基质匹配顶空-气相色谱法测定纺织品中DMF,DMAC与NMP |
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引用本文: | 马明,周宇艳,赵洁,刘敏华.基质匹配顶空-气相色谱法测定纺织品中DMF,DMAC与NMP[J].分析试验室,2015(3):336-339. |
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作者姓名: | 马明 周宇艳 赵洁 刘敏华 |
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作者单位: | 上海出入境检验检疫局工业品与原材料检测技术中心 |
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摘 要: | 建立了基质匹配顶空-气相色谱法同时测定纺织品中N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)与N-甲基吡咯烷酮(NMP)残留。剪碎样品后,在190℃下加热30 min,使3种溶剂在气固两相间达到平衡,取顶空气体进气相色谱以氮磷检测器检测。以基体匹配校正法消除基质效应,以保留时间定性,外标法定量。DMF,DMAC,NMP在0.4~500.0μg范围内线性关系良好;3种物质的平均回收率为89.6%~96.1%;RSD(n=6)为1.6%~3.1%;DM F,DM AC与NM P方法检出限均为0.5μg/g。
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关 键 词: | 基质匹配 顶空-气相色谱法 纺织品 DMF DMAC NMP |
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