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制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。 相似文献
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制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。 相似文献
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利用Müller矩阵和Stokes参量,从石英晶体旋光光学滤波器的透射比公式,推导出了石英品体旋光光学滤波器特征参量的理论计算公式.研究发现,特征参昼的值与滤波器的级数和滤波器中最薄石英晶体的厚度存在直接联系.计算得到一、二、三级石英晶体旋光光学滤波器在不同透射主峰的特征参量,并对其进行了实验验证.通过对不同透射主峰的特征参量进行比较可以看出,对于确定的滤波器,不同透射主峰处的自由光谱范围和通带半峰伞宽随着波长的增大而增大;同一透射主峰处的通带半峰伞宽随滤波器级数的增大而减小. 相似文献
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普通光学纤维都是由内外折射率不同的两种光学材料制成的,在高折射率的芯层外面包以折射率较低的皮层,利用光在芯-皮层界面上发生的全反射来传光,如图1所示.入射角io与临界角io对应,i>io的入射光将由皮层逸出,所以io决定了光学纤维的集光能力,通常把叫光学纤维的数值孔径(Numerical Aperture). 自聚焦光学纤维(Selfoc)是1964年由日本学者首先提出的,四、五年后有了样品,1975年用梯度折射率型的自聚焦纤维实现了 10 db/km的低损耗传输.当前,信息容量大的光通信系统中大都使用这种光学纤维,它还可以制成微型光学器件,用作光耦合器和馈光线. … 相似文献
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锥形光学纤维用作导光元件,有使光束会聚或发散的作用,从而可以使光束加强或减弱;用作导象元件的锥形纤维束又有放大或缩小图象的作用;抛物形折射率分布的锥形纤维(锥形Selfoc)用在雪崩二极管上用以提高二极管的接收面积;近来还有人研究了通过锥形光学纤维将激光束偶合到纤维波导中的问题。制造锥形光学纤维或锥形纤维束,一般是将一根或一束套有折射率比它低的玻璃管的玻璃棒置入加热炉中,等这样的棒一管组合体到达软化温度后,将其一端固定,而用适当的钳具夹住另一端慢慢拉长。但是用这种方法连续生产是困难的。本文提出了一种简单的连续生产的方法。 相似文献
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基于抛光所引起的熔石英元件表面、亚表面所存在的损伤前驱体分布,研究了不同种类的损伤前驱体所引起的损伤形貌。然后根据不同种类的损伤前驱体分别采用表面活性剂、强氧化性酸、氢氟酸的水溶液对不同的损伤前驱体进行处理。研究结果显示:经过前期预先清洗以后,吸收性杂质所导致的雾状损伤得以消除,亚表面分布的裂纹得以很好地平滑钝化,极大地提升了熔石英光学元件的抗损伤性能,损伤阈值从4.8J/cm2提高到11.0J/cm2,最大提升幅度达到原来的2.3倍。 相似文献
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根据石英晶体的旋光色散特性,利用光学矩阵方法对多级石英晶体旋光光学滤波器的滤波原理进行了详细的理论分析,推导出多级石英晶体旋光光学滤波器的透射主峰波长和通带半宽度的计算公式.利用分光光度计对单级和多级石英晶体旋光光学滤波器的滤波特性进行了实验研究,结果表明单级和多级石英晶体旋光光学滤波器滤波特性与理论曲线一致.从理论和实验上证明了多级石英晶体旋光光学滤波器与单级相比通带半宽度得到了有效的压缩,且随滤波器级数的增大,压缩的程度也随之增大.
关键词:
光学滤波器
偏振
石英晶体
旋光色散 相似文献
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光学合成孔径成像技术及发展现状 总被引:1,自引:0,他引:1
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本文研究了锥形光学纤维孔径角的变化,推导了它的数值孔径表达式,并给出了实验测定的数据。文章指出,现有国内外书刊上所列的锥形光学纤维数值孔径公式是不合适的,应予以修正。 相似文献
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通过傅里叶变换从新的角度考察了光学非均匀单向纤维增强复合材料的偏振光学行为,发现其光强I-方位角θ曲线主要仅由不多于三种基波组成,它们是零次(常量)、二次和四次基波。研究结果表明:四次基波的模与主应力差有很好的相关性,在所进行的实验条件下,四次基波的模都按正弦平方曲线规律随主应力差的增减而单调变化;并发现四次基波的初相角α∥4与双折射方向一致。在此基础上提出了复会材料双折射率,△Nc的概念。这一结果不仅对进一步认识纤维复合材料的复杂偏振光学现象可能有意义,而且也
关键词: 相似文献
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这次会议是去年7月在日本召开的,有关的论文将在日本“电子通信学会志”1978年第三期刊载。会议交流的主要内容如下: 相似文献
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光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、 相似文献
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针对近年来红外成像技术的广泛应用,兼顾科研分析和生产过程工艺控制以及现场实验与维修检测的基本要求,论述了基于虚拟仪器技术的光学成像测试系统的设计思想及实现方案。使用光学的红外波段和可见光波段成像光照模型,通过多通道同时输入输出的虚拟仪器技术实现了在线实时测试分析。该系统人机界面友好、算法完善、操作简便,实验证明:该系统具有非常重要的实际意义和理论价值。 相似文献