缺位磷钨杂多阴离子PW_(11)O_(39)~(7-)电催化降解邻苯二甲酸二甲酯

以Keggin型缺位磷钨杂多阴离子PW11O379-(PW11)为电催化剂,邻苯二甲酸二甲酯(DMP)为模型污染物,详细研究了PW11对DMP降解的电催化作用。实验结果表明,在pH=2.5,E=-0.6 V和60 mL.min-1O2流速下,0.05 mmol.L-1DMP反应120 min的降解率达96%,总有机碳(TOC)去除约34%。DMP的电催化降解服从准一级反应动力学模型,准一级表观速率常数(kobs)与DMP的初始浓度有关,当DMP的初始浓度为0.05,0.2和0.3 mmol.L-1时,kobs分别为2.9×10-2,7.5×10-3和4.9×10-3min-1。     

缺位磷钨杂多阴离子PW11O7-39电催化降解邻苯二甲酸二甲酯

 以Keggin型缺位磷钨杂多阴离子PW₁₁O^7-₃₉(PW₁₁)为电催化剂,邻苯二甲酸二甲酯(DMP)为模型污染物,详细研究了PW₁₁对DMP降解的电催化作用。实验结果表明,在pH=2.5,E=-0.6 V和60 mL·min^-1O₂流速下,0.05 mmol·L^-1DMP反应120 min的降解率达96%,总有机碳(TOC)去除约34%。DMP的电催化降解服从准一级反应动力学模型,准一级表观速率常数(k obs)与DMP的初始浓度有关, 当DMP的初始浓度为0.05, 0.2 和0.3 mmol·L^-1时,kobs分别为2.9×10^-2, 7.5×10^-3和4.9×10^-3min^-1。     

缺位Keggin阴离子SiW11O39^8—的酯基锡杂多配合物的合成及性质

利用酯基锡与缺位Keggin结构阴离子SiW11O8-39反应,合成了8种新的杂多阴离子--有机锡配合物.M5[(R′OOCCHR″CH2Sn)(SiW11O39)]*xH2O(M=K+,(Me4N)+;R′=CH3-,CH3CH2-,n-Bu-;R″=H,CH3-),通过元素分析、IR光谱、UV电子光谱、1H NMR、TGA-DSC热分析等测试手段对标题配合物进行了表征和性质研究.     

缺位Keggin阴离子SiW11O8-39的酯基锡杂多配合物的合成及性质

利用酯基锡与缺位Keggin结构阴离子SiW11O8-39反应,合成了8种新的杂多阴离子--有机锡配合物.M5[(R′OOCCHR″CH2Sn)(SiW11O39)]*xH2O(M=K+,(Me4N)+;R′=CH3-,CH3CH2-,n-Bu-;R″=H,CH3-),通过元素分析、IR光谱、UV电子光谱、1H NMR、TGA-DSC热分析等测试手段对标题配合物进行了表征和性质研究.     

2∶18-硫钼杂多阴离子修饰电极电化学和电催化研究

以玻碳（ＧＣ）电极为基体制备２∶１８－硫钼杂多阴离子薄膜修饰电极（简称Ｓ２Ｍｏ１８修饰电极），并探讨了其电化学行为和电催化性能为杂多酸催化体系在电化学特别是电催化方面的研究和应用提供新的方法     

砷钼杂多阴离子薄膜修饰电极的电化学特性及其电催化活性研究

用电化学沉积法制备了As-Mo杂多阴离子修饰电极.在0.3mol/L H     

TiO2/N可见光光催化降解邻苯二甲酸二甲酯

采用氮掺杂的二氧化钛为催化剂,探索了可见光催化氧化降解邻苯二甲酸二甲酯(DMP)的研究.系统地考察了光催化降解反应中DMP的初始浓度、光照时间、催化剂的量、pH值等因素对邻苯二甲酸二甲酯(DMP)的降解效率及速率的影响;同时对其光降解动力学及光降解过程中的矿化程度进行了一定的分析.结果表明,只有在催化剂和光源同时存在的情况下,DMP才有比较好的降解效果.当DMP的初始浓度为10 mg/L时,在优化条件下,即光催化剂为量1 g/L,pH值为6.20时,在以500W氙灯下进行光照8h,其降解率可达到90%以上.此光催化降解反应过程符合一级反应动力学.     

含一缺位杂多阴离子有机金属Keggin结构化合物的合成与表征

利用相转移试剂[(CH3)4N]Br和[n C16H33(CH3)3N]Br,合成了3种含有机金属基团 RTi的杂多化合物.经元素分析、热重分析和红外光谱结果表明,所合成的化合物具有典型的Keggin结构,有机基团通过Ti—O—W键与一缺位杂多阴离子(α PW11O39)6-相连.探讨了所合成化合物在常见溶剂中的溶解性.     

缺位Keggin阴离子SiW_(11)O_(39)~(8-)的酯基锡杂多配合物的合成及性质

利用酯基锡与缺位Keggin结构阴离子SiW11O8-39反应,合成了8种新的杂多阴离子———有机锡配合物.M5[(R′OOCCHR″CH2Sn)(SiW11O39)]·xH2O(M=K+,(Me4N)+;R′=CH3—,CH3CH2—,n-Bu—;R″=H,CH3—),通过元素分析、IR光谱、UV电子光谱、1HNMR、TGA-DSC热分析等测试手段对标题配合物进行了表征和性质研究.     

