用固着磨料抛光光学玻璃

一、前言照相物镜、棱镜和滤光片等高精度光学零件在用古典法精磨或金刚石精磨片精磨后要进行抛光,抛光时要采用沥青、聚氨酯抛光模片等制作的抛光模并采用氧化铈、氧化锆等抛光粉。抛光工序是要去除前工序加工时所产生的变质层,并获得外观上没有缺陷、表面精度符合要求的光学表面。目前。使用金刚石精磨片的固着磨料精磨法正在逐步取代古典法精磨,而抛光工序也已开始试用固着磨料。     

大口径平面光学元件超精密加工技术的研究

为了解决激光核聚变装置中大口径平面光学元件的批量制造难题,将先进制造技术和传统抛光技术相结合,提出了一种新的工艺方法,即使用ELID(在线电解)磨削代替传统的铣磨和初抛工序,以提高生产效率。利用数控抛光将工件抛光至最终的面形精度,以提高生产效率和减少边缘效应。将连续抛光作为最终加工工序,使加工工件的表面粗糙度和波纹度达到工程要求。实验证明这一新的工艺方法是可行的。     

金刚石精磨过程的机理

1 引言普通的光学玻璃零件的表面加工工艺过程包括三个工序:即粗磨、精磨和抛光。最初,由散粒磨料来完成粗磨和精磨两个工序,到四十年代,用金属结合的金刚石磨轮为工具的铣磨机代替了散粒磨料的粗磨,但是,直到六十年代,用金属结合的金刚石工具还没有代替精磨工序中的散粒磨料。金刚石工具作为特殊的应用用于光学零件的精     

光学玻璃的金刚石研磨

一、绪言光学玻璃研磨加工可分为粗磨、精磨和抛光三个工序。粗磨的目的在于去除大量材料,使之接近所规定的形状,通常用金刚石磨轮进行加工;然而,精磨的目的则是要使被加工零件得到良好的形状精度和细腻的表     

化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工

 利用传统光学加工方法，采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD) SiC进行了粗磨、细磨加工；然后，利用颗粒直径从4 μm到1 μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光，发现SiC表面存在纳米级划痕；最后，改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光，表面粗糙度达到0.6 nm(RMS)，表面纳米级划痕得到很好改善，获得了较高表面质量的超光滑表面。     

应用高分辨率超微粒干板直接摄制分划镜的新工艺

本文介绍了一种在高分辨率的超微粒干板上直接摄制光学分划的高效率新工艺,新工艺可省去下料、粗磨、抛光等诸多工序,有明显的经济效益。     

离子束作用下的光学表面粗糙度演变研究

 为了获得超光滑光学表面,介绍了离子束作用下改善表面粗糙度的抛光方法,并通过相关的实验进行了验证。光学材料是典型的硬脆材料,在加工过程中的表面粗糙度要经历复杂的演变过程。离子束加工作为光学镜面加工中的最后一道工序,如果在修正面形的同时,能够有效地改善表面粗糙度,那么离子束加工的性能就可以得到更好的延伸。分析了离子束作用下的粗糙度演变机理,在此基础上提出了倾斜入射抛光和牺牲层抛光技术2种改善表面粗糙度的方法,并使用原子力显微镜进行了测量。实验结果表明：以45°倾斜入射抛光熔石英样件,其粗糙度由初始的0.67nm RMS减小到0.38nm RMS;涂上牺牲层的材料表面粗糙度由0.81nm RMS减小到0.28nm RMS,倾斜入射抛光和牺牲层抛光技术能够有效地改善表面粗糙度。     

光学玻璃的新式抛光法

<正> 一、前言光学玻璃(照相机透镜、棱镜等)的精磨工序,目前基本上已不采用散粒磨料,而采用固着磨料即金刚石精磨片。从而显著缩短了加工时间并改善了工作环境。与此同时在最后的抛光工序中,也试图采用固着磨料。也就是说,试图把氧化铈、氧化锆等用树脂固着起来进行抛光,以代替原来所用的氧化铈、氧化锆等抛光液和泡沫聚氨酯、沥青等抛光模。这种利用固着磨料的新式抛光法,有助于将来实现透镜加工自动化。本文将介绍利用本公司研制的抛光圆片(商品名为Serpet,音译为砂别脱)进行玻璃抛光实验的一些结果。     

光学零件制造工艺(二):表面粗糙度与破坏层的关系

在裂纹为玻璃研磨的主要机理的惰况下,表面粗糙度与破坏层深度有个恒定关系。在试验的条件范围内我们发现,金刚石固着磨料研磨的破坏层与表面粗糙凹凸层的深度比是6.2～6.4。比以前报导的散粒磨料础磨的值(3.7～4.0)要大。该常数值很有实用的意义。根据测出的表面凹凸层深度可准确估算出下道精磨或抛光工序必须去除的破坏层深度。     

西德的金刚石精磨

金刚石精磨在西德是最近二、三年发展起来的,进展也较快。采用金刚石精磨在光学玻璃工业中是一个新的工艺。它是在抛光之前的一道精密工序,其玻璃的切削过程应考虑到粗磨的公差。使用金刚石模具进行精磨,可以产生光滑的表面,得到的光圈在N=2以内。当精磨余量在0.08～O.10mm的范围内时,精磨的时间只要几秒钟,很少超过两分钟的,一般都在一分钟以内完成。而抛光时,在抛光余量为5～10μ的范围内,不需要破坏精     

