| SIFSIX-3-Ni膜的制备及氢气分离性质 |
| |
| 引用本文： | 穆鑫,姜双双,张舒皓,任浩,孙福兴.SIFSIX-3-Ni膜的制备及氢气分离性质[J].高等学校化学学报,2019,40(9):1818. |
| |
| 作者姓名： | 穆鑫 姜双双 张舒皓 任浩 孙福兴 |
| |
| 作者单位： | 吉林大学化学学院, 无机合成与制备化学国家重点实验室, 长春 130012 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(批准号: )资助(21871105, 21531003);国家自然科学基金(21871105, 21531003) |
| |
| 摘 要： | 利用(NH4)2SiF6修饰大孔玻璃基底后, 在溶剂热条件下制备了SIFSIX-3-Ni膜, 并研究了温度和浓度对制备SIFSIX-3-Ni膜的影响. 能谱分析(XPS)结果表明大孔玻璃表面引入了氟元素. SIFSIX-3-Ni膜的粉末X射线衍射(PXRD)峰位置和模拟结果一致, 表明成功制备出SIFSIX-3-Ni膜. 从扫描电子显微镜(SEM)照片中观察到膜连续均匀, 厚度约为20 μm. 热重分析(TGA)结果表明, 活化前的膜没有客体分子. 单组分测试结果表明, 膜的H2, CO2和N2渗透量分别为6.83×10 -6, 7.42×10 -7和8.89×10 -7 mol·m -2·s -1·Pa -1, H2/CO2和H2/N2的理想分离比分别为9.20和7.68. 在连续测试5 h后, H2, CO2和N2渗透量基本保持不变, 表明SIFSIX-3-Ni膜具有很好的稳定性.
|
| 关 键 词： | SIFSIX-3-Ni多晶膜 原位生长法 氢气分离 |
| 收稿时间： | 2019-01-29 |
|
| 点击此处可从《高等学校化学学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《高等学校化学学报》下载免费的PDF全文 |
|
