马兜铃酸在钴离子注入修饰碳纤维电极上的电化学行为及其应用

马兜铃酸在 0 0 8mol LNa2 HPO4 KH2 PO4 溶液 (pH 6 82 )中 ,于钴离子注入修饰碳纤维电极 (Co CFUE)上 ,产生一个具有电催化性质的还原波。还原波峰电位为 - 0 80V(vs.SCE)。在此电极上 ,马兜铃酸的电化学反应过程是准可逆的。用扫描电子显微镜 (SEM)和俄歇电子能谱 (AES)两种表面技术对钴离子注入碳纤维和普通碳纤维表面进行表征 ,证明由于Co离子的注入 ,改变了碳纤维基体的性质 ,催化了马兜铃酸的还原。该波的一阶导数峰电流与马兜铃酸的浓度在 1 6× 1 0 -7～ 1 4× 1 0 -4 mol L范围内呈线性关系 ,检出限为 7 6× 1 0 -8mol L。用于马兜铃生药的测定 ,回收率在 97 5 %～ 1 0 3 3%之间。     

阿霉素在钴离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用

阿霉素在０．１ｍｏｌ／Ｌ ＨＡｃ－ＮａＡｃ（ｐＨ４．６２）缓冲溶液中用注入钴的修饰玻碳电极为工作电极进行伏安测定,得到一良好的还原峰;Ｅｐ＝－０．５２２Ｖ（ｖｓ．ＳＣＥ）。峰电流与阿霉素浓度在１．４×１０＾－６－１．４×１０＾－６ｍｏｌ／Ｌ和１．４×１０＾－６－５．６×１０＾－５ｍｏｌ／Ｌ范围内呈线性关系,。     

辅酶I在钴/玻碳离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用研究

辅酶I(NAD)在 0 .0 0 5mol/LTris 0 .0 1mol/LNaCl(pH =7.0 )缓冲溶液中 ,在Co/GC离子注入电极上有一良好的伏安还原峰 ,峰电位Ep=- 1 .0 7V (vs .SCE)。其峰电流与辅酶I (NAD)的浓度在 5 .0× 1 0 -5～ 1 .0×l0 -3 mol/L范围内呈线性关系 ;检出限为 2 .5× 1 0 -5mol/L ;回收率在 98.8%～ 1 0 1 .9%之间。用线性扫描和循环伏安法等方法研究该体系的电化学行为 ,实验表明 :该体系具有吸附性和催化性的不可逆过程。根据Laviron理论 ,求得电极表面反应速率常数Ks=0 .0 77/s;电子转移系数α =0 .4 35。     

氨甲蝶呤在Co/GC离子注入修饰电极上电化学行为及其应用研究

氨甲蝶呤在0.1mol/LHAc-NaAc(pH=4.96)缓冲溶液中,用Co/GC离子注入修饰电极进行伏安测定,得到一良好的还原峰,峰电位为-0.95V(vs.SCE).峰电流Ip与氨甲蝶呤的浓度在2.2×10^-7～8.8×10^-6mol/L范围内呈线性关系。检出限为1.1×10^-8mol/L.建立了测定氨甲蝶呤的新方法,可用于实际样品的测定,回收率在98.9%～106.2%之间。用线性扫描和循环伏安法研究了体系的电化学行为及电极反应机理。实验表明,氨甲蝶呤的还原为不可逆吸附过程,并伴随两个电子和两个氢离子参与电极反应。用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)等表面分析技术对Co离子注入修饰电极的表面元素组成及深度分布等进行测定,表明Co离子确被注入到玻碳表面。扫速对催化效率的影响实验证明体系存在催化作用。     

吡柔比星在钴离子注入修饰微电极上电化学行为及其应用

吡柔比星在0.1mol/LHAc-NaAc(pH=5.05)缓冲溶液中,用Co离子注入修饰碳纤维微电极进行研究,得到一良好的还原峰,峰电位Ep=-0.520V(vs.SCE).峰电流与吡柔比星浓度在1.0×10^-7～6.0×10^-6mol/L范围内成线性关系,检出限为5.0×10^-8mol/L.用于病人尿样测定,回收率在91.6%～106.7%之间.吡柔比星的还原为可逆吸附过程,伴随着两个电子、两个氢离子参加电极反应.用扫描电子显微镜(SEM)和俄歇电子能谱(AES)两种表面分析技术对Co离子注入修饰微电极的表面状况、表面元素组成及深度分布进行测定.实验表明,Co离子确实被注入到碳纤维表面上.扫速对催化效率的影响实验证明体系存在催化作用.     

