| 钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响 |
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| 引用本文： | 于书平,古国榜,李新军.钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响[J].化学通报,2004,67(11):835-840. |
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| 作者姓名： | 于书平 古国榜 李新军 |
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| 作者单位： | 于书平（华南理工大学应用化学系,广州,510640;北京化工大学理学院化学系,北京,100013）;古国榜（华南理工大学应用化学系,广州,510640）;李新军（中国科学院广州能源研究所,广州,510070） |
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| 基金项目： | 广东省自然科学基金资助项目(010873) |
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| 摘 要： | 采用溶胶凝胶工艺在普通玻璃表面制备了钒离子非均匀掺杂的TiO2薄膜,运用XRD研究了其光催化复合薄膜的表面特征.以光催化降解甲基橙溶液为模型反应,表征薄膜的光催化活性,结果表明,将钒离子富集在TiO2薄膜内部时,最佳掺杂浓度为1.0%(V/Ti原子百分比),最佳降解表观速率常数为7.44×10-3min-1,约是纯TiO2的2.3倍,有效地提高了TiO2半导体的光催化效率.通过XPS与电化学方法进行分析,说明将钒离子富集在TiO2薄膜内部十分有利于电子-空穴的分离,增强了光生电子与空穴的分离效率.
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| 关 键 词： | 钒离子掺杂 二氧化钛薄膜 光催化活性 溶胶-凝胶法 半导体 |
The Effects of Vanadium Impurities on the Photo-catalytic Activity of TiO2 Thin Films |
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| Yu Shuping{,},Gu Guobang{},Li Xinjun.The Effects of Vanadium Impurities on the Photo-catalytic Activity of TiO2 Thin Films[J].Chemistry,2004,67(11):835-840. |
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| Authors: | Yu Shuping{ } Gu Guobang{} Li Xinjun |
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| Institution: | Yu Shuping+{1,2},Gu Guobang+{1*},Li Xinjun+3 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Doped TiO-2 composite film Photo-catalytic activity |
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