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高功率808nm InGaAsP—GaAs分别限制结构的半导体激光器 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了研究分别限制结构InGaAsP-GaAs半导体激光器所得到的最新成果。利用引进的俄国技术,基于量子阱结构的InGaAsP-GaAs激光器,可用短时间液相外延技术制造。在GaAs衬底上制成的InGaAsP-GaAs分别限制结构的激光器,主要参数如下:发射波入λ=808nm,阈值电流密度J=300A/cm^2,对于条宽ω=100μm的激光器,连续功率为1-2W。 相似文献
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高功率梯度折射率分别限制异质结构InGaAs/AlGaAs应变双量子阱激光器 总被引:1,自引:0,他引:1
采用金属有机化合物气相淀积( M O C V D)方法成功地研制了具有两对梯度折射率( G R I N)异质结结构的 In Ga As/ Al Ga As 应变双量子阱激光器。该激光器的波长为 970~982 nm ,室温连续工作阈值电流密度为140 A/cm 2, 工作在0.9 A 时单面连续输出光功率为520 m W , 工作在2.0 A 时, 连续输出光功率为 1.49 W , 最高功率可达 2.4 W 。微分量子效率高达0.83 W / A。 相似文献
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采用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)方法成功地研制了具有两对梯度折射率(GRIN)异质结构的InGaAs/AlGaAs应变双量子阱激光器。该器的波长为970-982nm,室温连续工作阈值电流密度为140A/cm^2,工作在0.9A时单面连续输出光功率为520mW,工作在2.0时,连续输出光功率为1.49W,最高功率可达2.4W,微分量子效率高达0.83W/A。 相似文献
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通过对描述半导体激光器基本光波导方程的数值求解,分析了AlGaAs/GaAs分别限制量子阱激光器的光学限制特性,比较了不同缓变结构及多量子阱结构的光学限制因子。 相似文献
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为改善940 nm大功率InGaAs/GaAs半导体激光器输出特性,通过模拟计算了非对称波导层及限制层结构的光场分布,并参照模拟制作了非对称结构半导体激光器器件。采用低压金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长技术,获得了低内吸收系数的高质量外延材料,通过实验数据计算得到激光器材料内吸收系数仅为0.44mm~(-1)。进而通过管芯工艺制作了条宽100μm、腔长2000μm的940 nm半导体激光器器件。25℃室温10 A直流连续(CW)测试镀膜后器件阈值电流251 mA,斜率效率1.22 W/A,最大输出功率达到9.6 W,最大光电转化效率超过70%。 相似文献
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为改善940 nm大功率InGaAs/GaAs半导体激光器输出特性,通过模拟计算了非对称波导层及限制层结构的光场分布,并参照模拟制作了非对称结构半导体激光器器件。采用低压金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长技术,获得了低内吸收系数的高质量外延材料,通过实验数据计算得到激光器材料内吸收系数仅为0.44 mm-1。进而通过管芯工艺制作了条宽100 m、腔长2000 m的940 nm半导体激光器器件。25 ℃室温10 A直流连续(CW)测试镀膜后器件阈值电流251 mA,斜率效率1.22 W/A,最大输出功率达到9.6 W,最大光电转化效率超过70%。 相似文献
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采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱,通过优化生长条件和采用应变缓冲层结构获得量子阱,将该量子阱结构应用于1 054 nm激光器的制备。经测试该器件具有9 mA低阈值电流和0.4 W/A较高的单面斜率效率,在驱动电流为50 mA时测得该应变量子阱光谱半宽为1.6nm,发射波长为1 054 nm。实验表明:通过优化工艺条件和采用应变缓冲层等手段,改善了应变量子阱质量,该结果应用于1 054 nm激光器的制备,取得了较好的结果。 相似文献
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941nm2%占空比大功率半导体激光器线阵列 总被引:4,自引:3,他引:1
计算了半导体激光器的激射波长与量子阱宽度以及有源层中In组分的关系,确定了941nm波长的量子阱宽度和In组分.并利用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)技术生长了InGaAs/GaAs/AlGaAs分别限制应变单量子阱激光器材料.利用该材料制成半导体激光器线阵列的峰值波长为940.5 nm,光谱的FWHM为2.6 nm,在400 μs,50 Hz的输入电流下,输出峰值功率达到114.7 W(165 A),斜率效率高达0.81 W/A,阈值电流密度为103.7 A/cm2;串联电阻5 mΩ,最高转换效率可达36.9%. 相似文献
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本文首次报导了生长温度为550℃,以三甲基镓(TMGa)和三甲基铟(TMIn)为Ⅲ族源,用低压金属有机物气相沉积(LFMOCVD〕技术,高质量1.62um和1.3umInGaAsP及In0.57Ga0.43As0.98P0.04/In0.73Ga0.27As0.6P0.4量子阶结构的生长,并给出了1.55umGaAsP/InP分别限制应变量子阱结构激光器的生长条件,激光器于室温下脉冲激射,其阈值电流密度为2.4kA/cm2. 相似文献
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本文国内首次报道了LP-MOVPE法生长高质量的压、张应变交替InGaAsP多量子阱结构的研制过程及其材料的高精度X-ray双晶摇摆衍射曲线和荧光光谱特性表征.在此材料基础之上制作的宽接触激光器阈值电流密度小于300A/cm2(腔长800μm),平面掩埋条形结构激光器平面掩埋异质结(PBH)条形结构多量子阱激光器阈值电流13~15mA.经过双腔面镀增透射膜后,其TE模与TM模自发发射谱光强差为3dBm,呈现偏振补偿特性. 相似文献
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InGaAsP/InGaP/GaAs separate confinement heterostructure (SCH) single quantum well (SQW) laser structures have been obtained by an improved liquid-phase epitaxy (LPE) process. Wide-contact stripe lasers have been fabricated with threshold current density below 300 A/cm2 and cavity length of 800 μm. Finally, with the same grown wafers, 1-cm bar laser diode (LD) arrays are made with 150 μm wide stripes and a maximum fill factor of 30%. Continuous Wave (CW) power output of 20 W has been reached. 相似文献