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布鲁斯特角型偏振器在高功率激光系统有着重要的应用.为了真实反映布鲁斯特角型偏振器的性能,分析并成功搭建了基于空气隙棱镜的消光比测量系统.采用光强同时测量的方法,测量过程系统起偏器、样品、检偏器方位角固定,引起误差的因素较少.通过限制入射光光束直径和探测器的位置,提高检偏器反射出光方向的偏光性能,提高测试精度;在样品定位的过程中,对光源进行实时监测,降低测量随机误差.理论分析,系统精度越高,系统误差越大.当系统精度为40 dB,系统误差约2%.对一样品进行10次测量,消光比平均值为31.1 dB,系统误差小于1%,随机误差小于1%. 相似文献
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为了消除不同角度入射格兰-泰勒棱镜时透射光谱曲线波动干扰产生的影响,提高消光比测量系统的测量精度,以偏光棱镜作为检偏器,采用二次曲线拟合的方法,对透射曲线的极值点实现了精确判定。并采用二次光强测量方法,对棱镜入射端、出射端、胶合层反射及透射情况进行了理论分析,然后用不同角度入射时棱镜透射谱线的变化规律来解释其干扰发生的程度。结果表明,该方法消除了波动干扰影响,提高了测量棱镜消光比的精度。这一结果解决了空气隙型偏光棱镜消光比测量精度问题,同时对偏光棱镜的正确使用提供了参考建议。 相似文献
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脉冲激光测距仪灵敏度与消光比研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文直接采用模拟测距的消光比测试方法来检测脉冲激光测距仪的灵敏度,可以有效地排队远距离测距中气象差异的影响和地形条件的限制,通过对测度数据的分析并与测距能力相比较表明,本文提出的检测方法是有效的。 相似文献
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基于偏振干涉原理,设计了一种用于测量偏光镜消光比的连续可调智能化衰减系统。该系统由3个标准偏光镜、1个632.8 nm的1/4波片、1个步进电机和微机共同组成,其中1个偏光镜的主透射方向和波片快慢轴的夹角为45°并组成标准圆偏器,利用计算机控制步进角为0.25°的步进电机旋转圆偏器,从而达到连续衰减光强目的。其衰减范围可在0~60 dB间扩展,插入损耗小于1.2 dB。用该系统测量时,可得到优于10-7量级的消光比值。对衰减系统的调节机理进行了分析,并给出圆偏器旋转不同角度下系统的透射曲线。 相似文献
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对基于半导体光放大器(SOA)交叉增益调制(XGM)效应的全光波分复用一光时分复用(WDM—OTDM)转换后的两路时分复用输出信号的消光比(ER)特性进行了分析。研究了两路波分复用的输入抽运光和探测光的功率、波长、抽运光的消光比、数据速率以及半导体光放大器的偏置电流、腔长和模场限制因子对转换信号消光比的影响。模拟结果表明,增大抽运光输入功率,选择长波长抽运光,可以增加转换光相应信道消光比,但减小了相邻信道的输出消光比;增加抽运光消光比,可以提高转换光消光比,但各个信道增长幅度不同;减小探测光输入功率,选取短波长探测光波长,增加半导体光放大器的腔长和模场限制因子以及大的偏置电流可提高转换光消光比;对于两路或多路波分复用信号转换时分复用信号的过程中,一定要考虑转换光每个信道消光比的均衡。 相似文献
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基于LOA的XPM波长转换信号消光比特性分析 总被引:2,自引:2,他引:0
针对线性光放大器(LOA)的结构特点,建立了基于速率方程的模型。使用该模型分析了增益钳制特性和转换后信号的消光比。理论计算结果表明,分布式布拉格反射镜(DBR)形成的垂直光场对增益具有钳制作用。增大DBR的反射率,可以增大LOA的线性输入范围;用于波长转换时,能提高转换信号的消光比。计算结果较好地拟合了文献实验结果。 相似文献
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光纤干涉仪消光比调谐方法 总被引:1,自引:0,他引:1
简要介绍了目前超长距离光纤干涉传感系统的发展现状,并在理论上分析了光纤传感系统中的偏振态对消光比的影响以及能够影响光波偏振态的各种因素.将基于光弹效应的挤压型偏振控制器应用于该系统的消光比调谐,给予光纤干涉臂径向应力,动态调谐系统光波偏振态,实现了长距离光纤传感系统的消光比在一点上的调谐.提出了长距离光纤传感系统灵敏度... 相似文献
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Fabrication and characterization of bilayer metal wire-grid polarizer using nanoimprint lithography on flexible plastic substrate 总被引:1,自引:0,他引:1
Fantao Meng Gang LuoIvan Maximov Lars MonteliusJinkui Chu Hongqi Xu 《Microelectronic Engineering》2011,88(10):3108-3112
In this work, we demonstrate the fabrication of bilayer metal wire-grid polarizers and the characterization of their performance. The polarizers with 200 nm period were fabricated on flexible plastic substrates by nanoimprint lithography (NIL), followed by aluminum deposition. Transmission efficiency over 0.51 and extinction ratio higher than 950 can be achieved in the visible range when the aluminum thickness of the polarizer is 100 nm. The fabrication process only involves direct imprinting on flexible plastic substrates and aluminum deposition, without any resist spin-coating, lift-off, and etching processes, which is much simpler, less costly, and applicable to large volume production. 相似文献