超光滑表面加工方法的新进展

通过回顾超光滑表面加工技术的发展历程,对多种具有代表性的超光滑表面加工方法的原理和应用作了简单阐述,并重点提出和介绍了一种大气等离子体抛光方法。该方法实现了利用常压等离子体激发化学反应来完成超光滑表面的无损伤抛光加工,并首次引入电容耦合式炬型等离子体源,为高质量光学表面的加工提供了一条新的途径。试验结果表明,在针对单晶硅的加工过程中实现了1μm/min的加工速率和Ra 0.6nm的表面粗糙度。     

超光滑光学表面粗糙度的测定

讨论了如何确定及消除光学轮廓仪的系统误差,进而测定超光滑光学表面粗糙度的方法及结果。在Ｚｙｇｏ Ｍａｘｉｍ ３Ｄ５７００ 表面轮廓仪上使用２－５ ×和２０ ×Ｍｉｒａｕ 物镜测量ｒｍｓ 在０－３ｎｍ 左右的超光滑硅片,通过对每个取样区域数据１６ 次相位平均,再对多个取样区域高度数据平均,消除了仪器的系统误差,使超光滑光学表面粗糙度得到精确测量。并使用其它光学轮廓仪对样品做了验证测量。作为比较,在同样条件下测量了０－８ｎｍ 左右的光滑硅片。     

浮法抛光超光滑表面加工技术

浮法抛光技术首先出现于日本，是加工超光滑表面的先进技术之一。本文详细介绍用浮法抛光加工超光滑表面的机械结构和加工过程，与传统的沥青抛光方法进行了比较，并分析了材料去除机理。最后简单介绍我国研究浮法抛光技术的进展。     

超光滑基片等离子体表面处理研究

通过对射频功率、反应室压强和处理时间等参量进行实验,系统研究了等离子体处理对基片表面状态的影响.结果表明,等离子体处理可以溅射去除加工变质层,降低表面粗糙度,提高基片表面洁净度和表面能.优化后的参量证实,经等离子处理的基片比未经等离子体处理的基片镀膜后损耗平均降低34.2 ppm,并且显示出良好的一致性.     

化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工

 利用传统光学加工方法，采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD) SiC进行了粗磨、细磨加工；然后，利用颗粒直径从4 μm到1 μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光，发现SiC表面存在纳米级划痕；最后，改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光，表面粗糙度达到0.6 nm(RMS)，表面纳米级划痕得到很好改善，获得了较高表面质量的超光滑表面。     

化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工

利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD) SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4 μm到1 μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光,表面粗糙度达到0.6 nm(RMS),表面纳米级划痕得到很好改善,获得了较高表面质量的超光滑表面。     

无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

传统的抛光LBO晶体的方法是选用金刚石抛光粉在沥青抛光盘上抛光。沥青盘易于变形不容易修整,金刚石粉特别硬容易损伤抛光晶体表面。抛光过程中,抛光盘和抛光粉的选择是非常重要的,直接影响到抛光效率和最终的表面质量。新的抛光LBO晶体的方法,其抛光过程是一个化学机械过程,抛光盘、抛光粉和抛光材料相互作用。选用两种抛光盘(培纶和聚氨酯盘),三种较软的抛光磨料(CeO2,Al2O3和SiO2胶体),并在LBO晶体的(001)面进行抛光实验。用原子力显微镜测量和分析了表面粗糙度。结果表明,使用聚氨酯盘和SiO2胶体能够获得无损伤超光滑的LBO晶体表面,其表面粗糙度的RMS为0.3nm。     

浮法抛光亚纳米级光滑表面

本文是对现阶段进行的超光滑表面浮光抛光研究的简要总结，介绍了浮法抛光原理样机的基本结构，以及实现亚纳米浮法抛光的主要条件，并给出了亚纳米级光滑表面的检测结果。     

大尺寸硅镜超光滑表面加工的面型控制

使用机械-化学抛光法加工大尺寸单晶硅可获超光滑表面,但很难保证良好的面型.提出通过采用开圆孔并连续注入抛光剂的方法来避免抛光盘中心蜂窝眼的出现,可以保证得到良好的面型.最后实验达到较好的面型精度,PV值0.268λ,rns值0.065λ.     

