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透明导电氧化物β-Ga2O3 单晶生长的研究进展
作者姓名:张俊刚  夏长泰  吴锋  裴广庆  徐军
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
基金项目:中国科学院“百人计划”资助项目;国家教育部留学回国人员启动资金基金资助项目
摘    要:本文对β-Ga2O3单晶体的研究情况进行了综合,主要介绍了β-Ga2O3单晶体的生长方法:Verneuil法、提拉法和浮区法生长技术,并简单介绍了β-Ga2O3单晶体的光学和电学性质及其在GaN衬底方面的应用.β-Ga2O3单晶体的优异性质使其可以成为新一代的透明导电材料.

关 键 词:透明导电材料  β-Ga2O3单晶体  浮区法  衬底
文章编号:1000-985X(2005)04-0676-06
收稿时间:2004-12-09
修稿时间:2004-12-092005-01-17
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