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CO、H_2及HO_2在Co/SiO_2催化剂上吸附的原位红外光谱
引用本文:李光兴,李金林,F.P.Larkins,M.J.Ridd.CO、H_2及HO_2在Co/SiO_2催化剂上吸附的原位红外光谱[J].分子催化,1991(3).
作者姓名:李光兴  李金林  F.P.Larkins  M.J.Ridd
作者单位:湖北省化学研究所,湖北省化学研究所,澳大利亚塔斯马尼亚大学化学系,澳大利亚塔斯马尼亚大学化学系 武汉 430074,武汉 430074
摘    要:用原位IR研究了CO在Co/SiO_2催化剂上的吸附,并考察了吸附的CO与H_2、H_2O的相互作用。CO在Co/SiO_2上的吸附显示出四种不同的吸收峰。2002、2027cm~(-1)归属于端基CO吸附;2120cm~(-1)归属于CO在钴离于上的吸附;1870cm~(-1)为CO的桥式吸附;1720cm~(-1)则为多中心吸附。当温度高于370K时,吸附的CO会完全脱附。H_2与吸附的CO相互作用可削弱CO吸收峰的强度,并逐步在低波数(1980cm~(-1))处产生一个小肩。水与吸附的CO相互作用产生一种甲酸基物种(1585、1390cm~(-1))。该物种被认为是Kòlbel-Engelhardt反应的中间体。

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