有机聚合物薄膜光波导传输损耗的测量方法

文章综述了测量非线性光学(NLO)聚合物薄膜材料光波导传输损耗的三种新方法及原理,分别给出了典型的实验装置结构图,并对它们的特点进行了比较。     

测量NLO聚合物薄膜光波导传输损耗的方法

本文综述了测量非线性光学（NLO）聚合物薄膜材料光传输损耗的4种常用的方法及原理,并分别给出了典型的实验装置结构图,最后对这些方法的特点进行了比较。     

聚合物复合薄膜DR13/PMMA的制备及其光学特性

薄膜的厚度、折射率和传输损耗等参数在电光系数的确定和光波导器件的设计和制作过程中都是重要的参考数据。采用旋涂法制备了三种不同质量比的偶氮化合物染料分散红13(DR13)与聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合薄膜;利用分光光度计测量样品的吸收光谱;利用棱镜耦合仪测量了薄膜的厚度和折射率,并对不同波长下的折射率进行拟合得到折射率色散曲线;采用视频摄像技术研究样品的光传输特性,利用自己编写的计算机程序来处理其实验结果。DR13/PMMA复合薄膜在300nm和500nm处有两个大的吸收峰,而在其他波段,尤其是在通信波段没有明显吸收。薄膜的膜厚大约为1~2μm,其折射率随着质量比的增加而增大,随着激光波长的增大而降低,膜厚和折射率的误差分别为3.2×10-1μm和1.5×10-3。三种质量比(10%,15%和20%)的薄膜传输损耗分别为1.5269dB/cm,2.7601dB/cm和3.6291dB/cm,可以看出随着DR13质量比的增大,光传输损耗也逐渐增大,即DR13的含量对于传输损耗的影响较大。     

有机聚合物光波导传输损耗测量方法的改进

本文介绍了一种用于测量有机聚合物光波导传输损耗的方法一液体耦合法[1].该方法针对传统滑动棱镜法[2]在实验操作、测量精度方面的不足,利用折射率高于波导芯层的液体取代输出棱镜,实现与导波光的耦合,并以TLC2543 AD芯片为核心制作数据采集卡对光强信号进行采集,拟合出光强传输衰减曲线.与传统的方法相比,该波导损耗测量系统具有测量简便,结果准确等优点,具有良好的推广价值.     

反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究

Veprek等报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80～105GPa的Ti-Si-N薄膜，令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果，但大量研究。表明，在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si，形成以Si2N4界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途     

4H-SiC纳米薄膜的晶化研究

采用新电极结构的PECVD技术，在高功率密度、高氢稀释比、低温、偏压及低反应气压的条件下，在SiO2玻璃表面形成双等离子流，增加了SiO2表面SiC的成核几率，增强成核作用，形成纳米晶。采用高H2等离子体刻蚀弱的、扭曲的、非晶Si-C及Si-Si和Si-H等键时，由于H等离子体对纳米SiC晶粒与非晶态键的差异刻蚀作用，产生自组织生长，发生晶化。Raman光谱和透射电子衍射（EM）的测试结果表明，纳米晶SiC是4H-SiC多型结构。实验结果指出，SiC纳米晶的形成必须经过偏压预处理成核，并且其晶化存在一个功率密度阈值；当低于这一功率密度阈值时，晶化消失；当超过这一阈值时，纳米晶含量随功率密度的提高而增加，晶粒尺寸加大。电子显微照片表明晶粒尺寸为10-28nm，形状为微柱体。随着晶化作用的加强，电导率增加，导电机理是渗流作用所致。     

纳米晶SnO2气敏薄膜的制备与表征

以Ｓｎ（ＯＨ）４水合胶体为原料,采用溶胶－凝胶方法在Ｓｉ片上制备了ＳｎＯ２纳米晶薄膜,利用差热、热重、Ｘ光衍射以及原子力显微镜对薄膜的合成以及特性进行了分析,结果表明：在６００℃条件下烧结结晶的纳米晶薄膜表面平整,具有金红石结构,平均粒度在１０ｎｍ左右。以该薄膜为敏感体采用平面工艺制成的ＦＥＴ式气敏元件在常温下对乙醇蒸汽具有非常好的选择性。     

