| 常规二脉冲叠加四阶跃微分伏安法研究─准可逆电极过程的理论和验证 |
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| 引用本文： | 方禹之,刘新宇,仝威,金利通.常规二脉冲叠加四阶跃微分伏安法研究─准可逆电极过程的理论和验证[J].高等学校化学学报,1994,15(6):813. |
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| 作者姓名： | 方禹之 刘新宇 仝威 金利通 |
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| 作者单位： | 1. 华东师范大学化学系, 上海, 200062;
2. 中国科学院长春应用化学研究所电分析开放实验室 |
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| 基金项目： | 中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放实验室资助 |
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| 摘 要： | 推导并验证了新型阶跃伏安技术─常规二脉冲叠加四阶跃微分伏安法准可逆电极过程的理论电流方程式,同时研究了各项参数如扫描增量(Es)、脉冲高度(△E)、传递系数(α)对峰电流函数(ψp)、峰电流(ip)、峰电位(Ep)和半峰宽(W1/2)的影响。运用理论ψp-lgks图和单纯形优化计算测量了及Zn(Ⅱ)/Zn(Hg)-NaNO3体系的Ks及α值,结果与文献值一致。
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| 关 键 词： | 伏安法 脉冲 准可逆电极过程 电流理论 |
| 收稿时间： | 1993-06-21 |
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