀制技术——高性能多碱光电阴极工艺及其监控技术研究”成果，于元月25日通过专家组鉴定，专家组由中国科学院院士、北京大学吴全德教授任主任委员，有北京大学等10个单位，15位专家组成，该课题是兵器科学研究院下达给南京理工大学的预研项目。     

PDMS-Fe_3O_4复合光学薄膜的制备及特性研究

综合研究了PDMS-Fe_3O_4复合光学薄膜的制备方案,并针对PDMS-Fe_3O_4复合光学薄膜的特性进行分析。PDMS-Fe_3O_4复合光学薄膜制备过程使用的试剂主要有乙酸镧、乙酸锶、乙酸锰、乙酰丙酮、去离子水、丙酮,通过制造PDMS湿膜、增加薄膜厚度、旋涂40s、退火炉升温四步完成制备。通过分析发现经过高温退火可以有效提高PDMSFe_3O_4复合光学薄膜的电容,但是过高的退火温度会导致薄膜电容急剧下降,同时也会急剧增加介电损耗,因此需要在薄膜的表面额外旋涂一层PDMS覆盖层,再进行高温退火处理。     

兔角膜中央厚度与角膜上皮厚度的相关研究

目的:探讨兔的角膜上皮厚度在A型超声下与共焦下测量结果的相关性,及表麻药对角膜上皮的作用。方法:分析左右眼之间的统计学差别后,将20只兔子随机分为两组,一组滴用表麻药为实验组,另一组点用平衡液作为对照组,分析表麻药对角膜上皮的影响;最后将对照组用同样方法处理后,将40只眼的角膜上皮在A超下与共焦下的测量值进行统计学分析。结果:(1)兔的眼别与角膜中央厚度的测量差异无统计学意义;(2)滴用倍诺喜表麻液与滴用平衡液两组差异有统计学意义;(3)A超下测量角膜中央厚度与角膜上皮厚度,二者呈正相关;(4)A超下与共焦下的测量的角膜上皮厚度呈正相关。结论:倍诺喜表麻液会使角膜上皮厚度增加,可使角膜上皮的松解,可以缩短乙醇浸泡角膜上皮的时间;A超下测量角膜中央厚度越厚,其角膜上皮厚度越厚;A超下测量角膜上皮越厚,其共焦下测量角膜上皮也越厚。     

考虑仓面实时监控厚度影响的堆石坝仓面施工仿真

传统大坝施工仿真将仓面碾压施工简化为单一的、确定的过程,主要通过调整机械配置以达到较为理想的施工进度.然而实际施工过程受到多种因素影响,例如碾压机的行驶状态和铺料、压实厚度等参数,均难以用设计阶段的施工参数进行仿真过程描述.基于此,本文提出了考虑仓面实时监控厚度影响的堆石坝仓面施工仿真方法.首先,对仓面实时监控获取的碾压机施工参数和仓面铺料厚度进行分析,获得其参数分布规律,作为仿真施工参数,并结合离散时间仿真方法和改进的Monte Carlo随机抽样方法建立了心墙堆石坝仓面施工仿真模型;其次,建立了碾压参数与压实厚度之间的数学关系,并根据仿真中仓面模拟的铺料厚度和碾压情况得出仿真中仓面的压实厚度;最后,建立基于仓面厚度影响的堆石坝仓面施工仿真的数学模型,并以中国西南某在建心墙堆石坝为例,进行施工仿真.仿真结果表明,本方法与实际施工进度偏差为3.59%,,与传统施工仿真偏差为7.90%,,二者相比,本方法能够更加真实地反映现场实际施工进度,通过对比分析,不考虑仓面厚度会对施工进度造成4.90%,的影响,因此仓面厚度对施工进度造成的影响不可忽视.本文提出的优化仿真模型能够为现场施工进度分析、工程决策和施工管理提供技术支持.     

Z_rO_2光学薄膜的激光热冲击效应

计算了薄膜在高功率脉冲激光作用下截面温度场和应力分布场 .分析了热冲击在光学薄膜激光损伤中的作用,并用调 Q 1. 06μ m脉冲激光对 Z_rO_2单层薄膜损伤,讨论了不同激光强度下薄膜截面温度场与应力场分布,揭示了热冲击在 Z_rO_2单层膜损伤中的机理和过程 .     

薄膜拉伸厚度控制的研究

双向拉伸厚度控制是薄膜生产的核心技术。控制方式很多,如X-射线控制、γ-射线控制和Pm-147射线控制等。本文对双拉厚度控制的机理进行深入分析,对影响厚度的关键因素进行探讨并提出具体解决方案。     

水热法制备高折射率的HfO2光学薄膜

采用水热合成技术制备了HfO2胶体，用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜．采用多种仪器设备对薄膜进行性能测试和表征，并用输出波长为1．06μm、脉宽为10ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试薄膜的激光损伤阈值．研究表明，水热合成技术制备的HfO2薄膜具有较高的激光损伤阈值、折射率和较好的平整度．对HfO2薄膜激光损伤形貌和成因进行了研究．