TFT-LCD 静电防止回路模拟与设计

为了防止静电放电(ESD)引起静电击穿造成TFT-LCD不良,通过实际测试和PSpice模拟讨论了TFT-LCD在设计过程中,ESD回路设计的规则和容限,通过放电模型的建立,得出显示器分辨率的变化与ESD回路中TFT宽长比(W/L)的关系,确立了静电防止回路的设计方向、规则。模拟分析结果表明:扫描门电极(Horizontal)在分辨率为H1080时ESDW/L设计为38.9/7.4μm,在分辨率为H1200时ESDW/L设计为35.0/7.4μm,满足模拟条件;数据线电极(Vertical)在分辨率为V1600时ESDW/L设计为14.7/7.4μm,在分辨率为V1920时ESDW/L设计为12.2/7.4μm,满足模拟条件。同时,按照此结果,可以得出ESDTFT器件在信号电压±25V变动时,电流值大于±9.5μA;而TFTLCD实际工作电压(<±10V)远小于模拟工作电压(<±25V),实际工作电流值为3～5μA,也小于此电流值,因此验证此模拟结论可行。     

中国TFT-LCD产业发展之路

纵观世界TFT-LCD产业发展的历程,探讨中国TFT-LCD产业发展的道路.建议尽快建成以TFT液晶显示屏为中心的上、下游产业链,增强零部件的自我配套能力,以促进我国显示产业长足地稳定发展。     

TFT-LCD市场发展趋势

评述了 TFT—LCD的简要发展历程 ,指出了 TFT— LCD在显示器市场中所独具的竞争优势 ,其持续高速度的发展使 TFT— LCD在平板显示器中处于主流地位 ,并对未来 TFT— LCD产品结构的发展方向和激烈的市场竞争作了分析。     

TFT-LCD技术的研究进展与发展趋势

介绍了近年来世界ＴＦＴ ＬＣＤ技术的研究现状,论述了未来ＴＦＴ ＬＣＤ技术的发展趋势     

TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势.各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击.在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中.通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向.     

扫描电镜的原理及TFT-LCD生产中的应用

文章以扫描电镜（SEM）在TFT-LCD中的应用为题,介绍了扫描电镜的原理、构造,并通过实验数据分析对TFT-LCD生产中相关缺陷的产生原因进行调查。     

低温多晶硅TFT-LCD异军突起

平板显示器正逐步取代阴极射线管CRT成为显示器产业的主流，尤以液晶显示器所占比重最大，其中薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD占绝对优势，生产技术进入第八代世代线的8G。另一方面，TFT制备工艺也在不断改进之中，在非晶硅a-Si TFT基础上，研发低温多晶硅LTPS（Low Tem-perature Poly Silicon）、高温多晶硅HTPS、连续晶界硅CGS技术，     

第五代TFT-LCD的制屏工艺

第五代TFT生产线的全称为第五代a-si TFT-LCD(非晶硅薄膜晶体管液晶显示器)生产线。玻璃基板尺寸有1100х1250(m m)或1100х1300(m m)等几种。可切割出12张17英寸的显示屏。与第四代生产线相比,在基本相同的工艺流程下,工效提高了一倍,已进入了稳定量产的阶段,工艺技术已经成熟。液晶制屏工艺包括从玻璃基板到显示器件的整个制作过程,分二个阶段运作。第一阶段,首先将CF基板和TFT基板在进入制屏阶段后分成两条线同时运行,第二阶段,在对位压合工序中将两条线合成一条生产线。具体工艺如下:(1)CF基板→清洗和干燥→PI涂膜与固化→定向…     

关于TFT-LCD工艺过程中ESD改善的研究

在显示器件薄膜晶体管(thinfilmtransistor,TFT)以及半导体制造工艺过程中,各个环节都有可能产生静电放电(electrostaticdischarge,ESD)现象,引起器件性能下降,甚至破坏器件。本文结合生产工艺的实际情况,采用统计方法首先对某工艺环节的ESD现象进行定位,在此基础上结合聚焦离子束(focusionbond,FIB)等试验结果,对其机理进行认真的分析研究,从设计和工艺改善两个方面出发,提出解决方案,收到了良好的改善效果,取得巨大的经济效益。     

TFT-LCD生产中毛刷清洗工艺的研究

以玻璃基板表面残留的各种微粒（Particles）的去除率为依据,研究TFT-LCD生产清洗工艺中毛刷的旋转方向、旋转速度和毛刷相对玻璃的压入量等因素对玻璃基板表面particles清洗效果的影响,探讨这些因素的作用机理,为TFT-LCD生产以提供最佳的清洗工艺方法。     