Co基磁性薄膜的快速循环纳米晶化

采用独特的快速循环纳米晶化技术(RRTA)对直流磁控溅射制备的非晶CoNbZr软磁膜进行纳米晶化。研究了不同的纳米晶化工艺条件下,薄膜的微观结构和软磁性能。结果表明,CoNbZr软磁薄膜晶粒细化到30 nm,RRTA晶化方法可有效地控制CoNbZr薄膜的软磁性能。     

一种新颖的制备聚合物光电薄膜的旋涂装置

设计了一种新颖的制备聚合物光电薄膜的旋涂装置.该设计在传统旋涂装置的基础了,通过增加聚合物溶液载台转盘法向进动功能,改进了聚合物溶液成膜质地疏松、致密度不高问题,减少了成膜过程中产业气泡等缺陷的几率.通过增加聚合物溶液载台转盘径向变轴功能,改善了聚合物薄膜径向厚度的均匀性,从而可以借助于旋涂法制备更大尺寸的薄膜器件.理论和试验结果表明,该项改进设计对提高聚合物光电薄膜的制备质量有一定的实用价值.     

聚合物薄片的复介电常数微波测量方法

提出了一种在微波频域测量聚合物样品薄片复介电常数的方法,它利用自动测量线测试系统测量出电压驻波比和相角,然后采用级数各阶次展开方法,由反射系数推导出复介电常数.级数低阶次方法求解厚度较大的被测样品复介电常数时,为确保结果具有较高的精确度,要求测量频率不超过1.5GHz.为了克服这种测量频域的局限性,可采用级数高阶次展开方法来求解复介电常数.用级数展开方法测量聚苯乙烯、多乙酸乙烯酯和聚亚胺酯的复介电常数值,结果与真实值相近,可以和传输/反射法相媲美.     

测量NLO聚合物薄膜材料电光系数的方法

本文综述了测量非线性光学（ＮＬＯ）聚合物薄膜材料电光系数的３种常用的方法及原理,并分别给出了典型的实验装置结构图。最后对３种方法的特点作了比较。     

实现多晶硅薄膜等离子氢化的新工艺

根据多晶硅薄膜氢化的微观机理,提出改进氢化效果的工艺方法,在不增加设备投资的情况下,采用该方法能够明显提高多晶硅薄膜的氢化效果,从而提高薄膜晶体管的性能,ＩＯＮ／ＩＯＦＦ从１０＾３量级,氢化工艺的处理时间也相应缩短。     

Delamination and Wrinkling of Flexible Conductive Polymer Thin Films

Polymer based conductive and transparent thin films are an important class of functional materials at the heart of flexible organic electronic devices. These flexible films are prone to degradation and to mechanical instability leading to the formation of blisters, wrinkles, and cracks. This is detrimental to their use especially in the case of multilayer devices. Here, it is shown that a simple water or solvent drop deposited on such films gives rise to a buckling instability and the formation of several folds due to the tendency of these films to swell in contact with the solvent. A phase diagram of the instability portraying its domain of existence, and thus the means to inhibit it, is proposed. By depositing drops on such films and observing the instability, material parameters such as the elastic modulus of the thin films or their energy of adhesion to the substrate can be estimated reliably. Further, the instability can be harnessed to pattern surfaces at low cost giving rise to percolated and more conductive pathways in the conductive polymer films under scrutiny.     

测量聚合物薄膜电光系数的一种简单方法——干涉法

报道了一种测量聚合物薄膜电光系数的简单方法。这种方法是用石英晶体的逆压电效应补偿聚合物薄膜电光效应引起的光程变化,测量聚合物薄膜电光系数相对于石英晶体压电常数d