铝合金微弧阳极氧化膜性能研究

研究的是在铝酸盐电解液体中对LF21、LY12铝合金进行微弧阳极氧化的技术.介绍了自制的微弧阳极氧化试验装置、实验基本操作工艺流程以及工艺流程详细说明.研究了铝酸钠电解液体系所生成的微弧阳极氧化膜的性能,其中包括微弧阳极氧化膜的膜层与基体金属的结合力、膜层的硬度以及膜层的耐腐蚀性能.     

具有多种输出模式微弧氧化电源的研制

基于对微弧氧化工艺和负载特性的研究,提出一种新的带放电回路脉冲模式。并在此基础上研制了一种以80C196KB单片机为控制系统核心,具有多种输出模式的微弧氧化电源。通过对主电路结构的拓扑及对可控硅触发和IGBT驱动的控制,该电源能够产生带放电回路脉冲、单极性脉冲和双极性脉;中3种输出模式,而且其脉冲幅值、频率、占空比具有很宽的调节范围。此外还实现了对微弧氧化过程中电流和电压的实时采集和显示。经实践表明,该电源能很好地应用于实验研究及工业化生产。     

镁合金微弧氧化膜的SEM研究

镁合金具有密度低，比强度和比刚度高，铸造性能和切削加工性能良好等优点，在汽车制造、航空航天和电子通讯工业等方面有着广泛应用。为了增强镁合金材料对环境的适应性，减少腐蚀，延长使用寿命，一条有效的途径就是对其进行表面处理。微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶     

CO2激光雕刻微弧氧化法制陶瓷网纹辊的技术研究

随着柔性版印刷在行业中的市场占有率越来越高,其核心部件网纹辊的制造工艺受到了更多的重视.目前陶瓷网纹辊表面的陶瓷涂层主要是通过等离子喷涂方法制成的,其制作成本较高,而且涂层在使用中有脱落的可能.微弧氧化法制成的氧化铝陶瓷克服了传统材料的缺陷,而且制作成本较低.首先使用纯的氧化铝陶瓷片进行前期的激光工艺实验,然后使用微弧氧化法制成的氧化铝陶瓷进行雕刻实验,以证明这种材料用于雕刻网纹辊的可行性.实验中,首先在80～120线/英寸范围内使用CO,激光器在这种材料上进行静态雕刻实验,在目前广泛使用的60°蜂窝型的网穴角度条件下,分析激光峰值功率、占空比和焦点位置对于网纹辊网穴形状的影响.得到如下结论:(1)为了避免熔渣对网穴形貌的影响,应尽量使用较小的峰值功率与占空比;(2)在保证光斑功率密度的前提下,焦点位置应位于加工材料表面之上,这样才能够获得形状较好得网穴.之后,对微弧氧化法制成的陶瓷辊进行了动态雕刻实验,对实际加工中的关键要素进行了分析,探讨了机床加减速过程、加减速过程中速度变化的不一致性以及激光脉冲前沿位置的不确定性等因素对于网纹辊加工质量的影响,并提出了用于网纹辊加工的激光加工设备的基本要求.     

激光诱导微弧放电对45#钢的表面强化

使用激光诱导微弧放电的方法对45#钢进行了表面强化.通过实验对比了高压诱导放电(HVGD)和激光诱导放电(LGD)两种表面强化方法.发现激光诱导放电使电极间隙的击穿电压降低了一个数量级,同时放电点和激光焦点重合,实现了对放电点位置的控制.在两种诱导放电过程中放电点的膨胀速度基本相同,但是受到初始放电点大小的影响,激光诱导放电点直径大于高压诱导放电点.在两种诱导放电过程中强化深度都存在最大值,约为180 μm.放电点的强化层山熔凝层和相变硬化层组成,其中熔凝层的硬度最高达到800 HV.     

镁合金微弧氧化电源驱动电路的可靠性分析

微弧氧化是一种新型的表面处理方法,利用该电路可输出双端不对称的高压脉冲,且脉冲幅值、频率、占空比均在一定范围内连续可调。本文首先介绍了微弧氧化电源技术的发展现状,然后对试验中使用过的几种IGBT驱动模块M57959、2ED300、2SD315 3种驱动电路的结构、工作原理和使用性能做了详细分析对比。实验表明,Eupec系列的2ED300驱动电路结构简单,可靠性高,适用于大功率微弧氧化电源的驱动。     

铝合金硬质阳极氧化的能谱分析

本文对铝合金硬质阳极氧化膜进行了俄歇电子能谱和Ｘ光电子能谱分析，对膜层表面的耐磨耐腐蚀性能作了微观机理分析，其分析结果对铝合金硬质阳极氧化工艺的完善具有一定的参考价值。     

铝合金化学镀镍工艺研究与应用

报道一种在铝合金元件上实施化学镀镍的工艺方法。该方法包括在改进的锌酸 溶液中经二闪浸锌处理后,以碱性化学镀镍作底层,然后进行酸性化学镀镍,能在铝合金（ＬＹ１２ｃｚ、ＬＤ３１等）表面获得光亮的、具有优异附着力和良好的防腐蚀性能及其综合物理、化学特性的化学镀镍（Ｎｉ－Ｐ）层。     

微波催化氧化技术在废水处理中的应用

工业废水微波催化氧化技术是将废水和氧化剂混合后送入微波场中,在微波的作用下使废水中的高浓度有机污染物快速发生氧化还原反应,并使之转化为小分子物质,进而氧化为二氧化碳和水,从而达到净化废水的目的。工业废水微波催化氧化的关键技术有：氧化过程的控制和氧化剂的选择;设计、制造工业废水微波催化氧化处理装置;自动控制系统设计实施;工业废水微波催化氧化工艺技术。     