PW11O39Fe(Ⅲ)(H2O)4-/有机陶瓷复合光催化材料制备及其性能研究

为利用太阳光除去水体中有机染料污染物,并且解决催化剂回收再利用问题,以SolGel法结合垂直提拉及锻烧等技术,制备了铁取代Keggin型磷钨杂多阴离子PW_(11)O_(39)Fe(Ⅲ)(H_2O)~(4-)(PW_(11)Fe)与有机陶瓷复合光催化材料。利用UV-Vis、FT-IR和SEM等手段对上述复合材料进行了结构表征和组成测定。通过水溶液中罗丹明B(RhB)的降解反应评价PW11Fe/有机陶瓷复合光催化材料的光催化活性,并系统研究了催化剂用量、煅烧温度等条件对光催化性能的影响。实验结果表明:当PW_(11)Fe的负载量为3.0 g时,50 mL 10μmol/L的RhB水溶液在400 W金卤灯照射120 min后,降解率可达98.6%。     

UV/O3氧化邻苯二甲酸二甲酯溶液研究

邻苯二甲酸二甲酯为环境优先控制污染物。本文采用紫外光—臭氧氧化法、单纯紫外光照及单纯臭氧氧化法处理邻苯二甲酸二甲酯废水。结果表明：单独紫外光照及单独臭氧化对邻苯二甲酸二酯防溶液的TOC去除率很低，紫外光催化臭氧化可加速有机物的矿化。UV/O3较单独臭氧化TOC由单独臭氧化的33％可提高到100％。在同样时间条件下，UV／O3、单独O3、单独UV三者对邻苯二甲酸二甲酯矿化作用由大至小为：UV／O3、O3、UV。     

纳米Fe_2O_3光催化降解邻苯二甲酸二正辛酯的研究

采用水热合成法,制备了具有中空状的氧化铁(Fe2O3)粒子,然后以卤素灯为光源,以邻苯二甲酸二正辛酯(DOP)水溶液为研究对象,详细探讨了Fe2O3的浓度、DOP的初始浓度、p H值及H2O2浓度等因素对DOP光催化降解效率的影响,并采用GC-MS联用技术对DOP的光催化降解机理进行了研究.结果表明,在不需添加H2O2时,当Fe2O3粒子添加量为100 mg/L、DOP初始质量浓度为20 mg/L及p H值为7时,DOP光催化降解速率最大;降解过程中首先从苯环支链开始降解,之后发生苯环开环,最终矿化为CO2和H2O.     

PW11O39Mn(Ⅱ)(H2O)5-/D301R异相体系的可见光催化性能研究

为了解决均相keggin型锰取代杂多阴离子PW_(11)O_(39)Mn(Ⅱ)(H_2O)~(5-)[PW11Mn]光催化剂在水溶液中难以回收利用的问题,选用D301R弱碱性阴离子交换树脂对其进行吸附,制备了PW_(11)Mn/D301R光催化材料。通过有机染料亚甲基蓝(MB)的可见光降解反应考察了PW_(11)Mn/D301R材料的光催化性能。实验表明,PW_(11)Mn/D301R在可见光照射下对MB有较高的光催化降解活性。此外,还系统考察了溶液中有其他阴离子存在时对光催化降解效果的影响,并提出了作用机制。本研究为高效利用太阳能去除水体有机染料污染物提供了一条新颖途径。     

Mn(Ⅱ)催化臭氧氧化去除水中邻苯二甲酸二甲酯的研究

进行Mn(Ⅱ）催化臭氧氧化去除水中邻苯二甲酸二甲酯的研究，分析催化剂用量，溶液pH值对邻苯二甲酸二甲酯降解效果的影响，结果表明我国采用Mn（Ⅱ）催化臭氧氧化邻苯二甲酸二甲酯是可行的。     

二氧化硅负载磷钨杂多酸钠光催化降解甲基紫

本实验研究了Keggin型杂多化合物Na3PW12O40／SiO2（二氧化硅负载的磷钨杂多酸钠）在紫外光的照射下催化降解有机染料甲基紫的效能。实验结果表明,催化剂用量不同,溶液的初始浓度,酸度不同则降解有机染料的效率不同。催化剂加入量的最佳值为0．09g／L;溶液的初始浓度为2mg／L时,降解的效果最佳;降解最适宜的初始酸度为pH=1。Keggin型杂多化合物Na3PW12O40／SiO2光催化降解甲基紫为一级动力学反应。     

活性染料X3B在磷钨酸和磷钨酸钾体系中的光催降解

研究了活性染料X3B在酸性的均相杂多酸(pH1.0)和中性的固体杂多酸盐水溶液(pH6.5)中的紫外光催化降解行为.在均相溶液中,主要考察了磷钨酸浓度对降解X3B的影响,并探讨了X3B的降解机理;在固体磷钨酸钾水溶液的光催化中,考察了电子清除剂H2O2对X3B降解的影响,发现电子清除剂的加入能加快X3B的降解.结果显示:杂多酸(盐)在光催化处理水中有毒污染物方面具有潜在应用前景.     

[SiCo（H2O）W11O39]6-在玻碳电极上的多层膜修饰及电化学行为

制备了包含杂多酸[SiCo(H2O)W11O39]6-(SiCoW11)和阳离子聚电解质--聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)的多层膜修饰电极,用循环伏安法研究了SiCoW11在酸性水溶液中的电化学行为及pH的影响,初探了反应机理.逐层的循环伏安行为表明膜的增长均匀,峰电流随膜层数的增加而增加,与其在溶液中的氧化还原行为相比,多层膜中的SiCoW11对BrO-3和NO-2体系的还原具有良好的电催化性能.