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| 流动注射-氢化物发生-等离子体原子发射光谱法同时测定电解铜中痕量砷、锑、铋的研究 | |
| 引用本文： | 喻昕,陈建国,王松青,廖振环,江祖成.流动注射-氢化物发生-等离子体原子发射光谱法同时测定电解铜中痕量砷、锑、铋的研究[J].分析试验室,1998(1). |
| 作者姓名： | 喻昕 陈建国 王松青 廖振环 江祖成 |
| 作者单位： | 武汉大学化学系，宁波进出口商品检验局 |
| 摘 要： | 介绍了流动注射（ＦＩ）－氢化物发生（ＨＧ）与等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）联用技术以及应用于电解铜中痕量砷、锑、铋测定的研究，本法的ＲＳＤ对砷、锑、铋分别为２．３、１．８、２．８％（ｎ＝１１），方法的检出限分别为０．３、０．３、１．１５μｇ／ｇ。 |
| 关 键 词： | 氢化物发生 砷、锑、铋的测定 流动注射 ICP－AES |
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