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软X射线光学和周期性多层膜 总被引:2,自引:1,他引:1
本文介绍了软X射线的基本性质,它们和可见光及X射线的性质有很大的差异.这些性质决定了软X射线光学元件的特殊性.过去发展的软X射线光学元件不够理想,影响了软X射线光学的发展.近十年来发展的由轻、重元素组成的周期性多层膜使局面大为改观.多层膜的结构研究有助于指明提高多层膜质量的方向. 相似文献
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本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定的评价因子,设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正,为实验提供优质的衰减膜。 相似文献
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本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定的评价因子,设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正,为实验提供优质的衰减膜。 相似文献
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用X射线运动学理论对软X射线多层膜光栅的衍射特性进行了研究。发现其衍射规律与多层膜的布拉格衍射和普通光栅衍射有本质的区别,可将衍射能量集中于某一衍射级上,同时它又保持了多层膜的高反射率和光栅的高分辨本领等优良特性。 相似文献
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Four factors (the interface roughness, the monotonous thickness drift, the interdiffusion between two layers and the change of extinction coefficients) which may affect the multilayer mirror reflectivity in soft X-ray region are investigated. Some conclusions are obtained by our theoretical analysis. In long wavelength region (λ> 12nm), the change of extinction coefficients is the main cause reducing the multilayer mirror reflectivity and others (excluding the interface roughness) only shift the peak position. In short wavelength region (λ<10nm), all the four factors affect the reflectivity. In addition, the two factors, monotonous thickness drift and interdiffusion between two layers, shift the peak position. To check these conclusions, the measurement of a Nb/Si multilayer mirror fabricated by our magnet sputtering system is performed on an X-ray generator and a reflectometer installed on the Beijing Synchrotron Radiation Facility. The experimental results are in good agreement with our calculations, and the reflectivity up to 32 % of the Nb/Si multilayer mirror (with 41 layers and at wavelength 17.59nm) is attained. 相似文献
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对用分子束外延(MBE)和溅射方法制备的Co/Cu多层膜样品分别进行了结构及磁性研究.X射线分析表明两者均有良好的调制周期性,并且前者形成外延单晶结构,铁磁共振研究表明了面内六次各向异性对称的存在,说明此超晶格具有完整的面内二维结构.磁电阻测量发现,溅射制备的多层膜具有较高的磁电阻值并明显地随Cu层厚度而振荡,相应的室温磁电阻峰值分别为27%,24%,14%;而MBE制备的超晶格的磁电阻较小,其第二峰的数值只有7%.MBE超晶格界面处可能具有超顺磁性,对磁电阻和磁化强度的不同的外场依赖关系有一定的影响.
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