高锰酸钾—抗坏血酸化学发光体系测定抗坏血酸 |
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引用本文: | 朱昌青,王伦.高锰酸钾—抗坏血酸化学发光体系测定抗坏血酸[J].分析试验室,1996,15(1):49-51. |
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作者姓名: | 朱昌青 王伦 |
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摘 要: | 本文研究了高锰酸钾-抗坏血酸化学发光体系,建立了测定抗坏血酸的化学发光分析新方法,线性响应的浓度范围为5.0×10^-7mol/L~4.0×10^-5mol/L,检出限为3.0×10^-7mol/L,对2.5×10^-6mol/L抗坏血酸进行10次平行测定,相对标准偏差为1.6%,考察了22种物质的干扰情况。用于维生素C片剂及注射液中抗坏血酸含量测定,结果令人满意。
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关 键 词: | 化学发光 高锰酸钾 维生素C |
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