全息透镜的发展

<正> 由于全息术的发展和利用,出现了一种新型的成象元件,两个相干点源记录的全息图制成全息透镜。它的成象原理和制造工艺与普通透镜都不同。目前,国外在全息透镜的设计和制造方面进展较快,已经把全息透镜用于第三代夜视仪、     

先进光学制造技术进展

针对高功率固体激光发展的需求,总结了先进光学制造技术方面的研究进展。采用超精密制造技术提高了非球面等元件的加工精度和制造效率,并为解决低缺陷加工提供了技术途径。围绕面形误差控制,特别是中频波前误差控制,发展了多种确定性抛光技术。针对熔石英元件建立了去除-抑制模型及新的抛光技术,有效抑制了亚表面缺陷的产生。     

紫外熔石英元件高精度低缺陷控形控性制造技术研究进展

传统的紫外熔石英元件加工方法本身会引入各类制造缺陷,需要后期加工来消除前期加工带来的缺陷,限制了熔石英元件的加工质量和加工效率。针对这些问题,课题组提出了采用磁流变、离子束、保形光顺和流体动压抛光等可控柔体加工技术提升熔石英元件的加工效果,并开展了相关研究。主要介绍了课题组在关键技术上取得的重要进展,包括亚纳米精度表面控形制造技术、纳米精度本征表面控性生成方法、熔石英元件高精度低缺陷组合工艺与设备等一系列关键技术。通过探讨关键技术及其发展现状,为未来紫外熔石英元件高精度低缺陷制造技术的发展提供参考。     

抛光表面的亚表层损伤检测方法研究

光学元件磨削加工引入的亚表面损伤威胁着光学元件的使用性能及寿命,成为现阶段高能激光发展的瓶颈问题,特别是抛光表面光学元件的亚表面损伤检测已成为光学元件制造行业的研究热点和难点.本文结合光学共聚焦成像、层析技术、显微光学、光学散射以及微弱信号处理等技术,给出了基于光学共焦层析显微成像的光学元件亚表面损伤检测方法.分析了不同针孔大小对测量准确度的影响,并首次给出了亚表面损伤的纵向截面分布图.与腐蚀法比较结果显示:针对自行加工的同一片K9玻璃,采用本文提出的方法测得的亚表面损伤深度45 μm左右;采用化学腐蚀处理技术,对光学元件逐层刻蚀,观察得到的亚表面损伤深度50~55 μm.两者基本一致,进一步验证了本文采用的方法可以实现对光学元件亚表面损伤的定量、非破坏检测.     

什么是计算全息?

一、计算全息的意义 计算全息术是全息术的一个重要分支.六十年代初全息术开始发展后不久,计算全息术即随之出现.它与一般全息术(指光产生的全息)的区别庄于:全息记录与再现过程的一部分由计算机取代.根据所取代部分的不同,又可分为计算机产生的全息图和全息图的计算机再现两种,通常都简称为计算全息. 值得指出的是:计算机所取代的部分只是人对自然过程的一种模拟.正如计算全息的创始人Loh-mann所指出的那样:在一般全息术里,光波的传播完全按自然界的客观规律进行,也就是严格遵守反映这些规律的麦克斯韦方程.而在计算机里进行的模拟过程,是…     

紫外光固化有机-无机纳米复合材料成型衍射光学元件制造技术

针对衍射光学元件制造中材料选择的局限以及遮挡效应,采用了紫外光固化有机-无机纳米复合材料快速成型技术制造衍射光学元件,获得高折射率、高色散的衍射光学元件。通过有机-无机纳米复合材料制备实验获得了一种适合制造衍射光学元件的复合材料配方,配方各成分包括质量分数为57.97%的2官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯(2PUA)、质量分数为38.64%的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、质量分数为1.45%的光引发剂184(Irgacure 184)、质量分数为1.93%的分散剂163(disperbyk 163)和质量分数可控的纳米粒子ITO。使用该方法制备了紫外光固化衍射光学元件,并使用台阶仪测量得到衍射光学元件模芯表面的平均微结构高度为13.26μm,光固化衍射光学元件表面的平均微结构高度为12.58μm,使用光固化衍射光学元件与模芯微结构的相对误差为5.141%。紫外光固化有机-无机纳米复合材料的衍射光学元件制造技术突破了材料选择局限,减小了遮挡误差,对宽波段的折衍射混合光学系统的快速成型具有重要意义。     