TFT-LCD Cell工程机械手上Pin的改造方案

本文介绍了一种TFT-LCD行业真空对盒工序用搬运机器人,机器人有上下手臂,其中下手臂上设置有位于两侧的侧臂和2个位于中侧的中臂,中臂上设有3个通过喷出气流将玻璃托起的喷气口,喷气口通过导气管与外设气泵连接;侧臂或中臂上还设有一检测装置;外设气泵、检测装置与控制装置连接;侧臂上设置有5个真空垫片。真空对盒工序用搬运机器人下手臂上的喷气口设于玻璃基板像素区,且与所搬运玻璃基板没有接触,避免了面板像素区出现亮点和封框胶断胶;当搬运的面板尺寸发生变化时,无需移动喷气口,减少了设备的空闲时间,提高了设备的使用效率。     

一种TFT-LCD Vertical Block Mura的研究与改善

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)以及其他显示器件产品中,Mura是一种比较常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质。文章结合生产工艺的实际情况,采用MM,CD,EPM,SEM,FIB等检测设备,对一种Vertical Block Mura进行了大量的实验测试、数据分析和理论研究工作,特别是对其产生的原因创新性地提出了两种方向上的理论观点。通过加强设备科学管理监控,减小耦合电容效应等一系列改善措施,产品质量得到了很大程度的提升,Vertical Block Mura从改善前的26.1%降到了1.3%,从而使Vertical Block Mura得以改善,很大程度地提高了产品的品质,并为今后相关问题的进一步研究和解决奠定了一定的理论基础。     

TFT-LCD切割裂片条件优化对后段制程的影响

在TFT-LCD切割裂片制程中,研究了刀轮角度、切割压力、切入量等工艺条件的优化对后段cell制程和module制程的影响。切割裂片条件优化使玻璃基板表面弹出的玻璃屑大大减少。实验发现,优化后的切割裂片条件使无尘室环境得到改善,洗剂的污染程度和生产成本降低,偏光片贴附制程中的玻璃屑异物下降1%￣2%,并使LCD的连接更加安全、可靠。     

TFT-LCD摩擦工艺ESD研究与改善

摩擦工艺ESD(Electrostatic Discharge)是TFT-LCD制程中较为常见的一种不良,以317.5 mm(12.5 in)产品为例,摩擦工艺过程中ESD发生率20%,对产品良率影响较大。文章结合实际生产对摩擦工艺ESD的原因进行理论分析与实验验证,得出摩擦工艺发生ESD的原因为TFT基板上面有悬空的大块金属,在摩擦过程中电荷积累过多容易发生ESD,ESD进一步烧毁旁边金属电路导致面板点亮时画面异常。生产过程中通过工艺管控和产品设计两方面优化改善,工艺方面通过增加湿度,涂布防静电液以及管控摩擦布寿命进行改善,设计方面通过变更悬空的大块金属为小块金属,通过工艺设计优化最终生产过程中摩擦工艺ESD发生率由20%下降到0%,大大提高了产品品质,降低了生产成本。     

TFT—LCD成盒工程中配向不良的改善

从生产角度研究了TFT—LCD成盒工程中配向不良发生的原因，通过对TFT基板、PI液的调查．通过对彩膜基板色层断差、角断差等的量测明确了角断差对此不良的影响，分别在摩擦工程、本硬化工程对这项不良进行改善，结果表明本硬化工程工艺条件的改进对改善该不良有明显效果，并通过一组实验得到最优化本硬化条件，最终改善了该不良。     

TFT-LCD制程中ITO残留的产生与控制

铟锡氧化物(indiumtinoxide,ITO)作为氢化非晶硅薄膜晶体管液晶显示器(hydrogenated amorphous silicon thin film transistor-liquid crystal display,a-Si:HTFT-LCD)最常用的透明导电材料,其图形与厚度会直接影响到器件的相关性能。本文主要阐述了TFT-LCD生产中由于ITO多晶化所造成的残留问题,并根据产线的情况对这些影响进行了分析,对实际生产过程中出现的问题提出了相应的解决方案。     

适用于小尺寸TFT-LCD的图像锐化算法及其硬件实现

针对小尺寸TFT-LCD驱动控制芯片的结构特点,提出了一种适用于小尺寸TFT-LCD的新型图像锐化算法.在传统的反锐化掩膜算法中考虑了人眼的视觉系统特性,加入了能量色散滤波器,进而提高了图像锐化效果,降低了锐化噪声,减小了灰度溢出,同时也避免了色彩失真现象.所提出的算法简单且易于硬件实现,硬件开销小,还可以通过寄存器配置锐化强度等参数,以实现显示画质的优化和微调,尤其适应于手机等小尺寸TFT-LCD显示终端应用.