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杂质银对氧化锌薄膜气敏光学特性的影响 总被引:4,自引:1,他引:3
用反应式射频磁控溅射方法制备了纯氧化锌(ZnO)薄膜和掺Ag的ZnO气敏光学传感薄膜。测量了这些薄膜在NOx气体中的透射光谱,然后由透射光谱获得了灵敏度的变化规律,发现掺Ag后的ZnO薄膜对NOx气体的灵敏度高于纯ZnO薄膜,用俄歇电子能谱(AES)测试了这些薄膜的组分,发现当掺Ag量为5%时灵敏度最高,并结合朗缪尔(Langmuir)型吸附平衡关系式解释了这些现象,理论和实验结果能很好的相符。 相似文献
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当ZnO-SiO2-Si结构中的ZnO薄膜C轴取向偏离基片法向时,将对声表面波传播速度,机电耦合系数等参量产生影响。本文对此问题进行了理论分析和数值计算;同时还讨论了本结构中影响声表面波束偏的一些参数。 相似文献
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VO2薄膜对TEACO2激光响应特性的实验研究 总被引:11,自引:1,他引:10
报道了VO2薄膜在TEACO2激光照射下的相变特性的实验研究,结果表明:对于本文镀制的VO2薄膜,在偏置温度为52℃条件下,TEACO2激光入射能量密度为150mJ/cm^2时,可使VO2薄膜发生相变,响应时间,50ns,恢复时间≈200μs。 相似文献
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双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究 总被引:5,自引:1,他引:4
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作用了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响。制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2,ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离束溅射沉积1.06μm多层高反,是到了大于99.5%的高反射率,经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜 相似文献
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溶胶—凝胶法制备CdS微晶掺杂TiO2/SiO2薄膜及其非线性光学特性 总被引:3,自引:1,他引:2
采用溶胶-凝胶方法在普通的载玻片上制备了CdS微晶掺杂的TiO2/SiO2复合薄膜。用正硅酸乙酯、钛酸丁酯、醋酸镉作原料,比较了两种硫化剂:硫尿和硫代乙酰氨的硫化作用。X射线衍射谱和拉曼光谱揭示了CdS微晶镶嵌在TiO2/SiO2薄膜的玻璃网络中。不同热处理温度、不同热处理时间的吸收光谱表明薄膜中存在着量子尺寸效应。采用Z扫描技术测量了薄膜的非线性吸收及非线性折射率n2=-4.67×10-7esu。 相似文献
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利用改进的化学气相沉积法制作出纳米级InP薄膜内包层光纤;根据氢原子本征能量模型计算了InP微粒产生量子尺寸效应的相对粒径aB=8313 nm,且由量子尺寸效应计算了不同尺寸粒子的带隙能量以及相对应的光吸收波长;由测试工作系统测试,在906—1044 nm,1080—1491 nm,1524—1596 nm 波段上均有增益;结果表明:当内包层薄膜材料厚度达5—50nm量级时,其能级将发生红移,产生放大性能.
