| 铜表面烯丙基硫脲自组装膜的电化学行为 |
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| 引用本文： | 高洪峰,康万利,孟令伟,王轶男.铜表面烯丙基硫脲自组装膜的电化学行为[J].分子科学学报,2011,27(2):75-79. |
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| 作者姓名： | 高洪峰 康万利 孟令伟 王轶男 |
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| 作者单位： | 1. 东北石油大学石油工程学院,黑龙江,大庆,163318
2. 中国石油大学(华东)石油工程学院,山东,青岛,266555 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，教育部博士点基金资助项目，山东省自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 为阐明金属Cu在含稀丙基硫脲NaCl溶液中的腐蚀行为和规律,利用自组装技术在铜表面制备了烯丙基硫脲自组装膜,并在中性氯化钠体系中测试了该自组装膜的电化学行为和缓蚀效率.电化学测定表明,烯丙基硫脲自组装膜对阴极过程有明显的抑制,并且发现自组装膜的保护性质与腐蚀电位、烯丙基硫脲的浓度和溶液中Cl-浓度密切相关.烯丙基硫脲的...
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| 关 键 词： | 自组装膜 烯丙基硫脲 铜 缓蚀作用 电化学氧化 |
Electrochemical evaluation of allyl thiourea layers on copper surface |
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| GAO Hong-feng,KANG Wan-li,MENG Ling-wei,WANG Yi-nan.Electrochemical evaluation of allyl thiourea layers on copper surface[J].Journal of Molecular Science,2011,27(2):75-79. |
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| Authors: | GAO Hong-feng KANG Wan-li MENG Ling-wei WANG Yi-nan |
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| Institution: | 1.Petroleum Engineering Institute,Daqing Petroleum Institute,Daqing 163318,China; 2.Petroleum Engineering Institute,China University of Petroleum,Qingdao 266555,China) |
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