软X射线多层膜与衰减膜研究

 本文采用随机数的方法，发展了一种普适的多层膜设计方法，这种方法除可设计一般的周期多层膜，更重要的是它可以根据选定的评价因子，设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备，X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性，所得结果说明多层膜的结构完整，周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜；分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响，并对衰减系数进行了修正，为实验提供优质的衰减膜。     

软X射线多层膜与衰减膜研究

本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定的评价因子,设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确。用离子束溅射方法成功地制备了有一定反射率和透过率的软X射线半反半透分束镜;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正,为实验提供优质的衰减膜。     

软X射线多层膜的应用及发展

文章主要介绍了近十年来软Ｘ射线多层反射发展现状以扩制备过程中的技术难点，介绍了软Ｘ射线多层膜在软Ｘ射线光学中的的些应用。     

软X射线光学和周期性多层膜

本文介绍了软Ｘ射线的基本性质，它们和可见光及Ｘ射线的性质有很大的差异．这些性质决定了软Ｘ射线光学元件的特殊性．过去发展的软Ｘ射线光学元件不够理想，影响了软Ｘ射线光学的发展．近十年来发展的由轻、重元素组成的周期性多层膜使局面大为改观．多层膜的结构研究有助于指明提高多层膜质量的方向．     

软X射线多层膜及多层膜光栅的研究进展

对目前的几种软Ｘ射线光学元件的性能作了简要的阐述和分析。综合介绍了多层膜作为软Ｘ射线光学元件的新进展。同时对多层膜光栅这种新型软Ｘ射线光学元件的原理、性能、制作工艺进行了详细的说明。     

热处理Co/C软X射线多层膜的掠入射反射率增强

研究了低温退火Co/C软X射线多层膜中掠入射反射率的增强现象．通过测量一级调制峰强度随退火温度和时间的变化，测得了低至-10^-25m²s^－1的有效扩散系数．由于所研究的Co/C多层膜的调制波长远大于Co-C系统的扩散临界波长，有效扩散系数近似等于真实宏观扩散系数．负的宏观扩散系数表明，在Co-C系统中有相分离的趋势．这一结果可解释为由Miedema宏观原子模型计算得到的正的Co-C系统的混合焓．高退火温度下反射率的降低是界面锐化与界面粗糙化 关键词：     

软X射线多层膜光栅的衍射特性

用X射线运动学理论对软X射线多层膜光栅的衍射特性进行了研究。发现其衍射规律与多层膜的布拉格衍射和普通光栅衍射有本质的区别,可将衍射能量集中于某一衍射级上,同时它又保持了多层膜的高反射率和光栅的高分辨本领等优良特性。     

软X射线多层膜色散元件

介绍研制软Ｘ射线多层膜色散元件的初步结果，结合Ｍ０／Ｓ１、Ｓ／Ｓ１色散元件的研制实例，讨论了包括设计、性能模拟计算、镀膜工艺、检测等在内的制备过程，这些元件将在Ｘ射线光学和Ｘ射线光谱学的有关研究工作中得到应用。     

均匀软X射线多层膜制备方法研究

 介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法，并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜，其中心波长为13.5nm，膜厚空间非均匀性优于1％，较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍。     

STUDIES OF THE MULTILAYER MIRROR REFLECTIVITY IN SOFT X-RAY REGION

Four factors (the interface roughness, the monotonous thickness drift, the interdiffusion between two layers and the change of extinction coefficients) which may affect the multilayer mirror reflectivity in soft X-ray region are investigated. Some conclusions are obtained by our theoretical analysis. In long wavelength region (λ> 12nm), the change of extinction coefficients is the main cause reducing the multilayer mirror reflectivity and others (excluding the interface roughness) only shift the peak position. In short wavelength region (λ<10nm), all the four factors affect the reflectivity. In addition, the two factors, monotonous thickness drift and interdiffusion between two layers, shift the peak position. To check these conclusions, the measurement of a Nb/Si multilayer mirror fabricated by our magnet sputtering system is performed on an X-ray generator and a reflectometer installed on the Beijing Synchrotron Radiation Facility. The experimental results are in good agreement with our calculations, and the reflectivity up to 32 % of the Nb/Si multilayer mirror (with 41 layers and at wavelength 17.59nm) is attained.     

软X射线多层膜反射镜反射率测量

 采用线状激光等离子体作为软X光源,用具有空间分辨的掠入射光栅谱仪对正入射多层膜反射镜进行了反射率测量。谱仪测谱范围20~40nm,谱分辨0.05nm,测得50层C/Al反射镜在中心波长28.6nm处反射率为22%,带宽约为2.5nm。     

W/C超薄多层膜的制备及其结构与光学特性分析

利用平面磁控溅射技术，制备了Ｗ／Ｃ超薄多层膜样品。低角Ｘ射线衍射测试、透射电子显微镜显微剖面分析给出了该样品的结构参数，由这些结构参数模拟给出的光学特性与实测的4．４７ｎｍ的绝对反射率角谱有较一致的表现。 关键词：     

同步辐射软X射线源用于软X射线探测元件定标

用于惯性约束聚变诊断的软Ｘ射线探测元器件的能量响应曲线定标，利用北京同步辐射装置（BSRF-3B1束线，束流为20—80mA，光子能量为250—1000eV,通量约为10¹²photon/s·mm²·mr²·0.1%band width）及反射率计靶室，采用AXUV-100硅光二极管作源强绝对监测．对X射线二极管（XRD）及金刚石光电导探测器等五种探测元件进行能量响应曲线定标，获得初步实验结果，并对数据进行了分析 关键词：     

HL-1装置等离子体的软X射线能谱分析

本文分析了HL-1托卡马克等离子体的软X射线能谱,包括杂质谱线CrK_a,NiK_a,MoK_a辐射强度与孔拦半径a_L,环电流及充气压强P_H之间的关系。讨论了放电初始段、终了段及逃逸电子流较强的放电的软X射线能谱的特点。     

X射线连续谱晶体单色器的分辨率

本文讨论了在连续X射线谱的情况下,例如EXAFS谱时,晶体单色器的能量色差。根据连续谱强度随能量变化很小的特点,将其强度看作一常量,提出了计算平晶及Johann,Johansson弯晶单色器平均分辨率的计算方法。同时也指出了以往文献中关于Johann法反射几何分析的一些不当之处。并证明Johann法能得到比过去人们所估计的好得多的分辨率。 关键词：     

Mo/B4C软X射线多层膜结构特性研究

在6.7<λ<10.0nm波段选择Mo/B₄C作为多层膜材料,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品.这些多层膜样品的周期结构为3.35nm～5.52nm.采用X射线衍射仪和透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行研究.结构表明,这些多层膜样品的结构质量很高,并有很好的热稳定性.     

类氖钛软X射线激光空间发射区域研究

使用高分辨平焦场谱仪，在“星光”激光器上，对类氖钛J=0—1，3p—3s跃迁32.6nm软X射线激光空间发射区域进行了实验测量，并与LASNEX和XRASER程序模拟结果作了比较．实验采用预脉冲打靶技术，预、主脉冲时间间隔5ns，峰值能量比为1%．结果表明：当驱动能量在50—150J范围内变化时，等离子体介质中X射线激光发射区与驱动能量大小密切相关，并随之增大而增大 关键词：