硅锗合金氧化后生成的锗纳米结构的特性研究

我们将SiGe合金在干氧吹气环境下以不同的温度和不同的时值进行氧化处理，用卢摄福散射仪RBS和高精度椭偏仪HP-ESM测量样品，获得10～80nm厚的硅氧化层和1nm厚的富锗层．新发现快速氧化生成的氧化膜表面有1～2nm厚的锗层．分析了锗纳米结构对应的PL发光谱，注意到锗纳米层对应的541nm波长的尖锐的发光峰和不同尺寸的锗原子团对应的从550～720nm波长的发光带．从量子受限模型和局域密度泛函计算出发。合理地解释了实验的结果．     

Sealed-Interface Local Oxidation Technology

A new regime of local oxidation, dubbed SILO for Sealed-Interface Local Oxidation, is explored. In SILO processing, a film of silicon nitride is in intimate contact with the silicon surface. The ubiquitous native oxide is effectively eliminated by using nitrogen ion implantation into silicon or plasma-enhanced nitridation to form a "sealing film" of approximately 100-/spl Aring/ in thickness. The oxidation rate of both types of films is characterized and found to be nearly equivalent. A 100-/spl Aring/ film can mask the growth of 7000 /spl Aring/of oxide in wet oxygen at 950/spl deg/C. With a sealed interface it is found that the usual "bird's beak" formation is completely suppressed in local oxidation. An approximate theoretical analysis shows that even a very thin interfacial oxide, acting as a lateral diffusion path for the oxidant species, can lead to a significant bird's beak. With a sealed interface using a 90-/spl Aring/ film, the thick-oxide to bare-silicon transition region is chisel shaped, with approximately 45/spl deg/ slopes. The transition region is even more abrupt if a conventional LPCVD nitride film is deposited on the sealing film before patterning. However, for total nitride thicknesses greater than about 300 /spl Aring/, defects are generated along the pattern edges aligned in [110] directions. Crystal damage generated during oxidation is found to be due to the intrinsic stress in the LPCVD nitride film. Argon-ion implantation into LPCVD nitride is found to be effective in reducing the defect density. A defect-free abrupt profile is produced by combining SILO with a nitride-oxide sandwich.     

钛合金激光表面改性技术研究现状

钛合金密度小,比强度高,具有良好的耐蚀性、疲劳抗力,广泛应用于航空航天、国防、汽车、医疗等领域.然而,钛合金摩擦系数高、对粘着磨损和微动磨损非常敏感、耐磨性差及高温抗氧化性差等缺点,制约了它的应用.表面改性技术,尤其是激光表面改性技术为这一问题的解决提供了一条有效的途径,综述了国内外钛合金激光表面改性技术的研究现状,主要介绍了激光熔覆、激光合金化和激光熔凝技术及其在钛合金表面改性中的应用,并对其存在的主要问题及当前的研究热点:激光表面改性工艺参量优化、激光改性过程中裂纹产生机理及裂纹控制、复合激光表面改性技术、纳米改性层、功能梯度改性层、激光原位合成、激光熔覆非晶涂层、超短脉冲激光表面改性以及激光改性过程的数值模拟等进行了讨论.     

用于IC氧化层和氧化炉管在线监控的表面光电压技术

表面光电压法 (SPV)是一种高灵敏度的、非破坏性的在线监控技术。能精确测量硅片的少子扩散长度、少子寿命、重金属沾污浓度等参数。对 IC生产的质量保证是非常重要的检测手段。文中介绍了用于监控 IC生产栅氧化层和氧化炉管系统的 SPV技术 ,并讨论了铁以外其它沾污的 SPV检测。     

热力学计算在无铅钎料合金设计中的应用

依据CALPHAD方法进行相平衡计算过程中热力学模型的建立及其求解作了简要介绍，对热力学数据库的特征作了描述。对基于CALPHAD方法而开发的Thermo Calc系统的数据库及几个主要模块的功能作了概括的介绍。并针对在无铅钎料研究领域，利用ThermoCalc进行无铅钎料多元合金相平衡计算、预测液态钎料的表面张力和粘度以及钎料与基底之间形成的金属间化合物的驱动力的研究进展进行了总结。着重介绍了日本Tohoku大学材料系的研究人员开发的钎料合金热力学数据库。     

Oxidation of Lead Frame Copper Alloys with Different Compositions and Its Effect on Oxide Film Adhesion

Oxidation of four typical lead frame copper alloys was investigated. The oxidation rate and adhesion strength of oxide films to copper alloy substrates were studied by measuring the thickness and carrying out peel tests. The results show that, although copper alloys C5191 and C7025 have thinner oxide films, a lower adhesion strength and a higher proportion of CuO were obtained than in the other copper alloys EFTEC64T and C194. The adhesion strength is mainly influenced by the structure of the oxide film of the copper alloys, especially the CuO/Cu₂O ratio in the film. The highest adhesion strength is obtained for the copper oxide film with a basic structure of CuO/Cu₂O/Cu and a CuO/Cu₂O ratio of about 0.1. The segregation of additional elements in the copper alloy plays an important role in the oxide film structure.     

计算机技术中虚拟化技术的应用研究

随着计算机技术的快速发展,人们的学习、工作和生活越来越依赖这项技术。然而,计算机技术的频繁使用会导致实体资源持续增多,从而影响计算机系统的使用效率。将虚拟化技术与计算机技术相融合,能全面提升计算机系统运行的工作水平,充分保障系统运行的安全性和稳定性,为计算机用户带来更加优质的服务。文中对虚拟化技术在计算机技术中的实践应用进行了分析,以期为相关研究提供参考。