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| 硅芯片多层薄膜折射率的测量 | |
| 引用本文： | 钟仕科,廖乐祥.硅芯片多层薄膜折射率的测量[J].南昌大学学报(理科版),1984,8(3):1. |
| 作者姓名： | 钟仕科 廖乐祥 |
| 作者单位： | 江西大学物理系； 江西大学物理系； |
| 摘 要： | 本文介绍一种测量透明薄膜折射率的“磨角—干涉”法。根据光干涉原理,推导了薄膜折射率的表达式n=1+△N1/△N2。此法可用于测量半导体器件和大规模集成电路芯片中的单层或多层膜的折射率。 |
| 关 键 词： | 多层薄膜 折射率 干涉条纹 光干涉原理 介质膜 透明薄膜 透明膜 表达式 二氧化硅 多层膜 |
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