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有机双稳态分子的设计
作者姓名:王夺元
作者单位:中国科学院感光化学研究所 北京
摘    要:以超大规模集成电路为核心的微电子学已发展得相当成熟,制备10μm大小的集成电路元件已成为常规工艺,提高集成度,缩小元件尺寸的努力仍在向前发展。目前世界上已能生产 1-4 兆集成度的半导体存贮器,加工线宽可达0.8μm,接近亚微米级,不久集成度可达64兆位,加工线宽将达0.1-0.2μm,即达到亚微米级的极限,根据这种发展趋势,有人作出预测,到 2020 年时,集成电路中单个元件的尺寸将小至钠米级(~101-米),即进人分子水平。

关 键 词:双稳态  分子电子器件  光致变色  光异构化  光致质子转移  光致构象变化  光化学蚀孔  光子选通  
收稿时间:1988-04-25
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