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| 在小硅化物SiX^m4（X=H,He,Li,Be,O,F,Ne,Na,Mg,S,Cl,Ar;m=0,… | |
| 引用本文： | 赵永芳,于文.在小硅化物SiX^m4（X=H,He,Li,Be,O,F,Ne,Na,Mg,S,Cl,Ar;m=0,…[J].高等学校化学学报,1994,15(6):907-911. |
| 作者姓名： | 赵永芳 于文 |
| 摘 要： | 用从头算方法，在ＨＦ／ＳＴＯ－３Ｇ、ＨＦ／３－２１Ｇ和ＨＦ／６－３１Ｇ水平上研究了小硅化物ＳｉＸ＾ｍ４的成键倾向性。计算结果表明，所研究的分子势能曲线均有稳定的极小值（ＳｉＬｉ４除外）。与已知的稳定分子ＳｉＨ１、ＳｉＦ４和ＳｉＣｌ４比较，含惰性元素的未知分子ＳｉＨｅ＾４＋４、ＳｉＮｅ＾４＋４和ＳｉＡｒ＾４＋４比含碱金属和碱土金属的未知分子ＳｉＬＩ４、ＳｉＮａ４、ＳｉＢｅ＾４＋４和ＳｉＭｇ＾４＋４有 |
| 关 键 词： | 硅化物 分子轨道 分子成键倾向 |
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