正确使用QA8510型透镜定心磨边机

<正> 磨边是光学透镜冷加工中最后一道加工工序。若透镜在磨边这道工序报废,则前面所有工序:开料、粗磨、精磨、抛光等就会前功尽弃,造成很大浪费。对一个直接操作这种机床的工作者来说,正确使用该机床能做到优质高产低消耗的研讨是有现实意义的,本文就有关问题向读者作一介绍; QA8510型机床是用机械定心法磨削透     

列曼棱镜型料精化

<正> 列曼屋脊棱镜属中等精度光学零件,其加工工序较长,工艺技术有一定难度。我厂自一九七二年至一九八四年,平均每年出品约12500件。通过十余年的实践,在工程技术人员和工人师傅共同努力下,不断改进棱镜加工工艺,经济效益日逐提高。其中较为突出的有:使用型料及型料精化;粗磨加工铣磨化;铣槽磨轮改进;抛光光胶盘的改进等。     

关于锗单晶抛光工艺的点滴体会

锗单晶具有良好的透光性能,而且不易潮解,在红外光学仪器中,常用作光学元件.但是锗单晶质脆较软,加工时要达到比较高的光洁度和较好的平面度比较困难,需要采取一定的措施.由于我们单位科研任务的需要,自己加工了一些锗元件(主要是平行平面锗镜),进行了铭单晶的抛光工艺,现介绍如下,供同志们参考.1.表面细磨 锗单晶磨砂与光学玻璃磨砂差不多.由于锗的硬度较低,在用金钢砂细磨时,表面磨得越细越均匀越好,最后的磨料采用303#-304#.为了保证较好的平面度,最后要在玻璃平板上采用手工细磨几分钟.2.抛光 锗另件的抛光所用的辅料和抛玻璃是不大一样…     

金刚石工具抛光以及对抛光的认识

<正> 金刚石工具已被广泛地用于光学零件的粗磨、精磨和滚圆等加工工艺中。近十几年来,对使用金刚石工具抛光光学零件的研究也取得了一些进展,这不仅仅会使抛光工艺发生重要变革,而且对至今还尚未完全了解的抛光机理的研究也是一个推动。一、抛光工艺的变革玻璃光学零件的生产工艺虽然在粗磨成形     

细粒度金刚石磨轮在粗磨加工中的应用

金刚石微粉磨具在光学冷加工中得到了越来越广泛的应用,但在前几年,使用金刚石磨具进行粗磨加工,对表面光洁度和边缘差要求比较高的零件,却还不能达到粗磨完工的要求。为了解决这个问题,把手磨这一道工序省掉,我们试用~#180粒度的磨轮,在铣磨效率基本不降低的前提下,做到了一次铣磨完工。一、磨具和机床设备1.磨具。~#180金刚石磨轮,浓度100%,青     

超薄光学元件精密加工关键技术

针对超薄光学元件在加工过程中因重力和磨头产生应力形变的特点,提出了一种高效、先进的超薄光学元件综合加工方法。该方法综合运用了精密铣磨、精密抛光、离子束修形等先进技术进行面形控制。在铣磨阶段采用受力分析和误差补偿的方法降低了元件变形引入的面形误差;在抛光阶段通过气囊抛光和沥青抛光的迭代实现了面形快速收敛;在离子束加工阶段充分利用其非接触、无应力的加工特点实现了高精度面形修正。实验选择径厚比为34(边长152 mm,厚度6.35 mm)的方形融石英材料进行加工实验。结果表明:在铣磨、抛光、修形阶段的各项指标都达到了精密光学元件的加工水平,最终的面形精度为PV=25 nm,RMS=1.5 nm。该加工方法可以广泛应用于超薄光学元件的高精度加工。     

抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响

减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响;抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间而变化;抛光过程中,当保持抛光液处于微碱状态,且离抛光粉的等电离点较远时,抛光元件表面具有较小的粗糙度。     

透镜单片加工高效生产的研究

本文以建立百花相机第一镜片的单片加工高效生产流水线为依据,阐述了以“铣磨-高速金刚石丸片精磨-固着磨料抛光”为主体工序的高效生产的基本原理和加工全过程。着重介绍生产中的主要工艺参数,分析高效生产中影响产品质量的可能因素。     

光学透镜单片聚胺脂抛光

<正> 在光学冷加工中,聚胺脂作为抛光材料充分显示了其效率高、费用低的优点。但是在成盘加工中,上盘下盘等辅助工序仍然占用了大量的人力物力。能否用聚胺脂进行单面抛光,取消上下盘工序,进一步提高效率呢?我们在这方面进行了尝试,并取得了满意的结果。     

金属锥筒形非球面镜超光滑表面的加工方法

本文介绍了利用浸液抛光法和弹性可变形磨盘加工金属圆筒形非球面镜超光滑表面的方法和结果。其表面粗糙度由原来的Ra0.01～Ra0.02(传统抛光法)提高到目前的Ra0.002。