中国ODS清洗剂淘汰的替代技术

中国ODS清洗剂淘汰的替代技术可以分为四种,包括免洗技术、水洗技术、半水洗技术和非ODS有机溶剂清洗技术。 免洗技术:免洗技术是指通过改进生产设备,加工工艺和产品设计提高元器件的质量,使原清洗对象可以免除清洗直接进入下一道工序,保证元器件的洁净质量与用ODS清洗剂清洗后的相同。 水洗技术:水洗技术分高纯水清洗和水中添加表面活性清洗两种工艺。 半水洗技术:半水洗过程通过有机溶剂与水形成乳化液清洗污垢。 非ODS有机溶剂清洗技术:此工艺采用非ODS溶剂进行清洗,其工艺与原工艺相似。     

清洗行业淘汰ODS清洗剂2000年项目16家企业验收会在京召开

2003年12月24日在国家环保总局召开了2000年中国清洗行业淘汰ODS清洗剂项目验收会,参加会议的有中国洗净工程技术合作协会常务副理事长、清洗行业特别工作组组长孙良欣,国家环保总局外经办项目三处处长熊康,清洗行业特别工作组副组长李永红,高级项目官员王荣年、孙芳娟、易卫红,清洗行业资深专家毕建明、朱家淇、王锡光、周志春。本次验收会就2000年清洗行业16家企业ODS替代项目     

中国清洗行业利用票证方式淘汰ODS清洗剂2004年项目登记工作开始

中国清洗行业ODS清洗剂淘汰特别工作组于2004年2月16日向2004年新增“中间代理机构”（IEA）签发了《票证淘汰工作委托书》，中国清洗行业利用票证方式淘汰ODS清洗剂2004年项目登记工作开始。凡仍在使用ODS清洗剂的企业，不论消费量多少，都应到下述地区的”中间代理机构”进行登记。     

关于在真空电子行业中彻底淘汰ODS清洗剂的通知

为保护臭氧层，履行我国政府对国际公约的承诺，我国将于2006年1月1日停止生产和使用CFC-113(三氟三氯乙烷)等ODS清洗剂。     

中国清洗整体行业淘汰ODS项目中的票证淘汰方法

一．什么是“票证系统”。中国政府于1991年6月正式签署联合国关于消耗臭氧层物质的《蒙特利尔议定书》，并于2000年3月批准执行《中国清洗行业ODS整体淘汰计划》，并获批准赠予我国5200万美金，用于帮助中国的企业分别在2006年、2010年和2004．年前淘汰作为清洗和溶剂目的的“氟里昂(CFC—113)、三氯     

新型ODS 清洗剂替换剂--正丙基溴

本文概要叙述了新型ODS清洗剂替换剂-正丙基溴性能、操作安全事项及美国环保署将它列为“在一定条件可以接受的替换剂”的依据，以便在我国推广使用时作为借鉴。     

PCB行业制造厂家如何开展实施清洁生产

文章结合生产实践,对PCB行业制造厂家如何围绕《清洁生产标准印制电路板制造业》指标要求,科学理解清洁生产,按照科学规律办事,有效开展实施清洁生产进行了探讨,重点阐述了PCB制造厂家如何实现印制电路板制造业清洁生产标准中难度比较大的几个指标要求的对策。为推进印制板制造业的清洁生产,促进其可持续发展提供参考。     

河北廊坊在建替代品生产基地ODS替代品项目陆续启动

为了保障淘汰ODS活动的顺利进行,我国政府正在河北省廊坊市经济技术开发区建立“国际履约环保产业园”。产业园分两期建设,其中第一期的9大项目中的6项,目前已陆续启动,这为我国进一步深入开展ODS物质的淘汰工作奠定了良好的基础。     

ODS淘汰政策及替代技术

介绍了ODS对臭氧层破坏的危害，国内外环境保护团体针对此种危害所采取的各种措施、政策，我国实施ODS削减所取得的成绩及存在的困难。     

利用掩膜制作光纤光册的分析

利用相位掩膜和准分子激光，可以方便有效地制作光纤光栅。本文从衍射和干涉理论出发，讨论了具有一定空间和相间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布。分析了其对光纤光栅制作的影响，并把分析结果与实验现象进行了比较。     

推动我国生产性互联网服务业发展的财税政策研究

全球经济危机过后,国家出台长期发展规划强调大力发展生产性服务业与互联网服务业,实现我国产业结构转型升级与培育经济发展增长点的突破。生产性互联网服务业作为信息产业中关键领域,现已出台一系列相关财税政策扶持企业成长发展。首先梳理了现有相关财税政策的整体情况,在此基础上深入分析目前财税政策体系的具体特征与存在的主要问题,并提出促进我国生产性互联网服务业发展的财税政策建议。     

浅析ODS与EDW关系

本文重点介绍了企业运营数据仓储(ODS)和企业数据仓库(EDW)的概念,并对ODS与EDW之间的关系,包括两者相同点与不同点进行了详尽的对比与阐述,文章还对业界公认的ODS和EDW两种不同建设方法也分别进行了说明,并给出了作者认为合理的建设方法.     

相位掩模法制作光纤光栅的研究

准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅，从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布，分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯 强分布及光纤光栅制作的影响，并把分析结果与实验现象进行了比较。     

清洗淘汰项目获联合国专家好评

2003年2月下旬,UNDP(联合国开发计划署)有关项目专家Clinton Norris先生、Ling-yee Ginbey女士和国家环保总局外经办清洗工作组共同考察和评审了清洗行业整体淘汰ODS的第一批淘汰项目。考察人员对淘汰项目运行的结果表示满意,特别是UNDP的专家对参与我国清洗行业第一年度ODS淘汰活动,即2000年度中标项目的现状给予了较高的评价。     

消除上胶机、焚烧炉安全生产隐患

该文介绍了上胶机、焚烧炉一些失火现象及预防措施。