| 镍表面上CO和H2的吸附脱附速度 |
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| 引用本文： | 山田太郎,翟润生,岩泽康裕,田丸谦二.镍表面上CO和H2的吸附脱附速度[J].催化学报,1986,7(2):133-139. |
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| 作者姓名： | 山田太郎 翟润生 岩泽康裕 田丸谦二 |
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| 作者单位： | 日本东京大学物性研究所
(山田太郎)，中国科学院大连物理研究所
(翟润生)，日本东京大学理学部化学科
(岩泽康裕)，日本东京理科大学理学部(田丸谦二) |
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| 摘 要： | 利用同位素跳跃技术和闪脱技术测得了CO和H_2在多晶Ni箔上的净吸附和净脱附速度。发现在Ni箔上吸附CO时,存在吸附促进吸附现象。但当吸附H_2时,则不发生此现象。表面上吸附的CO(a)的脱附被气相H_2(g)稍微加速(V_-~(co)(N_(co),P_(H_2))>0),H_2的吸附减少了CO(a)吸附量。气相中CO(g)也促进了表面上H(a)的脱附(V~H-(N_H,P_(co))>0),但表面上的CO(a)并不促进H(a)的脱附(V_H-(N_H,N_(co)≈0),这可能由于吸附时CO(g)和H(a)发生了相互作用。
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| 收稿时间： | 1986-06-25 |
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