| 非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究 |
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| 引用本文： | 罗士雨,冯磊,汪洪,林辉,滕浩,黄涛华,周圣明. 非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(5): 1191-1194 |
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| 作者姓名： | 罗士雨 冯磊 汪洪 林辉 滕浩 黄涛华 周圣明 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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| 摘 要： | 用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a-Si)膜和a-Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火.对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析.Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a-Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 非晶硅 多晶硅, |
Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property |
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| LUO Shi-yu,FENG Lei,WANG Hong,LIN Hui,TENG Hao,HUANG Tao-hua,ZHOU Sheng-ming. Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(5): 1191-1194 |
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| Authors: | LUO Shi-yu FENG Lei WANG Hong LIN Hui TENG Hao HUANG Tao-hua ZHOU Sheng-ming |
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