舒乐安定在铂离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用

舒乐安定在0.1 mol/L NH3-NH4Cl缓冲溶液(pH 9.40)中,用线性扫描伏安法,在Pt/GC离子注入修饰电极上,形成一良好的线性扫描伏安还原峰,峰电位Ep=-0.70V(vs.SCE)。其峰电流与舒乐安定浓度在3.0×10-9-1×107和1×10-7-1.5×10-6mol/L范围内呈线性关系,相关系数均为0.9999,检出限为3.0×10-9mol/L。并用于片剂的测定,回收率在96.5％～98.5％之间,结果是可靠的。用循环伏安法研究了体系的性质。实验表明,电极过程为不可逆吸附。用AES、XPS和SEM等表面分析方法证明,Pt离子确实注入到玻碳基体电极表面,Pt以原子态存在,催化了舒乐安定的还原。     

氯霉素在纳米钴修饰玻碳电极上的电化学行为及测定研究

研究了氯霉素在纳米钴修饰玻碳电极上的电化学行为及测定.实验结果表明,在0.3 mol/L NH3-NH4Cl(pH10.0)缓冲溶液中,氯霉素在裸玻碳电极或纳米钴修饰电极上均发生不可逆还原反应,但与裸玻碳电极相比,纳米钴修饰电极对氯霉素的还原具有明显的增敏作用,灵敏度增加约6倍.对支持电解质、修饰剂用量等各种实验条件进行了优化.测得峰电流Ip与氯霉素浓度在5.0×10(-6)～1.2×10(-4)mol/L范围内呈良好的线性关系,相关系数为0.997,检出限为3.0×10(-7)mol/L.利用优化后的条件对氯霉素滴眼液进行了测定,测量值与标示值符合,回收率在98.7%～102.2%.     

米托蒽醌在离子注入修饰电极上的伏安行为及其应用

在0.1mol/LNH₃-NH₄Cl缓冲溶液(pH_9.5)中,米托蒽醌在镍离子注入修饰电极上有一灵敏的伏安还原峰,峰电位为-0.85V(vs.SCE).峰电流与米托蒽醌的浓度成线性关系.检出限为1.8×10^-8mol/L.研究了其伏安行为,并将该波用于尿样的测定.结果表明,还原过程为具有吸附性和催化性的准可逆过程.AES和XPS实验表明,Ni已注入到玻碳电极的表面,使电催化活性提高.     

氯霉素在Pt/GC离子注入修饰电极上的伏安行为及其测定

氯霉素在浓度为０．１ ｍ ｏｌ／Ｌ 的ＮａＯＨ 溶液中,Ｐｔ／ＧＣ 离子注入修饰电极上有一还原峰,峰电位为 － ０．８０ Ｖ（ｖｓ．ＳＣＥ）,氯霉素的浓度在 １．０×１０－ ５～１．０×１０－ ３ ｍ ｏｌ／Ｌ 范围内与峰电流成正比。检出限为５．０×１０－ ６ ｍ ｏｌ／Ｌ。已用于氯霉素眼药水的测定。用线性扫描和循环伏安法研究体系的性质。实验表明,是注入的Ｐｔ催化了氯霉素的还原;体系属准可逆过程。     

钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究

呋喃妥因 (NFT)在 0 .1mol/LHAc NaAc (pH 4 .0 )溶液中于钴 /玻碳 (Co/GC)离子注入修饰电极上产生一灵敏的伏安还原峰 ,峰电位为 - 0 .2 6V(vs.Ag/AgCl) ,峰电流与NFT浓度在 6 .0× 10 -8～ 5 .0× 10 -6mol/L范围内呈线性关系 (r =0 .9987) ,检出限为 1.0× 10 -8mol/L。用线性扫描伏安法和循环伏安法研究了NFT的伏安行为、吸附特性和电极反应机理。测定了电子转移数 (n =4 )、转移系数 (α =0 .5 8)和参与反应的质子数 (X =4 )等电化学参数。结果表明该电极过程为一具有吸附性的不可逆过程。该法用于片剂中NFT含量的测定 ,得到满意的结果。用标准加入法测得该法的回收率为 94 .0 %～ 98.5 %。     

Electrochemical Behavior of Adriamycin at Ni/GC Ion Implantation Modified Electrode

Ionimplantationisakindofnewmaterialsurfacemodificationtechnique.ltsapplicationoffersthefollowingn1arkedadvantagest(l)ItcanimpIantdifferentionsintodifferentmaterialsurfacesaccordingtodifferentdesiresandrequirementstomakemodifiedelectrodeswithcatalyticactivity;(2)TheimpIantedsurfacecausesdefectandpartialdislocationtoformmanyactivecenters,itscatalyticactivityismuchhigherthanthatoftherawmaterial;(3)TheionimplantationmodifiedelectrodehasgoodstabilityandreproducibiIity.Adriamycin(ADM)isthemostpro…     

