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SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构红外光发射的起源
引用本文:沈今楷,吴兴龙,袁仁宽,谭超,邓树胜,鲍希茂. SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构红外光发射的起源[J]. 发光学报, 2001, 22(4): 339-342
作者姓名:沈今楷  吴兴龙  袁仁宽  谭超  邓树胜  鲍希茂
作者单位:南京大学物理系,
基金项目:国家自然科学基金,59832100,59772038,
摘    要:我们借助傅立叶变换红外光谱(FT-IR)以及光致激发谱(PLE),研究SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构红外光发射的起源。谱分析表明,该红外光发射并非起源于纳米锗、硅的量子限制效应以及锗、硅的中性氧空位,而与锗的氧化物紧密相关。PLE的结果证实它们来源于GeO色心TⅡ‘→S0的光学跃迁,给出的GeO电子态模型描述了载流子激发和复合的过程。

关 键 词:光荧光 磁控溅射 红外光发射 GeO色心 SiO2/Ge:SiO2/SiO2夹层结构 二氧化硅 锗 混合物薄膜 氧化锗
文章编号:1000-7032(2001)04-0339-04
修稿时间:2001-01-16

Origin of Infrared Photoluminescence from SiO2/Ge: SiO2/SiO2 Sandwiched Structure
SHEN Jin-kai,WU Xing-long,YUAN Ren-kuan,TAN Chao,DENG Shu-sheng,BAO Xi-mao. Origin of Infrared Photoluminescence from SiO2/Ge: SiO2/SiO2 Sandwiched Structure[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2001, 22(4): 339-342
Authors:SHEN Jin-kai  WU Xing-long  YUAN Ren-kuan  TAN Chao  DENG Shu-sheng  BAO Xi-mao
Abstract:
Keywords:photoluminescence  magnetron sputtering  infrared light emission  GeO color center
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