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HG-ICP-MS法测定纯镍中痕量As、Sb、Bi、Se、Te、Sn
引用本文:潘元海,刘刚,刘湘生.HG-ICP-MS法测定纯镍中痕量As、Sb、Bi、Se、Te、Sn[J].分析试验室,2003,22(3):19-22.
作者姓名:潘元海  刘刚  刘湘生
作者单位:北京有色金属研究总院,北京,100088
摘    要:应用本实验室设计的雾室座作为接口,采用气动型流动注射氢化物发生(HG)装置与电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)联机。考察了各种介质条件及镍基体对生成氢化物的影响并应用氢氧化镧共沉淀分离富集,HG与ICP-MS联机测定纯镍中易于生成氢化物的As、Sb、Bi、Se、Te、Sn 6个元素,加标回收率为96.5%-102.2%,RSD为2.4%-5.8%,方法检出限为7.1-30ng/L。

关 键 词:纯镍  氢化物  共沉淀法  电感耦合等离子体质谱  测定  HG-ICP-MS法  痕量分析          
文章编号:1000-0720(2003)03-0019-04

Study on determination of As, Sb, Bi, Se, Te, Sn in pure nickel by hydride generation inductively coupled plasma Mass spectrometry
PAN Yuan-hai,LIU Gang and LIU Xiang-sheng.Study on determination of As, Sb, Bi, Se, Te, Sn in pure nickel by hydride generation inductively coupled plasma Mass spectrometry[J].Chinese Journal of Analysis Laboratory,2003,22(3):19-22.
Authors:PAN Yuan-hai  LIU Gang and LIU Xiang-sheng
Abstract:
Keywords:Pure nickel  Hydride generation  Co-precipitation  Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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