Studies on the Electrochemical Behavior of Bleomycin at a Co/GC Ion Implantation Modified Electrode and Its Application

In a 0. 10 mol/L HAc-NaAc buffer solution (pH = 4. 59), a sensitive reduction peak of bleomycin was observed by linear sweep voltammetry at a Co/GC ion implantation modified electrode. The peak potential was-0. 73 V(iw. SCE). The peak current was proportional to the concentration of bleomycin over the range of 5.0 × 10-8-1.0× 10-6 and 1.0× 10-6-1. 0 × 10-5 mol/L with a detection limit of 2.0 × 10-8 mol/L. The electrochemical behavior of the reduction peak of bleomycin at the Co/GC modified electrode was studied by linear sweep and cyclic voltammetry and applied to the determination of bleomycin in urine. This method is simple, rapid and reliable. The reduction process is quasi-reversible. The experiments of AES and XPS showed that Co was surely implanted into the surface of GCE and the depth distribution of Co was in good agreement with Gooses normal distribution; the implanted Co at GCE improved the electrocatalytic activity.     

Studies on Electrochemical Behavior of Bleomycin and Its Interaction with DNA at a Co／GC Ion Implantation Modified Electrode

ＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎＩｏｎｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎｉｓａｋｉｎｄｏｆｎｅｗｍａｔｅｒｉａｌｓｕｒｆａｃｅｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎｔｅｃｈｎｉｑｕｅ .Ｒｅｃｅｎｔｌｙ ,Ｌｉｅｔａｌ .1ｈａｖｅｌｅｄｔｈｉｓｔｅｃｈｎｉｑｕｅｉｎｔｏａｎａｌｙｔｉｃａｌｃｈｅｍｉｓｔｒｙａｎｄｍａｄｅｍｏｄｉ ｆｉｅｄｅｌｅｃｔｒｏｄｅｗｉｔｈｐａｒｔｉｃｕｌａｒｆｕｎｃｔｉｏｎ .Ｉｔｈａｓｂｅｅｎａｐ ｐｌｉｅｄｔｏｓｔｕｄｙｔｈｅｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｂｅｈａｖｉｏｒｓａｎｄｔｈｅｄｅ ｔｅｒｍｉｎａｔ…     

尿酸在石墨烯修饰玻碳电极上的电化学行为及测定

以抗坏血酸为还原剂,采用微波水热法化学还原氧化石墨烯合成了石墨烯纳米片,制备了石墨烯修饰的玻碳电极(RGO/GCE),并采用循环伏安法、计时电量法、交流阻抗法等电化学技术研究了尿酸在该修饰电极上的电化学行为及其影响因素。结果表明,在PBS缓冲溶液中,尿酸(UA)在石墨烯修饰电极上的电极反应是一个受扩散控制的不可逆氧化过程。电极反应的转移电子数n=2,有效面积A=0.182 cm2,扩散系数D=1.51×10-6 cm2.s-1。UA的氧化峰电流与其浓度在5.0×10-6～1.5×10-4 mol/L范围内呈良好线性,r=0.995 7。利用该RGO/GCE修饰电极可以快速准确地测定UA,检出限为2.7×10-7 mol/L,加标回收率为98%～100%。     

水杨酸在改性钠基蒙脱土修饰电极上的电化学行为及测定

用十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)对钠基蒙脱土进行改性,并用红外光谱、X衍射对CTAB-NaMMT进行表征,制备了改性钠基蒙脱土修饰电极(CTAB-NaMMT-CMC/GCE),研究了水杨酸在该修饰电极上的循环伏安行为.结果表明,在pH 0.8的H_2SO_4-Na_2SO_4电解质溶液中,SA在1.19 V出现一明显的氧化峰,在40 ～400 mV/s范围内,其氧化峰电流与扫描速率的平方根(v~(1/2))呈良好线性关系,表明电极过程为受扩散控制不可逆过程.测得SA在该修饰电极上的反应电子数、质子数、传递系数及扩散系数分别为2、2、0.389、1.275×10~(-6) cm~2/s.方波溶出伏安法的氧化峰电流(I_(pa))与SA浓度在8.0×10~(-7) ～1.25×10~(-4) mol/L范围内呈良好的线性关系(r=-0.999 6),检出限为2.27×10~(-7) mol/L,加标回收率为96% ～101%.