p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性

研究了ｐ－Ｓｉ上恒电流沉积Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜组成与结构的关系，讨论了镀层的组成、结构随沉积时间的变化．测定了非晶合金的晶体结构随热处理温度的改变以及ＤＴＡ曲线，结果表明，非晶Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金在晶化过程中形成两个纳米超微晶相，非晶Ｎｉ－Ｗ－Ｐ薄膜的热稳定性远高于通常使用的非晶Ｎｉ－Ｐ薄膜．     

p—Si上电沉积Ni—W合金薄膜

利用恒电流沉积法，在ｐ－Ｓｉ上制备出不同Ｗ含量和不同结构的Ｎｉ－Ｗ薄膜，研究了镀液温度，ｐＨ值，电流密度对镀层组成的影响，结果表明，提高温度有利于获得高Ｗ含量的合金。     

电沉积Ni－La合金上的阴极析氢行为

在电解水制氢工业中,为降低能耗人们在研制电催化活性高的析氢电极材料方面做了大量工作,主要有纯金属电极、合金电极及复合电极等.Arul Raj等用电沉积方法获得了Ni-Co,Ni-Zn,Ni-W及Ni-Cr等镍基合金电极,发现这些电极的析氢催化活性有很大差别.本文从电解质水溶液中制备了Ni-La合金电极,是一种理想的析氢电极材料.     

p型Si上Ni—Pd薄膜的电化学制备及其表征

采用控电位沉积方式在ｐ型Ｓｉ上制备了Ｎｉ－Ｐｄ合金薄膜；考察了合金的阴极沉积和阳极溶出行为；研究了极化方式对膜组成、厚度、结构及形貌的影响．结果表明，在沉积初期，膜主要以层状方式生长，当膜增厚或阴极极化增强时，则以岛状形式生长．Ｘ射线衍射测试表明，Ｎｉ－Ｐｄ合金呈面心立方结构，其晶面间距随合金组成不同而变化．     

p—Si上激光诱导局部沉积铂

现代电子工业中，电子器件基体材料多为半导体或绝缘体，因此，不用外加电源的激光诱导微区沉积技术引起了人们的重视［‘－‘j．这种高度选择性、高速沉积性、工艺简单的技术在电接插件局部镀，多芯层模块制作中的基板联线，加成法制造微带电路及其修复，半导体集成电路中布线的修复等方面有着广泛的应用前景．激光诱导液相金属沉积可在多种基体上，多种电解质溶液中进行”－“’，本课题组自90年代初从事激光镀的研究以来，已利用Ar”激光在硅片上分别实现了Ni－P合金「“］和Cll［“j的镀覆．本文采用3种不同的镀铂溶液作为电解质，在…     

Fe-Ni-S软磁薄膜的电沉积

酸性镀液中以硼酸为缓冲剂、柠檬酸三钠为配合剂,在紫铜箔上电沉积得到非晶Fe-Ni-S合金薄膜。 采用扫描电子显微镜和能谱分析技术(EDS)研究了镀液组成和沉积条件对镀层表面形貌和组成的影响。 结果表明,在镀液中加入2 g/L C7H5O3NS（糖精）和0.4 g/L 1,4-丁炔二醇可获得表面平整无裂缝和较小内应力的合金镀层;电流密度和镀液pH值对镀层组成影响较小,但施镀温度对镀层组成影响较大。 获得了理想的镀液组成和沉积条件,所得Fe73Ni9.5S17.5薄膜的X射线衍射表明其为非晶结构,在室温下具有较高的饱和磁化强度(Ms约为876.25 kA/m)和较低的矫顽力(Hc约为4.96 kA/m),具有良好的软磁性能。 循环伏安曲线和阴极极化曲线均表明,镀液中CS(NH2)2会促进Fe-Ni-S共沉积。     

稀土对电沉积Ni-P合金镀液性能的影响

通过在电镀Ni P合金的镀液中加入一定量的镧和铈的氯化物 ,用赫尔槽实验、远近阴极实验等方法探讨了稀土元素对Ni P合金镀液性能的影响规律。结果表明 :CeCl3 ,LaCl3 以及它们的混合物的最佳添加量均为 2g·L- 1 。稀土元素的加入 ,能够显著增加Ni P合金镀液的光亮区范围 ,而且 ,这种作用在低电流密度范围内更显著。稀土元素加入到镀液中能够显著增大Ni P合金镀液的电流效率 ,并且导致电流效率随电流密度的变化趋势发生变化。实验结果还表明 ,稀土元素能够使镀液的分散能力有所提高。根据这一结果 ,从理论上推断稀土元素能够促进电沉积Ni P合金阴极过程的极化度。这一推断与阴极极化曲线的测量结果是一致的     

铜电极上Zn—Co—P合金电沉积行为

铜电极上Ｚｎ┐Ｃｏ┐Ｐ合金电沉积行为黄清安＊陈永言邓伯华（武汉大学化学系武汉４３００７２）关键词铜电极，Ｚｎ－Ｃｏ－Ｐ合金，电沉积１９９６－０４－２３收稿，１９９６－０９－１３修回国家自然科学基金资助课题为了提高Ｚｎ层的耐蚀性，出现了含磷的锌基合金，...     

