半导体设备制造中的无尘生产技术

本文叙述了制造半导体设备采用无尘生产技术的必要性、好处及具体做法。     

无尘化设备

遵照伟大领袖毛主席的“批判地吸收外国文化”的教导,我们译载了下述文章。我们认为该文有几点可取之处,即严格的清洁卫生条件以及与此相应的设备,这对保证集成电路的成品率是有好处的。但由于资本主义社会制度所决定,所以文中有许多提法充满资产阶级牟利色彩,他们制订和采纳的标准也不完全符合我国情况,本着“洋为中用”精神,望同志们在阅读本文时批判地吸收。     

半导体生产测量设备的匹配

半导体集成电路生产涉及的工艺非常广泛、复杂。在线实时测量线上工艺品质指标是半导体集成电路生产的一个重要方面。测量机台的种类繁多，而且，通常同一类的机台数量也很多，尤其是在一个具有多条生产线的大厂（Virtual Fab，One Mega Fab，Uni-Fab）。     

半导体生产中的静电消除与空气电离化

在整个半导体制造过程中,微粒污染;静电放电损坏以及与此相关联的设备停机,是静电带来的三大问题.所以必须对静电加以控制.国际半导体发展路线图和SEMI标准提出了将静电控制在合适水准上的建议.静电控制方案包括了接地,静电耗散材料和空气电离化.为适应快速发展的半导体生产所带来的要求,空气电离器也在不断进行的变化.     

世界半导体生产设备投资大幅增长

世界半导体生产设备市场经历了去年的惨跌46%之后,今年将强劲反弹76%,达294亿美元。展望未来,2010～2014年间仍将以年均44.4%的高速度增长,达到359.7亿美元。预计2013年还会遇挫,总的增长趋势已稍见平稳,不如上个增长周期。     

半导体生产设备商看好台湾市场

尽管半导体价格在全球范围内急剧下跌,但半导体产业在台湾却前景乐观。半导体制造设备厂商及相关的国际咨询机构对台湾半导体市场看好。在1996年9月举行的台湾国际半导体设备及材料展览会(SEMICON Taiwan'96)上,与会的许多海内外半导体制造设备商及有关咨询机构曾明确指出台湾市场前景乐观。 据SEMI市场统计,1996年全世界半导体制造设备销售额增长了22％,总金额高达293亿元(参见图1)其中,29.2亿美元是在台湾成交的。与19     

世界半导体生产设备投资继续增长

SEMI(世界半导体设备和材料协会)最新报道称,2010年世界半导体生产设备投资比上年狂增148%,达395亿美元,其中获得两倍甚至三倍增长的国家和地区有中国大陆和     

半导体生产企业设备备件管理探讨

浅析半导体生产企业备品备件管理的目的性和内容,介绍备品备件的分类及重要备件缺乏时的应急措施等内容。以半导体行业中设备备件管理作为研究对象,对业内备品备件管理模式进行了探讨,并据此提出合理化建议。     

半导体柔性制造工厂

半导体柔性制造工厂电子工业部第十三研究所（石家庄０５００５１）党冀萍１半导体柔性制造随着微电子技术、计算机技术等高科技的飞速发展和军事武器装备更新换代周期的缩短，半导体产品制造面临着短周期、低成本、高质量的挑战。再加上我国市场经济逐步建立，市场竞争日...     

半导体生产中的超纯水

许多工业,龙其是制药业和电子工业,消耗的超纯水量与日剧增。虽然在这些工业中使用超纯水的原因不尽相同,但对超纯水质量标准的要求却大抵相同。当低功率 MOS 集成电路开始大量投产时,人们就认识到:通过对作功的晶体表面强去污便可改善这类 MOS 电路(例如手表电路)的工作可靠性和长期稳定性。这种想法就是最大限度地清除离子,特别是碱金属和重金属离子,化学家证实了超纯水是一种最有效的去污剂。超纯水可认为是一种纯度达99.99999~+     

半导体设备中的粒子沾污

一、前言编辑部收稿日期，1994－12－18目前，LSI技术正在以惊人的速度向前飞速发展，工艺技术水准业已达到0．5μm～0．25μm程度。从试制64MbDRAM现已转向256MbDRAM。至90年代，该领域的产品水平已达到4Mb程度。在这样一个日新月异的大发展时代，人们一面在寻求提高功能，一面又要努力降低成本。从64Mb产品所使用的0．25μm工艺来看，工艺技术中的物理、化学临界之障碍相当多，特别是对于器件技术来说，过去的按比例缩小规则业已不能适应现在的技术发展要求，人们开始对器件结构从根本上去开发。针对上述值况，人们开始向下述技术界…     

半导体设备中的抗干扰技术

简要分析半导体设备中干扰产生的原因、危害及一般抗干扰的原则;从干扰形成的三要素入手,重点介绍半导体设备设计、制造及维修中一些行之有效的抗干扰的方法。     

半导体微细加工中的刻蚀设备及工艺

与传统湿法腐蚀比较,干法刻蚀具有各向异性、对不同材料选择比差别较大、均匀性与重复性好、易于实现自动连续生产等优点。目前,刻蚀技术已经成为集成电路生产中的标准技术,干法刻蚀设备亦成为关键设备。本文对半导体生产中刻蚀的原理、分类,结合生产实际对刻蚀工艺进行了较系统的论述,并介绍了随着硅片尺寸的增大,工艺线条进入亚微米级时代,相应刻蚀设备的发展趋势。     

’96北京国际电子生产设备及半导体工业展览会

为了推动我国电子基础行业的发展,电子工业部将于1996年4月23日至26日在北京中国国际展览中心举办’96北京国际电子生产设备及半导体工业展览会。目前该展览会的承办单位中国国际贸易促进委员会电子行业分会及新加坡励展博览集团正在积极作好组织国内外参展商的筹备工作。     

半导体生产设备公司进入中国众生态

众所周知，现在半导体产业正向中国加速转移，原因之一是中国将逐渐成为半导体巨大消费国，二是从成本考虑，中国很有吸引力成为生产据点。器件的进入地区首先是包括上海江浙在内的长江三角洲，其次是包括京津在内的京津地区，三是包含粤闽两省的广东地区。而作为生产设备企业，对进入中国抱有怎样的事业战略？各公司的判断不一，未可一概而论。日本《VLSI Report》对有关公司作了问卷调查，概括归纳如下：Advantest 公司(1)积极进入中国？ 积极，因为中国今后将成为半导体消费大国。将建设巨大代工企业。(2)开展什么业务据点？ 销售支…     

掌握半导体生产设备未来持续发展的关键

台湾省半导体产业产值去年达２１０亿美元,成为 　世界生产重镇之一,同年半导体设备市场规模也达到９３亿美元,超越韩、日、跃居世界第二,仅次于美国。但是,本地生产设备却只占５％,技术还卡在他人手里,成为未来发展的瓶颈。 半导体生产设备集精密机械、电子、电机、控制、光学、物理、化学、材料、软件于一身,产品量少而多样、高精度、高风险、尽管附加价值高,但生产为世界大厂所垄断,进入门槛很高,难度很大,故虽有发展空间,也必须找准定位,充分准备、战略技术对头,才能获得成功。 半导体生产设备某本上分为三类：①前道设…