聚环氧磺羧酸的合成及其阻垢性能

聚环氧磺羧酸的合成及其阻垢性能;聚环氧磺羧酸; 聚环氧琥珀酸; 阻垢剂     

近化学计量比碳化硅的制备及其结构表征

近化学计量比碳化硅的制备及其结构表征;聚碳硅烷;聚甲基硅烷;聚环硼氮烷     

新型阳离子聚丙烯酰胺离解行为的研究

前文曾报导,以聚丙烯酰胺为母体,通过甲醛为桥梁引入二氰二胺可合成一种新型阳离子聚电解质,简称PAm·MG,它是一种弱聚碱的盐酸盐,结构式如下(S 为取代度):PAm·MG 对含活性艳红染料的废水有明显的絮凝脱色作用,其絮凝效果受聚合物的取代度、介质的pH 以及外加盐浓度的影响,而这些影响因素又直接与聚碱的离解行为或胺基离子化度(指已离子化的胺基占全部胺基的分数)密切相关.为此,本文对影响PAm·MG 离解行为和离子化度的一些因素作进一步探讨,并通过粘度测定考察离解行为对聚合物在水中形态的影响,为PAm·MG 的实际应用提供理论根据.     

聚天门冬氨酸合成过程中的水解反应

L-天门冬氨酸;;聚天门冬氨酸钠盐;聚丁二酰亚胺;水处理;阻垢作用;聚天门冬氨酸合成过程中的水解反应     

聚并苯和聚并吡啶类化合物非线性光学性质及其分子材料设计

选取聚并苯、聚并吡啶和聚并吡嗪的 3种共振结构为基体 ,计算不同共轭单体齐聚物的结构及被取代后的聚合物二阶和三阶非线性光学系数 .结果表明 ,聚合物的二阶非线性光学系数与其单体相比有显著增大 ,被—NH2 和 NO2 取代后的聚并苯、聚并吡啶和聚并吡嗪的非线性光学系数又在聚合物的基础上进一步大幅度增加 ,有的增加 2～ 3个数量级 .在非取代的聚合物中 ,聚吡啶各种结构的二阶非线性光学系数均较大 ;取代聚合物中 ,单—NH2 和—NO2 取代的聚并苯 ,尤其是反式共振结构聚并苯的二位— NH2 和五位—NO2 取代结构的聚合物二阶非线性光学系数高达 3 .2 7× 1 0 - 2 7esu,说明这种— NH2 和 -NO2 取代后的聚并苯是一种很好的非线性光学材料 .     

絮凝处理对聚驱污水中部分水解聚丙烯酰胺浓度的影响

用常见无机和有机絮凝剂处理了聚驱污水,分别考察了絮凝剂单剂和复配处理后聚驱污水中残余部分水解聚丙烯酰胺(HPAM)质量浓度和透光率随絮凝剂剂量的变化.结果表明:采用无机絮凝剂处理聚驱污水时,残余HPAM质量浓度随絮凝剂剂量增加先减小后增大;采用有机絮凝剂处理聚驱污水时,残余HPAM质量浓度随絮凝剂剂量增加而线性增加.将无机絮凝剂与无机絮凝剂复配使用,则残余HPAM质量浓度与透光率成反比;将无机絮凝剂与有机絮凝剂复配使用,则残余HPAM质量浓度取决于复配体系中阳离子聚丙烯酰胺(CPAM)的添加量.     

磺化poss的合成及其与聚电解质的组装

层层组装;聚倍半硅氧烷(poss);聚电解质;复合多层膜     

聚甲基丙烯酸甲酯/二氧化硅杂化材料制备与性能

溶胶-凝胶;聚硅酸;聚甲基丙烯酸甲酯/二氧化硅杂化材料制备与性能     

聚二甲基硅氧烷改性的聚氨酯齐聚物增韧环氧树脂

聚二甲基硅氧烷改性的聚氨酯齐聚物增韧环氧树脂;聚氨酯齐聚物;聚二甲基硅氧烷;环氧树脂;增韧;IPN     

端羟基聚环氧环己烷的合成

端羟基聚环氧环己烷的合成;端羟基聚环氧环己烷;环氧环己烷;阳离子聚合