光学系统计算机辅助装调的坐标基准过渡方法

为实现光学系统计算机辅助装调工程化应用,达到根据失调量的计算值对光学元件进行空间位置误差校正的目的,提出了失调量的计算值和调整机构调整量之间的过渡方法,利用坐标变换和最小二乘优化算法建立了失调量-调整量的关系模型,完成了两者坐标基准过渡。仿真结果表明,根据此方法自编程序计算出的平移调整量精度可达10-6 mm量级,角度调整量精度可达0.02″量级,计算精度远高于光学系统的装调要求。在模拟装调过程中,与直接采用失调量计算值对元件调整的结果相比,此方法的调整结果明显好于前者。对于不同的光学元件装卡方式和调整机构,可对此算法的相关参量进行赋值,灵活运用于不同的工况,为计算机辅助装调的实际工程化应用提供理论依据。     

塑料光学元件的发展及应用

本文简述了塑料光学元件的发展、特性和制造方法及其应用。     

塑料光学元件及其应用

本文简要地叙述了塑料光学元件的发展,它的特性、制造方法以及它的应用。     

光学亚表面损伤的探测和后处理技术

光学元件的损伤问题已成为高功率固体激光装置研制的核心问题，而紫外的损伤尤为严重。光学元件的激光损伤与能吸收能量的多种缺陷有关，例如：表面污染、表面擦伤和材料本体的缺陷(气泡或所含杂质)等。研究工作拟从光学元件的亚表面损伤人手，探测不同的光学制造工艺造成的特征亚表面缺陷，研究这些缺陷对激光损伤研制的影响。建立亚表面缺陷化学后处理装置，减少或消除亚表面缺陷所引起激光损伤的程度，为光学元件制造工艺选型提供必要的依据。     

红外技术进步刺激军事需求增长

随着制造技术的进步，大量新一代红外成像设备不断投入战场使用。由于采用的材料更轻以及光学元件的改进，使传统的笨重系统被淘汰，提高了单兵武器和手持设备的性能。第二代前视红外（FLIR）传感器的分辨率更高，可以穿透沙尘，据陆军负责夜视、侦察、监视和目标捕获的项目主管透露，目前已经有一半的“阿布拉姆斯”坦克和“布雷德利”战车装备了这种传感器。     

高功率微波对建筑物内计算机作用效果评估方法

提出了一种评估高功率微波对建筑物内计算机作用效果的方法。建立建筑物的电磁计算模型,利用时域有限差分法对高功率微波进入建筑物的过程进行数值模拟,求出计算机所在高度面上的时域最大场强,定义大于效应阈值区域的面积与建筑物总面积的比例为有效面积比,高功率微波对建筑物内计算机的作用比例即等于有效面积比。并开展实验对此方法的有效性进行验证,估计的计算机效应比例和实验结果相差20%以内。改变入射场强,得到计算机效应比例与入射场强的关系,与理论分析结果一致。     

大口径干涉仪系统传递函数校准

 波前功率谱密度(PSD)被用于评价ICF激光驱动器光学元件在中频区域的波前误差。目前主要采用大口径相移干涉仪检测ICF光学元件的波前畸变,通过付立叶变换获得波前的PSD分布。相移干涉仪在较高空间频率分量的测量上存在失真效应,因此需对干涉仪的空间频率传递函数进行校准。本文采用位相比较法测量大口径相移干涉仪的系统传递函数。我们采用衍射光学元件的制造工艺,设计、制作了标准的透射和反射位相元件,比较理论计算值与实测PSD值,分别获得了大口径相移干涉仪透射、反射测量模式的系统传递函数。     

