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增透膜和增反膜在光学仪器中广泛应用,中学物理中也有增透膜和增反膜的相关课题出现.但是,有些问题容易混淆,现将几个问题明确如下: 相似文献
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为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。 相似文献
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为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。 相似文献
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外层为氟化物的红外高效膜、膜层软、易吸潮和氧化.本文提出使用类金刚石膜做红外高效膜的保护膜,讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜件光谱特性的变化情况. 相似文献
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本文利用光子的概念,在深入研究的基础上,提出了光在两介质界面上的折射是界面层对光子的增透作用这一观点,通过从微观上跟踪一个光子后,导出了“增透膜”的厚度和宏观的斯涅耳折射定律,得出了光子在界面的折射是两次折射的结论. 相似文献
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计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底材料的吸收损耗对增透膜元件的影响很大,超过一定值时,增透膜元件的设计透过率将达不到理想水平.对单面增透膜的设计与制备结果表明,当吸收损耗降低到一定程度,散射损耗成为不可忽略的因素.采用热舟蒸发方法实现了性能良好的193 nm减反射膜,剩余反射率在0.2%以下.
关键词:
193nm
增透膜
光学损耗
剩余反射率 相似文献
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研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1 315nm反射薄膜以及增透膜。结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件。 相似文献
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水解反应温度对溶胶-凝胶SiO2增透膜光学性能的影响 总被引:6,自引:2,他引:4
在制备高激光损伤阈值溶胶-凝胶二氧化硅增透膜的工艺中,水解反应温度对镀膜溶胶的形成和薄膜的光学性能都有很大影响。本文较为详细地研究了这一重要工艺多数对镀膜溶胶的颗粒度、分散性、稳定性的影响,以及它对薄膜增速效果的影响。 相似文献
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Anti-reflection (AR) sol–gel coatings are deposited on wedge glass optics for high-power lasers using spin coating technique. Characterization of these coatings on BK-7 glass substrates is carried out in terms of thickness profile across the surface, thickness variation w.r.t. wedge angle, and its effect on AR coating reflectivity, at different wedge angles from 1° to 7°. Results of the study are used to deposit AR coatings on inclined end faces of Nd:phosphate glass laser rods. 相似文献
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We present the experimental and simulation studies of the glow discharge plasma in a macroscopic AC plasma display panel cell operating at a high frequency. We find that at high frequencies the plasma from the previous pulse has a significant influence on the discharge properties. The xenon excitation efficiency is larger than that at low frequencies.The discharge mode and efficiency at high frequencies have been discussed in this paper. 相似文献
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SiO_2光学增透膜的制备及光学性能 总被引:6,自引:0,他引:6
在碱催化体系中以正硅酸乙酯 (TEOS)为前驱体制得SiO2 溶胶 ,采用旋转镀膜法 (spin coating)制备SiO2 光学增透膜。研究了在不同制备条件下对膜层光学性质的影响 ,推算了膜层的折射率及厚度 ,并由此给出膜层孔隙率以及膜层的厚度与转速的关系 相似文献
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平板显示因具有体积小、重量轻、功耗低、画质好等优点,已被广泛应用于电子仪表显示、车载显示、数码相机、智能手机、个人电脑、电视产品等领域之中。本文介绍了薄膜晶体管液晶显示(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFTLCD)、有机发光二极管Organic Light Emitting Diode(OLED)显示、量子点发光二极管Quantum Dot Light Emitting Diode(QLED)显示及微发光二极管(Micro-LED)显示这几种平板显示技术的结构及原理。从结构、材料、性能、应用几方面对这几种平板显示技术进行了比较。最后给出了这几种平板显示技术的最新研究进展。LCD显示经过多年发展,技术成熟,成本低廉,仍然在显示市场占据主流地位。OLED显示技术摆脱了传统LCD的背光源,开创了自发光显示的未来发展方向。在相当一段时期内,LCD和OLED仍将会共存于市场中,相互竞争和补充。QLED显示和Micro-LED显示这两种显示技术,在理论上较OLED显示具有更好的颜色表现、更长的工作寿命等优势,具有非常广阔的发展前景,将为未来显示行业提供更多更好的选择。 相似文献