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相场方法及其在晶体生长中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
相场方法已被发掘出用于直接求解时的自由边界问题-著名的斯特藩方程。该方法作为晶体生长过程中模拟复杂图形成图的计算工具,已呈现出强有力的生命力。目前的研究在于努力发展精巧的计算技术,以便于晶体生长和金属凝固过程进行了理论模拟,而这些技术将有可能方法地应用于工业流程。相场方法之所以具有吸引力,基于如下事实:在计算机模拟过程中,即可避免对于边界实时追踪,又不需要反复判别是否满足显式边界条件。在过去的10年中,它已逐步被用于研究晶体生长的基础课题。诸如;热质输运,晶体生长动力学,二维和三维枝晶生长,图形选择,生长形态和显微结构等。本文对相场方法进行评述,同时给出其最新应用结果。 相似文献
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采用垂直坩埚下降法生长出黄棕色ZnMoO4晶体,通过X射线粉末衍射和差热分析证实了所获晶体的结晶物相和熔融特性;测试了晶体试样的紫外可见透射光谱和光致发射光谱及其发光衰减时间,就晶体试样在21~300K温度范围的变温发光特性进行了系统表征.结果表明,所获晶体试样在可见光区具有良好光学透过性,在紫外光激发作用下,该晶体具有发光峰值位于黄橙光区的荧光发射;证实了该晶体的发光性能随同环境温度呈现明显规律性变化,在100 K低温下该晶体具有最大的相对荧光强度,其发光衰减时间约10 ms. 相似文献
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三硼酸锂(LBO)晶体生长基元与形貌 总被引:2,自引:0,他引:2
本文采用称重法研究了LBO晶体中的生长速率与溶液过饱和度之间的关系,在盯同过饱和度的条件下,同一晶体的不同界面上出现了粗糙化相变和二维成核的不同生长机制,这种现象用负离子配位体生长基元的观点得到了圆满的解释。通过对溶液结构的测定,证实了溶液中存在着B-O3三角形和B-O4四面体结构。它与晶体中的配晶位结构相同喧两种配位体形成的(B3O7)^5-与晶体中的络阴离子环相当。环状络阴离有两个非对称分布的 相似文献
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对Pb-I系统L2+L3相的分层熔体在结晶过程中发生的相变进行了研究.结果表明,在富Pb配料的PbI2熔体凝固过程中,PbI2晶粒的析出和富余Pb的沉积是各相间的动态交换,结晶后富余的Pb将以单质的形式凝固于单相PbI2晶体底部.据此,设计出特殊结构的石英生长安瓿,采用垂直Bridgman法生长出尺寸为10 mm×20 mm、完整性好的PbI2晶体.XRD分析结果表明该晶体为2H结构,P3ml空间群,EDX分析结果表明沉积于籽晶袋球泡中的Pb含量为100 at;,晶体生长实验的结果与Pb-I系统的相变分析一致. 相似文献
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采用MoO3、V2O5和PbF2为助熔剂,在坩埚下降法生长炉中研究了ZnO的析晶行为和晶体生长.结果表明,对于M0O3-ZnO高温溶液体系,下降或降温过程中首先析出ZnO,但随着温度继续下降,析出了ZnMoO4晶体;对于V2O5-ZnO体系,通气速率为1.5 L/min时底部出现5mm厚的绿色ZnO多晶,无法获得单晶;对于PbF2-ZnO体系,自发成核获得了10 mm × 10 mm×0.7 mm的ZnO晶体薄片,在2 L/rain通气速率下诱导成核生长出φ25mm×5 mm的ZnO单晶. 相似文献
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掺质KTP型晶体生长与性能研究 总被引:5,自引:1,他引:5
采用高温溶液法生长了含掺质离子Zr4+,Ga3+的单掺和双掺系列KTP型晶体.晶体生长过程中发现Ga掺入溶液后,体系更加稳定,容易生长出光学质量的晶体;而Zr掺入溶液后体系稳定性降低,晶体生长较困难.用等离子体发射光谱测定了各掺质离子在晶体中的含量,计算出掺质离子的分配系数,发现生长体系中Ga无论是在高掺入量还是低掺入量的情况下,Ga在晶体中的含量都十分稳定.测定了晶体的晶胞参数、紫外-可见-红外吸收光谱,测定的结果发现,晶胞参数均变化不大,在吸收光谱中Ga:KTP在可见光谱区有少量的光吸收,而Zr:KTP晶体是无色透明的.通过粉末倍频实验发现,Zr的掺入有助于晶体倍频转换效率的提高.通过晶体c轴向离子电导率的测试发现,Ga的掺入使c轴向电导率降低了大约3个数量级.双掺Zr和Ga的晶体是性能更为优良的掺质KTP型晶体. 相似文献
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采用直接合成方法无法得到纯相的碲镓锂( LiGaTe2)多晶原料,因此提出了两步合成法进行LiGaTe2多晶原料合成,即先合成二元相Ga2Te3,再以Ga2Te3、Li、Te为原料按化学计量比配料在较低温度(850℃)下合成纯相的碲镓锂多晶料,并对具体的反应机理进行了讨论.对所得碲镓锂多晶料进行了XRD分析,结果显示合成的多晶为单相高纯LiGaTe2.差示扫描量热分析(DSC)表明,LiGaTe2的熔点为674.78℃.初步开展了LiGaTe2晶体的生长研究,对晶体生长结果进行了探讨. 相似文献