薄膜干涉条纹的可见度

在一级近似条件下，导出薄膜干涉条纹的可见度公式，人条纹可见度的角度定量分析干涉定域问题，直观地给出定域中心、定域深度随扩展光源、薄膜的劈尖角和厚度变化的规律．     

薄膜干涉条纹定域的确定

薄膜干涉条纹定域的确定，文献［１］～［４］等已有讨论．其中［４］较简单直观。本文在直角坐标系中推出定域中心曲面方程，作适当近似与文献［１］、［４］的结果相同，并在此基础上对条纹定域深度进行了讨论     

自制薄膜干涉演示仪

现行人教版高中《物理·选修3-4》教材中,将"光的干涉"分为两部分,一是杨氏双缝实验,二是薄膜干涉^[1].针对现行教材"用肥皂泡演示光的干涉现象"的实验仪产生的问题,设计一种更为简便的、实验效果更好的薄膜干涉演示仪.同时,对实验产生的干涉条纹以及干涉条纹在短时间内逐渐变大,向外吐出圆环,最后趋于稳定的原因进行分析.     

薄膜干涉演示方法

使用简单的自制装置，方便地演示了薄膜干涉现象。     

基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法

为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO₂薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明：该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障。     

薄膜干涉中半波损失的"例外

利用相位变化关系详细分析了薄膜处在上下界面不同的介质中时,两界面反射光有无半波损失的各种情况,得出了两界面性质相反时应有半波损失的情况下,却存在无半波损失的例外的结论.     

应用等色干涉测定薄膜厚度

本文报导应用等色干涉原理测定单层镀膜层光学厚度的方法及测量结果分析。此方法无需破坏待测薄膜,测量简便、准确。     

SiO2薄膜的液相沉积及特性

将基片浸入到低温SiO2过饱和的六氟硅酸（H2SiF6)溶液中,在其表面上沉积SiO2薄膜,这种新的生长工艺称之为液相沉积（LPD）。本文着重介绍LPD工艺及LPDSiO2薄膜的特性。     

迈克尔逊干涉测薄膜厚度

在利用迈克尔逊干涉测量薄膜厚度的实验装置中加入了压力传感器。该设计光路可以在无需已知薄膜透射率、折射率等物理参数的情况下,测得薄膜厚度,而且基本消除了外界挤压对薄膜厚度造成的误差影响。