NO在Cu(111)表面吸附和分解的XPS和TPD研究:不同氧物种的影响 |
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引用本文: | 陈博昊,马运生,丁良兵,许令顺,邬宗芳,袁青,黄伟新.NO在Cu(111)表面吸附和分解的XPS和TPD研究:不同氧物种的影响[J].催化学报,2013,34(5):964-972. |
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作者姓名: | 陈博昊 马运生 丁良兵 许令顺 邬宗芳 袁青 黄伟新 |
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作者单位: | a 中国科学技术大学化学物理系, 安徽 合肥 230026;
b 中国科学院能量转换材料重点实验室, 安徽 合肥 230026;
c 中国科学技术大学微尺度物质科学国家实验室(筹), 安徽 合肥 230026 |
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基金项目: | supported by the National Natural Science Foundation of China(21073172);the National Basic Research Program of China(973 Program,2013CB933104,2013CB933102,2010CB923301);the Fundamental Research Funds for the Central Universities~~ |
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摘 要: | 利用X射线光电子能谱和程序升温脱附谱研究了NO在清洁和预吸附氧的Cu(111)表面上的吸附和反应.通过改变NO的暴露量和退火温度,在Cu(111)表面可以制备出不同种类的化学吸附氧物种,其O 1s的结合能分别位于531.0 eV (O531)和529.7 eV (O529).表面O531物种的存在对NO的不同吸附状态有着显著影响,同时使得大部分NO吸附分子(NO(a))在加热过程中发生分解并以N2O和N2形式脱附; 而表面O529物种对NO(a)的解离脱附有着明显的抑制作用.相对于O531物种来说,O529物种对NO吸附表现出更强的位阻效应.上述结果表明,NO在Cu(111) 表面的吸附和分解行为与预吸附氧物种的种类和覆盖度密切相关.
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关 键 词: | 一氧化氮 Cu(111)表面 氧物种 吸附 X射线光电子能谱 程序升温脱附谱 |
收稿时间: | 2013-01-05 |
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