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介绍微通道板电子透射膜在三代微光像增强器中的作用,推导电子透射膜死电压的理论表达式,测量电子透射膜的电子透过特性,并进行初步分析和讨论。 相似文献
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微通道板(Microchannel-plate,MCP)防离子反馈膜是负电子亲和势光电阴极微光像增强器的特有标志,其主要作用是有效阻止反馈正离子轰击阴极以提高器件工作寿命。微通道板防离子反馈膜的厚度决定了其对电子透过、离子阻挡能力的大小,电子透过能力直接影响图像的对比度和信噪比。根据微通道板防离子反馈膜阈值电压定义和测试原理,对微通道板不同厚度防离子反馈膜、不同工作电压条件下的阈值电压特性进行了测试研究。结果表明:防离子反馈膜的阈值电压随着膜层厚度的增加而增加,两者之间遵循正比的线性关系:Y=3.98X+50;在微通道板线性工作电压范围内,防离子反馈膜的阈值电压随微通道板工作电压的增加而降低,两者之间遵循反比关系。该研究对提高微通道板在负电子亲和势光电阴极微光像增强器中的使用性能具有重要意义。 相似文献
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微通道板防离子反馈膜新工艺 总被引:1,自引:0,他引:1
微通道板防离子反馈膜在三代象管中起到延长寿命的作用.本文叙述了微通道板防离子反馈膜的传统工艺和传统工艺对微通道板电性能的影响,提出了一种制备微通道板防离子反馈膜的新工艺.结果表明,新工艺没有给微通道板通道内表面带来碳污染,不影响微通道板电性能. 相似文献
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研究电子与薄膜的相互作用,给出电子通过薄膜后的角度分布表达式。利用弹性散射电子在薄膜中的空间几率分布密度表达式计算微通道板防离子反馈膜的调制传递函数。 相似文献
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防离子反馈膜是三代微光像增强器的重要组成部分,其质量对像增强器的寿命和视场起着至关重要的作用。研究了防离子反馈膜质量对像增强器视场的影响。选取具有典型缺陷的防离子反馈微通道板(micro-channel plate,MCP),对防离子反馈微通道板在工作时的视场和防离子反馈膜质量进行分析,获得了防离子反馈膜的缺陷对微光像增强器工作时视场的影响。分析得到防离子反馈膜制备过程中缺陷产生的原因,并初步提出缺陷的解决方案,对后续制备出高质量防离子反馈膜有着非常积极的作用。 相似文献
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一种玻璃成分优化的微通道板 总被引:3,自引:1,他引:3
降低微通道板(MCP)的离子反馈噪声、提高像增强器的成像质量和工作寿命是MCP玻璃成分优化研究的主要目标,指出通过调整碱金属氧化物的引入种类和总量,并采用高温氢还原工艺获得一种玻璃成分得到优化的MCP,可提高玻璃的转变温度,耐500℃以上的高温烘烤且电性能相对稳定。该方法改善了通道内壁表面结构和MCP的耐电子冲刷能力,降低了气体吸附量且易于去除气体。文章最后给出了优化MCP玻璃成分所需开展的工作:在玻璃成分优化上增加SiO2的引入量,调整芯皮玻璃的温度粘度匹配及酸溶速率比,以及开展体导电玻璃MCP和硅MCP的研究。 相似文献
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微通道板电子透射膜工艺的AES研究 总被引:3,自引:2,他引:1
用冷基底溅射方法和静电贴膜方法分别在微通道板表面制备了电子透射膜,采用俄歇电子能谱(AES)研究了两种工艺制备的微通道板电子透射膜的薄膜成分,微通道板电子透射膜工艺失败微通道板通道表面的成分和通道内壁的成分随深度的变化. 结果表明,冷基底溅射方法制膜工艺的失败对MCP造成了严重的碳污染,污染的MCP不可回收;静电贴膜方法制膜工艺的失败对MCP通道表面没有明显影响,MCP可回收利用. 相似文献
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微通道板离子阻挡膜对三代像管分辨率的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
分析传统的微通道板离子阻挡膜对三代像管分辨率的影响,指出离子阻挡膜衰减碰撞通道壁的一次电子数及其工艺引起的通道内壁碳污染是导致带膜三代像管分辨率下降的主要原因,提出降低离子阻挡膜对三代像管分辨率影响的主要技术途径。 相似文献
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介绍微通道板(MCP)防离子反馈膜在Ⅲ代微光像增强器中的作用,指出微通道板防离子反馈膜的制备工艺对微通道板电性能的影响,提出清洗带膜微通道板的工艺方案,测量清洗前后带膜微通板的电学特性。 相似文献
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叙述微通道板玻璃的电阻率和其氢原处理后的表面电阻率以及表面电阻率的影响因素。按照玻璃钢络结构观点并就微通道板制造工艺中出现的电阻率差异进行了分析。最后,给出了改进措施。 相似文献
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用SiC薄膜作防氚渗透阻挡层的研究 总被引:7,自引:0,他引:7
采用分步偏压辅助射频溅射法在316L不锈钢表面制备SiC薄膜,作为聚变堆第一壁及包层结构材料的氚渗透阻挡层,扫描电镜观察表明,制备的膜致密,均匀,且与基体结合牢固。X射线衍射分析表明,膜具有(111)面择优取向的β-SiC微晶结构。傅里叶变换红外光谱分析发现,对应于β-SiC的Si-C键存在伸缩振动吸收峰,采用中间复合过渡层技术,可以提高SiC膜与不锈钢基体的结合强度。测量了500℃时带有SiC膜的316L不锈钢的氚渗透率,与表面镀钯膜的316L相比,氚渗透率减低因子(PRF)值达到10^4以上,溅射时衬底偏压和射频功率要影响膜的结构,从而影响PRF值,根据分析结果,从不同的膜制备工艺中初步筛选出了合适工艺。 相似文献
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