型芯、模具及其制造和注射成型工艺(Ⅲ)

基于我国光学塑料元件成型技术落后于技术发达国家的情况,同时考虑到塑料非球面透镜又是我国目前注射成型的难关,并可望在型芯、模具及其制造和注射成型工艺上有所突破,而塑料非球面透镜又主要采用的是模具及注射工艺,所以本刊编辑部将从１９９８年第４期开始不定期的报道国外塑料模具型芯、模具及其制造、注射成型工艺等方面的有关信息,以此能对我国从事光学塑料元件制造的工程技术人员有所帮助。不定期报道的主要内容有：塑料模具设计要点;模具涂层;流态分析;模具制造的改进;注射成型;注射成型机;成型工艺参数;熔流及工艺性;如何减少成型元件的内应力;材料的选择;注射故障的排除等等。     

二元光学元件

二元光学元件是一种新型的衍射光学元件,它对光学仪器的小型化、集成化起着很重要的作用。本文介绍了二元光学元件的概况,衍射透镜理论,二元光学元件的制造方法以及发展趋势。     

光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测

 光学元件亚表面缺陷的有效检测已成为高阈值抗激光损伤光学元件制造的迫切要求。基于全内反射照明原理开展了全内反射显微技术检测光学元件亚表面缺陷的实验研究。结果表明：全内反射显微技术可有效检测光学元件亚表面缺陷;入射光偏振态和入射角度会影响元件内界面下不同深度处驻波形式照明强度的分布,对于可见度发生明显改变的微小缺陷点能衡量出其一定的深度尺寸范围;利用显微镜精密调焦对界面下一定深度处缺陷成像,可知缺陷点的位置深度。     

新型光学元件

介绍了近几年来在光电仪器中开始使用的新型光学元件,它们是衍射元件与衍射折射混合元件,溶胶－ 凝胶法高纯度特殊元件和微光学元件,轴向梯度元件以及玻璃－ 液体组合元件等。介绍了它们的应用和制造方法。这些元件给光学系统设计提供了新的自由度,并大大地简化了系统的结构和减小了系统的尺寸。     

《全息光学——设计、制造和应用》

内容简介：本书是一部首次系统、完整地介绍全息光学元件的成像理论、制造方法和广泛应用的专著。全书由“绪论”和十二章内容组成，分为四部分：第一部分叙述全息光学元件成像的基本原理，近轴成像理论，光线追迹的概念和必要的坐标变换。第二部分介绍全息光学系统的具体设计方法，像差理论及其补偿方法，     

半导体光学双稳态

目前科学家们正在拟定计划研制运用人工智能概念的第五代计算机.这一类计算机所需要的记忆能力是现有大型计算机的一万倍,而其运算速度要高出一千倍.任何计算机的三个基本功能──算术运算、逻辑运算和信息存储都是由具有两个稳态的开关器件来完成.从理论上说,目前集成电路毫微秒量级逻辑门的开关时间已接近极限时间,这是由于无论双极型的三极管或单极型的场效应管部受到半导体中载流子运动速度的限制,在设计和制作工艺中减小基区的宽度或源-漏间的距离到1μm似乎已达到极限.因此要想显著地缩短开关时间必须采用完全新的开关技术,这种新型的…     

数字化光学元件中黑栅效应的研究

计算机光学元件是纯相位元件,能够产生任意形状的波面分布,但存在着加工工艺过于复杂的缺点。目前出现了用数字化元件实现计算机光学元件的方法,在这些方法中经常要面临黑栅效应的干扰。利用傅里叶光学理论研究了黑栅效应对具体元件的影响程度,找出了影响黑栅效应强弱的因素,并用MATLAB软件进行了模拟。模拟结果表明:减小黑栅的宽度可使光能量向接收屏中央集中,有效降低黑栅效应的干扰。