| 三乙醇胺对羟基亚乙基二膦酸镀铜液的影响研究 |
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| 引用本文： | 郑精武,周杰,郑飚,乔梁,姜力强,张诚. 三乙醇胺对羟基亚乙基二膦酸镀铜液的影响研究[J]. 化学学报, 2011, 69(24): 2921-2928. DOI: 10.6023/A1103155 |
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| 作者姓名： | 郑精武 周杰 郑飚 乔梁 姜力强 张诚 |
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| 作者单位： | (1浙江工业大学化学工程与材料学院 杭州 310032)(2浙江金洲管道工业有限公司 湖州 313000) |
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| 摘 要： | ![]()
研究羟基亚乙基二膦酸(HEDPA)镀铜液中三乙醇胺(TEA)对铜还原和氧化过程的影响. 用Hull Cell测试阴极电流密度分布, 通过电位扫描、循环伏安和交流阻抗研究铜沉积的电化学行为, 通过镀液的吸光度测试和固体配合物的红外光谱分析推断配位化合物的形式. 结果表明: TEA的加入能够扩大HEDPA镀铜体系的阴极允许电流密度, 对铜电沉积有阻化作用, 促进铜阳极溶解, 并可抑制氢气的析出|随着溶液中TEA浓度增加, 在玻碳电极上发生的铜还原过程由电化学控制逐渐转变为扩散控制, 可获得结晶细小、表面平整的致密铜镀层. TEA的加入, 主要是在HEDPA镀铜体系中形成CuTEA(OH)2配位化合物, 并吸附在电极表面而影响电化学反应.
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| 关 键 词： | 羟基亚乙基二膦酸(HEDPA) 三乙醇胺(TEA) 电沉积 铜 红外光谱 |
Influence of Triethanolamine on Copper Electrodeposition from 1-Hydroxyethylene-1,1-diphosphonic Acid Electrolyte |
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| ZHENG Jing-Wu,ZHOU Jie,ZHENG Biao,QIAO Liang,JIANG Li-Qiang,ZHANG Cheng. Influence of Triethanolamine on Copper Electrodeposition from 1-Hydroxyethylene-1,1-diphosphonic Acid Electrolyte[J]. Acta Chimica Sinica, 2011, 69(24): 2921-2928. DOI: 10.6023/A1103155 |
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| Authors: | ZHENG Jing-Wu ZHOU Jie ZHENG Biao QIAO Liang JIANG Li-Qiang ZHANG Cheng |
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| Affiliation: | (1 Department of Chemical and Materials Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310032)(2 Zhejiang Kingland Pipeline Industry Co., Ltd, Huzhou 313000) |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | 1-hydroxyethylene-1 1-diphosphonic acid（HEDPA） triethanolamine（TEA） electrodeposition copper IR spectra |
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