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凹槽状PDMS基底上水滴的挥发及Cassie-Wenzel转变行为
引用本文:曾蒙蒙,朱豫,由吉春,李勇进.凹槽状PDMS基底上水滴的挥发及Cassie-Wenzel转变行为[J].高等学校化学学报,2015(7).
作者姓名:曾蒙蒙  朱豫  由吉春  李勇进
作者单位:杭州师范大学材料与化学化工学院,杭州,310036
基金项目:国家自然科学基金(批准号:21104013)资助.@@@@? Supported by the National Natural Science Foundation of China
摘    要:通过在线跟踪水滴在凹槽状聚二甲基硅氧烷(PDMS)基底上的挥发行为,研究了蒸馏水的挥发规律Cassie-Wenzel转变行为.结果表明,初始阶段,水滴处于Cassie状态,且在垂直于凹槽方向(V)和平行于凹槽方向(P)上存在显著的各向异性.水滴的挥发过程依次表现出接触直径不变模式、接触角不变模式及共同减小模式,与平滑基底上水滴的挥发规律类似.在挥发过程中,发生了Cassie-Wenzel转变,转变发生的时间与PDMS基底上突起部分的面积分数(即固相率)呈现良好的线性关系.随着挥发的进行,水滴的各向异性在接触角不变模式阶段消失,即挥发导致水滴从开始的椭球缺状变为球缺状.

关 键 词:Wenzel状态  Cassie状态  转变  挥发  聚二甲基硅氧烷基底  水滴

Evaporation of Sessile Droplet on Grooved PDMS Substrate and Resultant Cassie-Wenzel Transition?
ZENG Mengmeng,ZHU Yu,YOU Jichun,LI Yongjin.Evaporation of Sessile Droplet on Grooved PDMS Substrate and Resultant Cassie-Wenzel Transition?[J].Chemical Research In Chinese Universities,2015(7).
Authors:ZENG Mengmeng  ZHU Yu  YOU Jichun  LI Yongjin
Abstract:
Keywords:Wenzel state  Cassie state  Evaporation  Transition  Polydimethylsiloxane substrate  Sessile droplet( water)
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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