Ni-Mo合金电沉积层织构及形成机理

在组成为：０．２２ｍｏｌ／Ｌ硫酸镍、０．０６ｍｏｌ／Ｌ钼酸钠和０．３ｍｏｌ／Ｌ柠檬酸钠的溶液,于纯铜片上采用恒电流沉积,所得Ｎｉ－Ｍｏ合金沉积层经Ｘ射线衍射测定,结果表明在温度为２５℃～５０℃,电流密度为１０ｍＡ·ｃｍ－２～３０ｍＡ·ｃｍ－２范围,Ｎｉ－Ｍｏ合金沉积层表现为（１１１）择优取向．循环伏安和电位阶跃实验表明镍钼合金电结晶过程按照连续成核和三维生长方式进行．Ｎｉ－Ｍｏ合金电沉积过程的电化学交流阻抗谱表明Ｎｉ－Ｍｏ共沉积过程经历了吸附中间产物步骤,由于吸附态物种氢氧化镍和钼的氧化物将阻化晶粒（１１１）晶面的生长,从而使镍钼沉积层表现为（１１１）择优取向．     

铜在ρ-Si上激光诱导电沉积过程的研究

由于在微电子器件制造，成像系统及太阳能电池等领域里具有广阔的应用前景，激光诱导化学及电化学沉积金属的研究，最近几年引起了极大兴趣［1－3］，例如Zahavi［4］报道了Pd，Au，Ni－Pd在氩离子激光作用下可以不加偏压实现在半导体Si，InPGaAs上的无掩膜选择性沉积，金属沉积只发生在光照部位．大多数研究工作是围绕应用技术而开展的，理论研究，尤其是光电化学方面的研究尚十分欠缺．我们认为对于普通电镀液中的激光诱导电沉积来讲，既使不需外加偏压，沉积过程也必然伴随着溶液中金属离子与半导体能带之间的电荷传递，因此可以通…     

非晶态Ni-W-B合金的电沉积及其热处理前后的性能

To strengthen the properties of Ni-W alloy, dimethylamine borane （DMAB） was added to an alloy Ni-W electrolyte solution and a ternary Ni-W-B alloy was electrodeposited. The electrodeposition, crystallographic structure, surface morphology, heat treatment and corrosion resistance, of the alloy were studied by DSC, XRD, SEM and electrochemical techniques. The results showed that the structure of the alloy was greatly affected by the cooperation of boron compound. DSC experiment combined with X-ray diffractometry indicated that the obtained Ni-W-B alloy was still in amorphous structure although W content in the alloy was decreased by the addition of DMAB. After heat treatment at 400 ℃ for 1 h, the microhardness was increased from 612 to 947 kg.mm^-2 that was com- parative to Cr coating. The appearance of the as-plated coating was in f＇me and slice grains and kept almost no change after heat treatment. In w=0.03 NaC1 solution the as-plated coating presented very good corrosion resistance. After the coating was heat-treated its corrosion resistance was enhanced.     

电沉积法制备Fe与La、Ce的非晶态合金及其晶化动力学研究

Fe-La, Fe-Ce, Fe-La-P, Fe-Ce-P and Fe-P alloys were obtained from aqueous solutions by using optimized electroplaing solutions and process conditions. The experimental results show that these alloys (Fe-La-P, Fe-Ce-P and Fe-P) have amorphous structure. The crystallization activation energy and kinetics equation of three kinds amorphous coatings have been determined by DSC method. The results indicated that the crystallization activation energy of Fe-P, Fe-La-P, Fe-Ce-P amorphous coatings are 175.2, 370.1, 434.6kJ·mol^-1 respectively. The crystallization mechamism of three kinds amorphous alloys may be expressed by Avrami-Erofeev equation (n=1), the kinetics equation is dα/dT=A/Φ e^-E/RT(1-α).     

