| 磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响 |
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| 引用本文： | 卡马勒&#;托克达尔汗,拜山&#;沙德克.磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响[J].新疆大学学报(理工版),2010(3):335-337. |
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| 作者姓名： | 卡马勒&#;托克达尔汗 拜山&#;沙德克 |
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| 作者单位： | 新疆大学物理科学与技术学院,新疆乌鲁木齐830046 |
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| 摘 要： | 本文主要讲述了SV-TMR结构中以自由层为模拟的多层膜SiO2/NiFe/Ta与SiO2/NiFe/Ru中,不同厚度的保护层钽(Ta)和钌(Ru)对磁性层NiFe的影响.我们采用振动样品磁强计(VSM)和X射线衍射仪(XRD)对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,结果表明:改变保护层厚度时,两种样品的饱和磁化强度不变,随Ru厚度的增加,样品SiO2/NiFe/Ru的矫顽力也增加.同时用XRD测量发现,以Ru为保护层生长的样品比Ta为保护层生长的样品具有更好的织构,更好的结晶性.Ru比Ta更适合做磁电阻多层膜的保护层.
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| 关 键 词： | 磁性薄膜 自由层 保护层 |
The Effect of the Capping Layer with Different Thinkness to the Magnetic Layer NiFe in Magnetic Multilayers |
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