流动注射（FI）－在线柱预富集ICP－AES体系中的去溶效应研究

本文设计了一种简易的加热／冷凝去溶装置，并使之与流动注射（ＦＩ）－柱预富集－ＩＣＰ－ＡＥＳ体系联接。研究了在不同情况下进样体积、去溶温度、载液流速等对分析信号强度、检出限和精密度的影响，并与非去溶体系相比较。结果指出，去溶温度为１２０℃时，体系的去溶效率为３４．２％，进样效率为７２．５％；方法的检测限比非去溶体系改善近７倍。实验结果还表明，ＦＩ－柱预富集－去溶ＩＣＰ－ＡＥＳ体系获得了ｎｇ／ｍｌ～亚ｎｇ／ｍｌ级的检出限，可望用于超痕量组分的测定。     

ICP—AES分析中干扰及其校正方法的进展（Ⅱ）

本文对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰继续进行综述，本文继（１）而继续对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰进行综述。     

流动注射在线萃取-有机相ICP-AES法测定矿石中的痕量金

提出了一种流动注射在线萃取－有机相ＩＣＰ－ＡＥＳ法测定矿石中痕量金的分析方法,研究了流动注射在线萃取与ＩＣＰ－ＡＥＳ法的联用技术,设计了在线萃取流路,优化了各项化学条件及流路参数。该方法操作简便,快速,检出限为０．００１μｇ／ｍＬ,相对标准偏差（ＲＳＤ）为３．４％,应用于矿石中痕量金的分析,获得满意的结果。     

专家系统在ICP—AES中的应用与发展

本文综述了专家系统在消除ICP-AES光谱干扰方面的应用和发展。由于专家系统本身的迅速发展和ICP-AES中对干扰机理以及对校正干扰的研究,建立一个ICP-AES的初级专家系统已经成为可能。综述了建立ICP-AES专家系统的几个必要条件,如专家语言,ICP-AES专家知识库,ICP-AES数据库和谱线库,推理机等,并根据专家系统在ICP-AES方面的应用现状,讨论了今后的研究重点。     

ICP—AES分析中干扰及其校正方法的进展（Ⅰ）

本文对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰，非光谱干扰及其校正方法的研究及应用的新进展进行了综述。     

电热蒸发—电感耦合等离子体原子发射光谱（ETV—ICP—AES）的基体…

本文研究了电热蒸发电感耦合等离子体原子发射光谱（ＥＴＶ－ＩＣＰ－ＡＥＳ）中氯化物，高氯酸等产生的干扰，并且与无火焰石墨炉原子吸收（ＧＦＡＡＳ）中这些基体的干扰作了比较，认为酸等产生的干扰，并且与无火焰石墨炉原子吸收（ＧＦＡＡＳ）中这些基体的干扰作了比较，认为ＥＴＶ－ＩＣＰ－ＡＥＳ的干扰比ＧＦＡＡＳ干扰小。本文还对这两种方法中干扰的差异作了一些探讨。     

矩阵投影算法用于校正ICP—AES中的光谱干扰

本文将矩阵投影算法应用于ＩＣＰ－ＡＥＳ中光谱干扰的校正，在有关文献方法基础上，对残差作了进一步的校正，并采用最优化技术确定背景光谱的最优解，因而提高了方法的准确度。对实际干扰体系的校正结果表明，本方法能够对ＩＣＰ－ＡＥＳ中比较复杂的结构背景以及谱线重叠干扰进行较为准确地校正。     

ICP—AES法同时测定麦饭石中的多种元素

本文阐述了用ＨＣｌ，、ＨＣｌＯ４及ＨＦ在高压溶样哭喊 内消化麦饭石，应用ＩＣＰ－ＡＥＳ法同时测定麦饭石中的１４种元素。本法的准确度及精密度均达到满意结果。方法简便，快速。     

ICP—AES中四十种常见元素光谱干扰的研究及校正

本文用Leeman Plasma-Spec等离子光谱仪对常见四十种元素的光谱进行了探讨,测定了其光谱干扰系数,并对干扰系数校正法进行了研究。