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| 纳米钛薄膜的XPS研究 | |
| 引用本文： | 龙兴贵,罗顺忠,杨本福,彭述明,赵鹏骥.纳米钛薄膜的XPS研究[J].化学通报,2000(7). |
| 作者姓名： | 龙兴贵 罗顺忠 杨本福 彭述明 赵鹏骥 |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所!四川绵阳621900(龙兴贵，罗顺忠，杨本福，彭述明)，中国工程物理研究院核物理与化学研究所!四川绵阳62(赵鹏骥) |
| 摘 要： | 用 XPS分析了三种纳米钛薄膜表面和经 Ar 溅射后内部碳、氧、氮、钛等的含量和化学态。发现三种薄膜表面碳、氧含量完全一致 ,碳为石墨态 ,氧为吸附态的水。薄膜内部碳、氧、氮的化学态主要为 Ti C、Ti O2 、Ti N。随着分析深度的增加 ,薄膜内金属钛的原子百分比浓度不断增加并逐渐趋于恒定。镀膜时真空度的提高有利于减少碳、氧、氮的污染。Ar 溅射所镀的膜与电子枪所镀的膜相比 ,晶粒尺寸小 ,在表面至浅表层内氧的含量有明显差异。 |
| 关 键 词： | 纳米钛膜 X射线光电子能谱 化学态 |
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