透明导电氧化物β-Ga2O3 单晶生长的研究进展 |
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作者姓名: | 张俊刚 夏长泰 吴锋 裴广庆 徐军 |
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作者单位: | 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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基金项目: | 中国科学院“百人计划”资助项目;国家教育部留学回国人员启动资金基金资助项目 |
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摘 要: | 本文对β-Ga2O3单晶体的研究情况进行了综合,主要介绍了β-Ga2O3单晶体的生长方法:Verneuil法、提拉法和浮区法生长技术,并简单介绍了β-Ga2O3单晶体的光学和电学性质及其在GaN衬底方面的应用.β-Ga2O3单晶体的优异性质使其可以成为新一代的透明导电材料.
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关 键 词: | 透明导电材料 β-Ga2O3单晶体 浮区法 衬底 |
文章编号: | 1000-985X(2005)04-0676-06 |
收稿时间: | 2004-12-09 |
修稿时间: | 2004-12-092005-01-17 |
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