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MOCVD生长的InN薄膜中In分凝现象
引用本文:徐峰,陈敦军,张荣,谢自力,刘斌,刘启佳,江若涟,郑有阧. MOCVD生长的InN薄膜中In分凝现象[J]. 发光学报, 2008, 29(5)
作者姓名:徐峰  陈敦军  张荣  谢自力  刘斌  刘启佳  江若涟  郑有阧
作者单位:南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,江苏,南京,210093
基金项目:国家自然科学基金,国家重点基础研究发展规划(973计划)专项,新世纪优秀人才支持计划,江苏省自然科学基金 
摘    要:利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法不同生长条件下在c面蓝宝石衬底上制备了InN薄膜,通过不同的物理表征手段研究了InN薄膜的物理性质,结果表明:合适的生长温度可以抑制InN薄膜表面分凝现象。研究认为较低的生长温度使作为N源的NH3分解率较低,In—N的成键可能性小,导致In在表面聚集出现分凝;而较高生长温度时,InN薄膜中In—N键能较小,易发生断裂,反应活性较强的N和H原子逸离薄膜表面,In滞留在薄膜表面也导致In分凝现象的出现。相对于表面分凝的样品,未出现表面分凝的样品的薄膜晶体质量和表面形貌也得到了提高。同时,通过Raman散射谱研究了晶格振动E2声子模的应力效应。

关 键 词:In分凝  X射线衍射  原子力显微镜  X射线光电子谱  Raman散射

Study on In Segregation in InN Films Grown by Metal-organic Chemical Vapor Deposition
XU Feng,CHEN Dun-jun,ZHANG Rong,XIE Zi-li,LIU Bin,LIU Qi-jia,JIANG Ruo-lian,ZHEN You-liao. Study on In Segregation in InN Films Grown by Metal-organic Chemical Vapor Deposition[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2008, 29(5)
Authors:XU Feng  CHEN Dun-jun  ZHANG Rong  XIE Zi-li  LIU Bin  LIU Qi-jia  JIANG Ruo-lian  ZHEN You-liao
Abstract:
Keywords:In segregation  X-ray diffraction  atomic force microscope  X-ray photoelectron spectroscopy  Raman scattering
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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