用马赫探针阵列测量HL—1M装置边缘涨落和流速

利用一组马赫探针研究了ＨＬ－１Ｍ装置刮离层（ＳＯＬ）和边缘等子体流在欧姆放电、朋化、偏压抽气孔栏、偏压电极、低杂波电流驱动（ＬＨＣＤ）和电子回旋共振加热（（ＥＣＲＨ）等情况下的平行流马赫数离子饱和电流扰动，平行流速度剪切和极向流速度的分布。     

HL—1M装置边缘等离子体特性研究

边缘和芯部等离子体的同时控制对优化托卡马克等离子体性能是重要的。边缘等离子体密度、温度和空间电位等通常采用朗缪尔静电探针测量,而旋转速度可用马赫探针测量。好的加料技术对于获得高性能等离子 体也很重要。在HL－1M装置上已开展了8发弹丸注入和分子束注入（MBI）加料实验,它能使等离子体产生中空的温度和电流密度分布,并容易获得高密度和良好的约束。本文主要介绍在低杂波电流驱动（LHCD）、多发弹丸注入和MBI三种典型放电中边缘等离子体参数的测量结果。     

关于HL—1M马赫探针及其诊断数据处理

在简要回顾了马赫探针主要物理模型的基础上,论述了ＨＬ－１Ｍ装置的马赫探针诊断。分析表明,马赫探针阵列设计中的问题和对非平行流数据处理物理模型上的问题,导致处理所得物理实验数据失去意义,为了获得可靠结果,建议改进探针阵列设计,并采用正确数据处理方法。     

激光吹气技术在HL—1M等离子体中的应用

本文叙述了在ＨＬ－１Ｍ中用激光吹气技术进行的金属杂质实验及杂质输运特性的研究。     

HL—1装置等离子体位置反馈控制

本文简述了用位移做反馈控制信号,用非线性二位调节器组合前馈环节,控制厚钢壳(厚度d=5cm)外的垂直场和水平场线圈电流,在HL-1装置上实现了等离子体位置反馈控制的情况。当铁芯不饱和时,在水平和垂直两个方向上均可控制等离子体位置在±2mm之内。     

HL—1装置等离子体品质进展

本文概述HL-1装置等离子体品质参数空间在1985—1988年的进展及其与装置各项技术改造措施和等离子体基本参数(因素)之间的内在联系.     

HL—1装置的金属杂质沉积实验

采用立体探针与二次离子质谱计（ＳＩＭＳ）分析相结合，对ＨＬ－１装置刮削层空间的杂质沉积特性和分布规律进行了实验研究。测量了在石墨活动孔栏条件下，立体针表面杂质沉积特性和分布规律进行了实验研究。测量了在石墨活动孔栏条件下，立体探针表面杂质沉积的径向分布，纵向分布，极向分布和Ｈ＾＋剖面分布。并讨论了实验结果。     

HL—1M装置第一壁的硅化和锂涂覆

用ＳｉＨ４与Ｈｅ混合气体辉光放电和真空室原位蒸锂并借助Ｈｅ辉放放电的等离子体气相沉积法，对ＨＬ－１Ｍ装置的内壁，分别进行硅化和锂涂覆。     

HIREFS谱仪在类氖钛软X射线激光中的应用

 介绍了掠入射高分辨平焦场HIREFS（High Resolution Erect Field Spectrometer）谱仪的主要结构和性能。采用预脉冲实验技术，使用该谱仪对线聚焦条件下钛靶的轴向空间分辨谱进行了研究，得到了类氖钛32.6nm软X射线激光强线的空间分布信息。     

一种新的可调频等离子体辐射源

本文介绍了一种频率连续可调的等离子体辐射源。它是利用波与相对论等离子体前沿相互作用产生多普勒频移来产生辐射的。针对ＴＥ波与圆波导内低密度等离子体前沿相互作用，本文推导了所产生的辐射脉冲的上移频率、反射效率、传输效率和脉冲长度等计算公式。     

D. CCD视频技术、等离子体诊断和脉冲辐射摄影

本文对CCD摄象技术、等离子体诊断和脉冲辐射摄影的国内外最新发展作了评述,并涉及到在高技术领域的应用。     

X射线激光在箔靶等离子体中传播过程的解析研究

 对激光辐照箔靶产生的等离子体中X射线激光的传播和放大过程进行了解析的分析。在R.A.London物理模型的基础上, 用解析的方法描述了抛物线型电子密度分布增益纵剖面中X射线激光传播和放大过程的物理实质。指出了用最陡下降法求出的解析解中的误差, 并给出了折射长度的临界值。     

高温高压下氮化镓陶瓷体的制备

 在高温高压条件下，实验成功实现了氮化镓的烧结。首次将氨压应用到陶瓷体的烧结中，解决了GaN的分解、原料中残余的氧化物等问题，提高了烧结体的结晶度。研究了在氨压条件下温度对烧结致密度的影响。     

带电粒子在高温等离子体中的减速

本文利用考虑三体效应的量子等离子体动力学方程,推导了带电粒子在高温等离子体中减速公式。对氚核在LiD等离子体和氦核在DT等离子体中的减速作了数值计算,并与其它方法计算结果进行了比较。     

正入射软X-射线显微成像系统聚光镜设计

 依据正入射软X 射线显微成像系统对聚光镜的要求, 论述了采用掠入射聚光镜是最佳选择。在分析聚光镜几何参数的基础上, 决定了确定椭球面聚光镜的方法。在考虑材料反射特性和实际制作椭球面镜方法的同时, 确定了要研制的高分辨率显微成像系统用聚光镜的结构参数。     

正入射软X-射线显微成像系统聚光镜设计

依据正入射软X 射线显微成像系统对聚光镜的要求, 论述了采用掠入射聚光镜是最佳选择。在分析聚光镜几何参数的基础上, 决定了确定椭球面聚光镜的方法。在考虑材料反射特性和实际制作椭球面镜方法的同时, 确定了要研制的高分辨率显微成像系统用聚光镜的结构参数。     

托卡马克KT—5B上有关等离子体温度和密度的几项诊断

等离子体温度和密度的诊断是聚变研究不可缺少的重要方面。本文概要叙述KT-5B托卡马克实验中与等离子体温度和密度有关的几项诊断,说明其特点,对已获得的结果作了初步分析。     

等离子体高频不稳定性的高阻抗探针测量

采用高阻抗探针，测量了热电子等离子体的高频扰动，扰动频率与外磁场的关系及爆发区域匠实验观察表明，高频扰动为离子漂移回旋不稳定性。