水溶液中Ni-La-P合金的电沉积行为

为了开发含稀土的功能材料,我们研究了从水溶液中电沉积Ni-La-P合金工艺[1].刘淑兰等[2]报道了电沉积的Ni-La合金上的阴极析氢行为,但未见Ni-La合金电沉积行为的报道.本文采用动电位扫描法,研究了电沉积Ni-La-P合金过程中,镀液中的配体、H3PO3和Ni2 离子的作用.采用动电位扫描法测量合金电沉积时的阴极极化曲线.所用仪器有DHW型恒电位仪（延边电化学仪器厂）,YEW-TYPE-3086型X-Y函数记录仪（四川仪表四厂）.电极：阴极为1cm2铜片,阳极为5cm2Pt片,参比电极：饱和甘汞电极（SCE）.实验溶液广：NiCl2·6H2O25g/L,NH4Cl9g/L,L1-…     

锂离子在镁电极上的电沉积

研究了熔融氯化锂与氯化钾在摩尔比为58:42的熔盐中,锂在镁电极上的电沉积过程.利用电化学工作站,采用循环伏安法扫描技术,考察了在450℃,扫描速度为20 mV/s时,锂在钼电极和镁电极上的析出电位,得到析出电位分别为-2.4和-2.28 v.结果说明,镁电极对于锂的析出具有诱导作用;发现在所研究的温度范嗣内,电流效率均大于92%;利用扫描电子显微镜考察了镁电极沉积锂前后表面形貌的变化,发现镁电极上沉积锂之后与未沉积锂前相比,表面形成了均匀致密的合金层;扫描电子显微镜能谱分析表明,合金试样中的杂质元素主要为氧,可能是南于样品放置在空气环境中所致,测量时间内引起的.     

热处理对电沉积制备CuInGaSe2 薄膜的影响

CuInGaSe2薄膜太阳能电池因具有稳定、高效、低成本和环保等特点而受到国内外科学家的重视.采用Mo/钠钙玻璃衬底为研究电极,饱和甘汞电极(SCE)为参比电极,大面积的铂网电极为辅助电极的三电极体系,在钼/钠钙玻璃衬底上利用电沉积技术制备出太阳能电池用的CuInGaSe2薄膜.分析了不同热处理温度对电沉积制备的CuInGaSe2薄膜的影响,结果表明:当热处理温度为450℃时,所制备的CuInGaSe2薄膜的化学组成接近理想的化学计量比,薄膜具有黄铜矿结构,颗粒均匀和致密性较好.     

高透光p型CuSCN薄膜的电沉积制备及机理研究

A stable aqueous electrolyte solution containing Cu(Ⅱ) cations and (SCN) anions was prepared by adding EDTA(ethylenediamine tetraacetic acid disodium salt, C₁₀H₁₄N₂O₈Na₂·2H₂O) to chelate with Cu(Ⅱ) cations. CuSCN films were electrodeposited on transparent ITO conducting substrates from as-prepared electrolyte solution. Deposition mechanisms of CuSCN at varied temperatures have been studied. The results indicate that electron quantum tunnel through CuSCN film plays a role and the dense thin film with nanocrystals was obtained at or below room temperature. However, at higher temperature, a thermally activated process was involved and a thick film was obtained. It has been calculated that the activation energy of the growth for crystals is 0.5 eV. XPS pattern shows that the electrodeposited film is (SCN) in stoichiometric excess, indicating a p-type film. As-prepared CuSCN film was with high transmittance (≥85%) in the visible optical range and the direct transition band gap was 3.7 eV.     

非晶态Fe-P合金电极的电沉积制备及其储锂性能

应用电沉积技术制备了Fe-P合金电极材料。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了该合金材料的相结构和表面形貌。XRD分析结果表明电沉积的Fe-P合金具有非晶态结构。电化学性能测试表明：平面结构的Fe-P合金电极首次放电(脱锂)容量达542 mAh·g^-1,首次循环的库仑效率为60%;50周循环之后放电容量为366 mAh·g^-1。用非原位的XRD和SEM对电极的充放电机理进行了初步研究,结果表明,首次充电(嵌锂)过程中形成Li₃P相,电极表面生成纳米棒结构铁-磷合金,它能有效缓解锂嵌入/脱出时引起的合金结构变化,抑制合金材料的体积膨胀,从而提高该合金电极的充放电效率和循环性能。     

电沉积工艺对Mg-Ni储氢合金的电化学性能的影响

用电沉积的方法制备了镁 镍储氢合金,探讨了电沉积条件对合金的电化学性能的影响.XRD显示沉积层中含有非晶态Mg Ni相和微晶态Mg相.AAS分析表明沉积合金中Mg的摩尔分数达 8. 57%.合金的放电容量最高为 75. 547mA·h·g-1.