关键词:
纳米包层光纤
量子尺寸效应
光放大 相似文献
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MgxZn1xO (x ≤ 0.3) thin films have been prepared on silicon substrates by radio frequency magnetron sputtering at room temperature. The thin films have hexagonal wurtzite single-phase structure and a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrates. The Mg content in the films is slightly larger than that in the targets. The refractive indices of MgxZn1xO films measured at room temperature by spectroscopic ellipsometry (SE) on the wavelength 632.8 nm are systematically decreased with the increasing of Mg content. Optical band gaps of Mg x Zn 1 x O films are determined by the transmittance spectra. With increasing Mg content, the absorption edges of MgxZn1xO films shift to higher energies and band gaps linearly increase from 3.24 eV at x=0 to 3.90 eV at x=0.30. 相似文献
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用紫外可见光透射光谱(UV-VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱(XPS)和红外谱(FTIR)分析,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质.在微波功率为140—700W、源气体CHF3∶C6H6比例为1∶1—10∶1条件下沉积的薄膜,光学带隙在1.76—2.85eV之间.薄膜中氟的引入对吸收边和光学带隙产生较大的影响,吸收边随氟含量的提高而增大,光学带隙则主要取决于CF键的含量,是由于强电负
关键词:
氟化非晶碳薄膜
光吸收与光学带隙
电子回旋共振等离子体 相似文献
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采用直流磁控溅射方法在不同的氩气-氮气(Ar-N2)气氛中制备了非晶氮化镓(a-GaN)薄膜. X射线衍射分析(XRD)和拉曼光谱(Raman)表明薄膜具有非晶结构. 通过椭偏光谱(SE)得到薄膜的折射率和厚度都随着氩气分量的增多而增大. 紫外—可见光谱(UV-Vis)的测量得到,当氩气分量R,即Ar/(Ar+N2),为0%时,薄膜的光学带隙为3.90eV,比晶体GaN (c-GaN) 的较大,这主要是由非晶结构中原子无序性造成的;而当R
关键词:
非晶氮化镓
溅射
光学带隙
带尾态 相似文献
15.
基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外—可见—近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200—1100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556— 1.76,测试波长为550 nm)、低吸收和直接能量带隙(3.91—4.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数——膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.
关键词:
光学常数
Swanepoel方法
2O3薄膜')" href="#">Al2O3薄膜
热处理 相似文献
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The amorphous Ge8Sb2Te11thin films with varying thickness are thermally deposited on well-cleaned glass substrate from its polycrystalline bulk. Absence of any sharp peak confirms the amorphous nature of deposited films. Thickness-dependent electrical and optical properties including dc-activation energy, sheet resistivity, optical band gap, band tailing parameter, etc. of Ge8Sb2Te11thin films have been studied. The optical parameters have been calculated from transmission, reflection and absorbance data in the spectral range of 200–1100 nm. It has been found that optical band gap and band tailing parameter decreases with the increase in Ge8Sb2Te11thin films thickness. The dc-activation energy and sheet resistivity decreases while the crystallization temperature of the amorphous Ge8Sb2Te11 films increases with the increase in thickness of the films. The decrease of the sheet resistivity has been substantiated quantitatively using the classical size-effect theory. These results have been explained on the basis of rearrangements of defects and disorders in the amorphous chalcogenide system. 相似文献
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基于溶胶凝胶ZrO2薄膜的紫外/可见/近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了ZrO2薄膜在200—1200nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现,溶胶凝胶ZrO2薄膜具有高折射率(1.63—1.93,测试波长为632.8nm)、低吸收和直接能量带隙(4.97—5.63eV) 等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺
关键词:
光学常数
Swanepoel方法
2薄膜')" href="#">ZrO2薄膜
热处理 相似文献
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Investigation of Zn_(1-x)Cd_xO films bandgap and Zn_(1-x)Cd_xO/ZnO heterojunctions band offset by x-ray photoelectron spectroscopy 下载免费PDF全文
A series of Zn_(1-x)Cd_xO thin films have been fabricated on sapphire by pulsed-laser deposition(PLD), successfully. To investigate the effect of Cd concentration on structural and optical properties of Zn_(1-x)Cd_xO films, x-ray diffraction(XRD),ultraviolet-visible spectroscopy(UV-vis), and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) are employed to characterize the films in detail. The XRD pattern indicates that the Zn_(1-x)Cd_xO thin films have high single-orientation of the c axis. The energy bandgap values of ZnCdO thin films decrease from 3.26 eV to 2.98 eV with the increasing Cd concentration(x)according to the(αhν)~2–hν curve. Furthermore, the band offsets of Zn_(1-x)Cd_xO/ZnO heterojunctions are determinated by XPS, indicating that a type-I alignment takes place at the interface and the value of band offset could be tuned by adjusting the Cd concentration. 相似文献