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空间相干性问题来源于扩展光源不同部分发光的独立性,表现在波场横向相干范围;时间相干性来源于光源发光过程在时间上的断续性,表现在波场的纵向相干范围. 本文从干涉条纹的可见度出发,对双棱镜干涉实验中的相干性问题进行分析讨论,推导出相干长度和临界宽度公式,给出双棱镜干涉实验测量光波临界宽度和相干长度,以及估测滤光片单色性的实验方法. 相似文献
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对分立双谱线光源的杨氏双缝干涉进行模拟,求解出不同线型和线宽时干涉条纹的可见度曲线、光强分布曲线和干涉图样,用直观的计算机图形说明了分立双谱线的线型和线宽对干涉条纹的影响. 相似文献
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在分析光源的非单色性和宽度对干涉条纹可见度影响的基础上,推导出普通光源的时空相干度计算公式,并定义了相干线域、相干面域和相干体域等概念. 相似文献
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在一级近似条件下,导出薄膜干涉条纹的可见度公式,人条纹可见度的角度定量分析干涉定域问题,直观地给出定域中心、定域深度随扩展光源、薄膜的劈尖角和厚度变化的规律. 相似文献
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从数值上分析了光源相干长度对光纤Fabry-Perot干涉的影响。推导了光源在理想情况和非理想情况下的光纤Fabry—Perot干涉模型,通过计算机模拟了干涉信号,指出在非单色光源下,干涉条纹失去周期性,随着腔长相干长度比增加干涉条纹的变化幅度减小,最后演化成一条直线,条纹的可见度也慢慢趋近于零。综合考虑了光纤的耦合效率和光源的非单色性对干涉信号的影响,随着腔长的增加,干涉信号的幅值和变化幅度都在减小,信噪比变差。要得到好的干涉信号,腔长不宜选择过大,必须使光源的腔长相干长度比值低于0.1。 相似文献
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介绍一种用光纤作为理想点火光源进行双棱镜干涉和迈克耳孙干涉仪实验的方法,干涉条纹可见度好,实验操作简便。 相似文献
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运用MATLAB软件平台设计了等厚干涉图样模拟的程序。使用者可通过命令窗口输入相关参数的值,运行程序得到等厚干涉图样。本文通过改变相关参数的值,分析薄膜夹角、介质折射率、入射光波长、入射角度对等厚干涉条纹间距的影响。此外,还研究了非单色光对等厚干涉条纹可见度的影响。 相似文献
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定量测定光源空间相干性在部分相干光成像, 非相干全息术及光信息处理领域具有重要的研究价值. 本文基于三角全息干涉光路提出了一种测量光源空间相干性的新方法. 利用三角干涉全息光路系统中分束镜产生的孪生光束进行干涉获得干涉图, 通过调整光源中心位置在写入平面内偏离光轴的量, 改变两孪生光束空间分离量的大小, 采集对应的一系列干涉图, 计算干涉图样的对比度, 从而对光源照明空间的波前上一系列不同距离的点对之间的空间复相干度进行测量. 实验系统光路配置较为简单且不需要使用特殊加工的光学元件. 针对一个准单色的扩展光源设计并进行实验, 结果表明利用文中提出的方法可以准确的测量光源的空间相干性, 实验结果相对于理论计算值的误差仅为3.8%.
关键词:
相干性
全息干涉
干涉仪
光学应用 相似文献
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在光学教学中如何应用微机辅助教学,是教学改革中的一个新课题。本在这方面做了初步尝试。针对光源的时间相干性问题的理解,用微机模拟演示了光源非单色性对干涉条纹可见度影响的物理过程。 相似文献
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法布里珀罗多光束干涉仪的调节技巧,分别以钠、汞和激光为光源调节出清晰、理想的多光束干涉图样,并较精确的测定了氦氖激光的波长。 相似文献
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法布里-珀罗多光束干涉仪的调节技巧,分别以钠、汞和激光为光源调节出清晰、理想的多光束干涉图样,并较精确的测定了氦氖激光的波长。 相似文献
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利用自发参量下转换过程产生的频率纠缠光源在量子信息处理及相关领域中 具有十分重要的应用. 本文利用中心波长为792 nm, 脉冲宽度小于20 fs的脉冲激光源抽运满足II类准相位 匹配条件的周期极化磷酸氧钛钾晶体, 实验产生了偏振相互正交的频率一致纠缠光子对. 基于Hong-Ou-Mandel干涉仪的二阶量子符合干涉装置, 测量到该纠缠双光子对的干涉可见度约为42%, 表明其频率不可分特性较理想频率一致纠缠光源大大降低. 通过理论分析给出, 由于超短脉冲光源对应的宽频谱带宽影响, 相位匹配函数中的高阶色散项不再忽略, 从而导致纠缠光子对的频率不可分性减弱. 进一步利用实验参数给出的数值模拟结果与实验结果符合, 证实了脉冲抽运源带宽对频率一致纠缠光源的量子不可分特性的影响.
关键词:
频率一致纠缠
Hong-Ou-Mandel干涉测量
符合计数 相似文献
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计算机模拟光源的非单色性对迈克尔孙干涉条纹可见度的影响 总被引:3,自引:1,他引:2
通过开发的“迈克尔孙模拟实验平台”中的数值模拟和实验现象模拟,讨论分析了光源的非单色性对迈克尔孙干涉条纹可见度的影响,用直观的计算机图形将抽象的光的时间相干性理论形象化,从而弥补了光学实验教学中的理论欠缺和理论教学与实验相脱节的不足. 相似文献
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《光子学报》2015,(10)
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考. 相似文献