大尺寸硅镜超光滑表面加工的面型控制

使用机械-化学抛光法加工大尺寸单晶硅可获超光滑表面,但很难保证良好的面型。提出通过采用开圆孔并连续注入抛光剂的方法来避免抛光盘中心蜂窝眼的出现,可以保证得到良好的面型。最后实验达到较好的面型精度,PV值0.268λ,rms值0.065λ。     

超光滑表面无损检测轮廓仪

本文所述的超光滑表面无损检测轮廓仪,无需标准参考面;利用双焦干涉作非接触无损检测;利用干涉及电子共模抑制技术可有效地抑制各类噪音;计算机控制测量,即时给出表面粗糙度参数,与WYKO比对,结果吻合。仪器特别适合于均方根值R_q为纳米及亚纳米量级的软质金属材料及膜层表面测试。其横向分辨率为1μm,纵向分辨率为0.1nm。     

表面工程技术的发展和应用

介绍了表面工程在中国的最新发展,表面工程的学科体系与特色,表面工程技术在维修,节能,节材,降耗和高新技术发展方面的作用及应用,并提出了对发展表面工程的建议。     

锗硅表面结构和动态过程的STM研究

尽管作为微电子工业的基础,硅和锗的表面和界面几十年来一直是研究的热点,但和纳米技术等不断提出的问题相比,对它们的了解仍很不够。为此,最近我们用扫描隧道显微镜和低能电子衍射方法,对锗硅表面的稳定性、宏观小面化、纳米小面化、小面化的规律、稳定表面的比自由能、表面原子结构以及表面和亚表面原子的动态过程进行了大量的系统的研究。文章综述已取得的研究结果。这些结果除具有重要的基础意义外,对半导体异质外延生长衬底选择,以及量子线和量子点自组织生长模板的选择都会有帮助。     

全息术的发展和应用

本简介了光全息术的原理，并对半个世纪以来光全息术的发展及应用作了概述。     

非球面和梯度折射率在眼光学成象中的作用

在Gullstrand-Le Grand眼模型的基础上,构造不同的眼光学模型,分别研究了角膜非球面、晶状体非球面和昌状体折射率在眼光学成象中的作用.通过比较各模型系统的Zernike标准多项式系数,分析了非球面和梯度折射率对眼光光系统各象差的影响.同时研究了不同模型调制传递函数的特性.     

散乱数据曲面拟合及软件

阐述对矩形和L型域上的散乱数据用样条函数作曲面拟合的算法和绘图软件包,方法可推广到任意高维情形,易于在计算机上实现,均归结为解一个阶数主要依赖于散乱点数而与变量维数基本无关的对称线性方程组,软件包基于Windows95下Delphi3.0语言系统完成.     

激光和电子束表面强化技术的发展及其应用

激光和电子表面强化是当前引入注目的两种高新技术,文章系统地介绍了这两种技术的发展状况及应用,同时比较了二者的优缺点,最后,对目前存在的问题及未来的发方向作了简要的讨论。     

精密电压基准及应用

本文介绍了在ＵＪ５２多量限电位差计中用ＬＭ３９９代替锌汞电池的电路和方法。取得了较好的效果。     

ZnO薄膜的掺杂及其结型材料的研究进展

ZnO薄膜作为一种多用途的半导体材料，一直受到国内外学术界的广泛关注，尤其是自1997年发现ZnO薄膜的室温紫外光发射以来，ZnO薄膜的制备及其光电子特性的研究成为新的研究热点，几年来，研究进展非常迅速，巳报道了结型电致发光器件和光电探测器件的初步研究结果，文章结合作者的工作，综述了目前国内外对ZnO薄膜的掺杂以及ZnO异质结和同质p-n结制备方面的研究状况。