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RF溅射法制备PZT铁电薄膜及其表征 总被引:1,自引:0,他引:1
采用对靶溅射法在SiO2/Si基板上沉积Pt/Ti底电极,用射频(RF)溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si基板上制备了厚度约800 nm的PZT薄膜。XRD分析表明,Ar气氛中沉积,700℃下快速退火(RTA)20 min所得的PZT薄膜具有钙钛矿结构;SEM、AFM分析表明,该条件下所得薄膜的表面由平均粒径约219 nm的晶粒组成,较为均匀、致密。在1 kHz的测试频率下,PZT薄膜的介电常数为327.6,从电滞回线上可以得出,该PZT薄膜的矫顽场强为50 kV/cm,剩余极化强度和自发极化强度分别为10μC/cm2、13μC/cm2。 相似文献
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电极对PZT铁电薄膜性能的影响 总被引:7,自引:1,他引:7
用溶胶-凝胶法制备PZT铁电薄膜。以Pt/Ti/SiO2/Si为底电极,Au为上电极,形成金属-铁电薄膜-金属结构的铁电电容器。研究电极对PZT铁电薄膜结构和电性能的影响,实验发现,金属Ti的厚度会影响PZT铁电薄膜的结构。界面层的存在使介电系数、自发极化、矫顽电压、漏电流都与薄膜的厚度有关。 相似文献
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以Pt为上下电极和中间PZT薄膜的铁电电容器主要由油射法和离子束刻蚀法制备。研究快速热处理实现铁电相转变的条件和离子束刻蚀工艺对铁电容器图形的影响,选择合理的制备工艺可得到针电电容器。 相似文献
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电化学还原法制备PZT薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
以Pb(NO3)2、TiCl3为电解质,利用电化学还原方法在不锈钢基底上制备了钙钛矿型PZT薄膜,并对薄膜样品性能进行了测试,其介电系数接近1300,介质损耗0.6,剩余极化强度12μC/cm^2,矫顽场强63kV/cm。 相似文献
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利用ArF准分子脉冲激光沉积工艺在Pt/SiO2/Si衬底上制行了Pb(Zr52Ti48)O3(PZT)薄膜。并用X射线衍射分析方法研究了不同后续热处理对薄膜相组成和相结构转变的影响。 相似文献
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PZT薄膜电滞回线测试的数值补偿研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过Sawyer-Tower测试电路研究了铁电薄膜的电滞回线,发现薄膜漏电阻以及示波器输入电阻和电容的影响可能会使所测量的电滞回线发生形状扭曲或者使测量结果出现较大偏差,通过数值补偿方法重建了电荷平衡方程,并编制了相应的软件补偿程序。通过对溶胶-凝胶制备的PZT铁电薄膜的电滞回线测试表明,运用该数值补偿方法可以有效补偿薄膜漏电阻以及示波器输入电阻和电容对测试结果的影响,满足PZT铁电薄膜制备技术以及微机电系统中器件设计对薄膜性能测试的要求。 相似文献
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PZT铁电薄膜的雾化湿法刻蚀技术研究 总被引:3,自引:0,他引:3
PZT薄膜的微图形化是制备基于PZT薄膜微传感器和微驱动器的关键技术之一。通过引入雾化技术,改进了传统的PZT薄膜湿法刻蚀方法,进一步减小了薄膜微图形的侧蚀比,提高了图形的转化精度。选用体积比为1∶2∶4∶4的BHF/HCl/NH4Cl/H2O溶液作为刻蚀液,对溶胶-凝胶法制备的1μm厚PZT薄膜作雾化湿法刻蚀,刻蚀速率为28 nm/s,侧蚀比为0.5∶1。对所得样品表面区域进行EDS分析表明,所得PZT薄膜图形表面无残留物,该工艺可用于MEMS领域中PZT薄膜的微图形化。 相似文献
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研究了通过梯度煅烧制度改善薄膜开裂同题的方法和机理。实验在Al2O3基片上采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法制备了PZT铁电薄膜,发现薄膜的开裂程度随预烧制度的不同而存在明显的差别。结果表明,通过选择薄膜的预烧温度,使各个薄膜层的预烧温度呈梯度分布,可减小薄膜中的应力,从而改善薄膜的开裂情况。 相似文献