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报道了对BaTiO3晶体中体全息栅的热定影过程的研究结果,对BaTiO3晶体中离子补偿栅形成的临界温度,离子栅的形成与衍射光振荡间的关系,离子栅的形成速度与温度的关系,降温方式对热定影效率的影响进行了仔细的研究,并实现了高效率的热定影,发现了高温擦除过程的有趣现象,并对实验结果进行了分析。 相似文献
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同步辐射激发直接光化学刻蚀是近年来发展的一项新技术 ,它不需要常规光刻中的光刻胶工艺 ,用表面光化学反应直接将图形写到半导体材料的表面上。由于所用的同步辐射在真空紫外 (VUV)波段 ,理论上的分辨率可以达到电子学的量子极限 ,且没有常规工艺中的表面损伤和化学污染 ,是一种非常具有应用潜力的技术。本文的最后部份重点讨论了与上述技术密切相关的VUV和软X射线激发的表面光化学反应机理。 相似文献
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提出了磁光光纤Bragg光栅的理论模型,给出了圆偏振光在磁光光纤光栅中传播的非线性耦合模方程. 研究表明,在磁光光纤Bragg光栅中,光栅引起正反传播方向的导波光发生耦合,法拉第效应引起磁圆双折射效应,而非线性效应则将左旋和右旋圆偏振光耦合在一起,它们的共同作用可使双稳态状态发生反转、非线性光控光开关阈值功率降低. 与传统光纤光栅相比,利用左旋和右旋磁圆偏振光之间的交叉相位调制实现的脉冲整形具有磁光偏置可调特性,为基于磁光光纤光栅的动态灵活全光3R再生器的研制提供了理论基础.
关键词:
磁光光纤Bragg光栅
圆偏振光
脉冲整形 相似文献
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采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用 电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺,可以得到最小尺寸为50 nm的纳米石墨图型 (nano-size d graphite pattern,纳米尺寸的多层石墨结构).采用了三种不同的方案制备反应等离子刻 蚀过程中需要的掩膜,分别是PECVD生长的SiO2掩膜,磁控溅射的方法生长的Si O2掩膜和PMMA光刻胶掩膜,并将三种方案的刻蚀结果做了对比.
关键词:
高定向热解石墨
聚焦离子束刻蚀
电子束曝光
反应离子刻蚀 相似文献
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离子束刻蚀软X射线透射光栅实验研究 总被引:1,自引:2,他引:1
利用全息-离子束刻蚀方法研制出了聚酰亚胺薄膜为衬底的金软X射线透射光栅.研究了光栅制作中曝光量、显影条件和离子束刻蚀工艺等因素对光栅参数的影响,并给出了在惯性约束激光核聚变实验研究中的应用结果, 相似文献
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多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求, 在大口径多层介质膜光栅的研制过程中,建立了单波长自准直条件下的衍射效率测量方法及其误差分析. 结果表明误差主要由探测器的噪声和测试人员的差异产生,对衍射效率测试精度的影响是±1%. 在此基础上,将光栅衍射效率及其分布测量技术应用于光栅制作工艺中, 作为大口径光栅无损检测的一种手段,如判断光栅掩模是否能进行离子束刻蚀、 离子束刻蚀的在线监测和是否需要再刻蚀,从而实现对大口径多层介质膜光栅离子束刻蚀过程的定量、 科学控制,提高了离子束刻蚀光栅制作工艺的成功率.利用上述技术,已成功研制出多块最大尺寸为 430 mm× 350 mm、线密度1740线/mm、平均衍射效率大于95%的多层介质膜光栅. 实验结果表明,该方法操作简单、测量快速准确,不必检测光栅微结构. 为大口径多层介质膜光栅研制的无损检测工程化奠定了基础. 相似文献
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This paper proposed new ways for producing multi-layer model grids for electron beam moiré method. An electron beam lithography system was set up under scanning electron microscope which was equipped with a beam blanking device and a pattern generator. The two-deposited-metal layers method was used to manufacture electron beam grating for high-temperature use. The results verify that the Zr–Pt-type grating possesses heat resistance up to 1100°C in vacuum. A new type of composite grating with frequencies 100 lines/mm and 1000 lines/mm using three deposited layers was produced. A 10 000 lines/mm two-deposited-metal layers grating was successfully fabricated using electron beam lithography. 相似文献
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